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기판 틸팅을 이용한 금형의 제작 방법

  • 기술번호 : KST2014023439
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기판 틸팅을 이용한 금형의 제작 방법에 대한 것으로, 특히 패턴이 형성된 기판 위에 시드(seed)층으로 금속박막층을 형성함에 있어서, 상기 기판을 틸팅(tilting)하면서 금속박막층을 증착하는 단계;를 포함하는 것이 특징이다. 이러한 본 발명은 금속박막층 형성을 위한 증착물질을 기판 위에서 뿌려 줄때, 상기 기판을 회전시키면, 상기 기판 위에 형성된 미세한 패턴 사이에 증착물질이 빈틈없이 흡착되어, 패턴의 필링 레이트(filling rate)를 향상시킬 수 있는 효과가 있다. 나노(Nano), 금형(Stamp), 니켈 금형(Nikel Stamp)
Int. CL H01L 21/40 (2006.01) H01L 21/205 (2006.01) H01L 21/027 (2006.01) C23C 14/58 (2006.01)
CPC G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01)
출원번호/일자 1020090078622 (2009.08.25)
출원인 호서대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1099253-0000 (2011.12.20)
공개번호/일자 10-2011-0021051 (2011.03.04) 문서열기
공고번호/일자 (20111227) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.08.25)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 호서대학교 산학협력단 대한민국 충청남도 아산시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강성구 대한민국 서울특별시 송파구
2 김종수 대한민국 대전광역시 서구
3 위해성 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정종옥 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)
2 조현동 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 (도곡동, 덕영빌딩)(노벨국제특허법률사무소)
3 진천웅 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층 노벨국제특허법률사무소 (도곡동, 덕영빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 호서대학교 산학협력단 대한민국 충청남도 아산시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.08.25 수리 (Accepted) 1-1-2009-0519623-76
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.01.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.02.22 수리 (Accepted) 9-1-2011-0017218-69
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.02.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0115193-75
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.04.22 수리 (Accepted) 1-1-2011-0303070-21
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.04.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0303071-77
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.07.13 수리 (Accepted) 4-1-2011-5143226-24
8 등록결정서
Decision to grant
2011.10.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0635245-14
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2019-0045360-16
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번호 청구항
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패턴이 형성된 기판을 준비하는 단계; 상기 기판을 틸팅(tilting)하면서 금속박막층을 증착하는 단계; 상기 금속박막층이 증착된 기판에 금속도금층을 도금하는 단계; 및 상기 금속박막층과 함께 금속도금층을 기판에서 분리하는 단계;를 포함하고, 상기 기판에 형성된 패턴은 50nm 이하의 사이 간격을 가지며, 상기 기판을 틸팅하는 것은, 상기 기판 상의 수직방향축을 중심으로 회전하는 자축회전과, 상기 기판 밖의 수직방향축을 중심으로 회전하는 공전회전에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅을 이용한 금형의 제작 방법
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패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육부,산자부,기업체 호서대학교산학협력단 충남산학협력중심대학육성사업 차세대 디스플레이용 패터닝을 위한 나노급 금형 제작 기술 개발