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기재;와상기 기재의 상부에 투명 도전층; 및상기 투명 도전층의 상부에 난반사층을 포함하되, 상기 난반사층은 도전성 재료입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 대전방지난반사 필름
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제 1 항에 있어서,상기 투명 도전층은 안티모니주석산화물산화아연, 산화주석, 주석함유 산화인듐입자(ITO), 주석함유 산화안티몬입자(ATO), 산화인듐, 산화아연알루미늄, 오산화안티몬, 안티몬산아연, 폴리에틸렌디옥시티오펜, 폴리아닐린, 및 폴리피롤으로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나 이상의 도전성 물질을 포함하는 대전방지난반사 필름
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제 1 항에 있어서,상기 도전성 재료입자는 음이온성 화합물이 포함된 도판트 입자와 도전성 고분자를 복합화하여 제조되는 것을 특징으로 하는 대전방지난반사 필름
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제 3항에 있어서,상기 도전성 고분자가 폴리(3,4―에틸렌디옥시티오펜)이고, 상기 도판트가 폴리스티렌술폰산인 것을 특징으로 하는 대전방지난반사 필름
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제 1 항에 있어서,상기 난반사층은 비도전성 입자를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 대전방지난반사 필름
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제 5 항에 있어서,상기 비도전성 입자는 실리카, 지르코니아, 티타니아, 산화칼슘 등의 금속산화물이나 도전성을 갖는 알루미나, 산화주석, 산화인듐, 산화카드뮴, 산화안티몬 등의 무기계 도전성 미립자, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리우레탄, 아크릴-스티렌공중합체, 벤조구아나민, 멜라민, 폴리카보네이트 등의 각종 폴리머로 이루어지는 가교 또는 미가교의 유기계 미립자나 실리콘계 미립자 중 선택된 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 대전방지난반사 필름
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기재상에 투명 도전층을 형성하는 단계;상기 투명 도전층상에 난반사층을 형성하는 단계;를 포함하되,상기 난반사층을 형성하는 단계는 도판트를 제조하는 단계 a);와상기에서 제조된 도판트에 도전성 고분자를 중합하여 도전성 재료입자를 제조하는 단계 b); 및 상기에서 중합된 고분자를 바인더수지를 이용하여 투명 도전층상에 코팅하는 단계 c)를 포함하는 대전방지난반사 필름의 제조방법
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제 7항에 있어서,상기 단계 b)는 도판트에 도전성 고분자와 산화제를 중합하여 도전성 재료입자를 제조하되, 상기 산화제는 퍼옥소이황산암모늄, 퍼옥소이황산나트륨, 퍼옥소이황산칼륨 등의 퍼옥소이황산염; 염화제2철, 황산제2철, 질산제2철, 3염화철(FeCl3), 황산철(III), 토실산철(III), 캠포술폰산철(III), 세륨(IV) 염, 과망간산칼륨, 황산철오수화물(Fe₂(SO4)3·5H2O), 싸이오황산칼륨(K₂S₂O₃), 과황산암모늄, 중크롬산칼륨 및 구리(II) 염으로 된 군 중에서 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 대전방지난반사 필름의 제조방법
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