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플라즈마 용융로(1) 상에 설치되며, 플라즈마 토치(2)를 지지하는 지지부(20); 및 상기 지지부(20)에 장착되며, 상기 플라즈마 토치(2)의 몸체(2a)가 상기 플라즈마 용융로(1)의 상부홀(1a)에 입출되도록 상기 플라즈마 토치(2)를 승강시키는 승강부(40);를 포함하며,
상기 플라즈마 토치(2)가 상기 플라즈마 용융로(1)의 상부홀(1a)에서 센터링되도록, 상기 플라즈마 용융로(1)의 상부홀(1a)에 설치되어 상기 플라즈마 토치(2)를 위치조절하는 위치조절부(80);
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 토치 높낮이 조절장치
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제1항에 있어서,
상기 지지부(20)는,
상기 플라즈마 용융로(1)의 상면에 고정된 지지플레이트(22); 및
상기 지지플레이트(22)에 상측으로 경사지도록 설치되며, 상기 승강부(40)가 설치된 지지대(24);
를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 토치 높낮이 조절장치
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제2항에 있어서,
상기 승강부(40)는,
하단부가 상기 지지플레이트(22)에 설치되고 상단부가 상기 지지대(24)의 상부에 설치되어, 상기 지지대(24)의 경사와 대응되도록 상기 지지대(24)의 길이방향을 따라, 상기 지지대(24) 상측에 이격되어 배치된 이송 스크류(42);
상기 지지대(24)의 상부에 장착되어 상기 이송 스크류(42)를 회전시키는 모터(44); 및
일측부에 상기 플라즈마 토치(2)가 고정되며, 내부의 나사홀에 상기 이송 스크류(42)가 끼워져서 상기 이송 스크류(42)의 회전에 의해 상기 이송 스크류(42)를 따라 이동하는 고정부재(48);
를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 토치 높낮이 조절장치
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제3항에 있어서,
상기 모터(44)는 콘트롤 박스(60)를 통해 회전이 제어되도록, 상기 콘트롤 박스(60)에 전기적으로 연계된 것을 특징으로 하는 플라즈마 토치 높낮이 조절장치
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제4항에 있어서,
상기 플라즈마 토치(2)의 상하이동을 제한하도록, 상기 콘트롤 박스(60)에 전기적으로 연계되면서 상기 지지대(24)의 상하측에 각각 설치된 리미트 스위치;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 토치 높낮이 조절장치
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제3항에 있어서,
상기 고정부재(48)가 체결되어 상기 고정부재(48)의 이동을 가이드하도록, 상기 지지대(24)의 상면에는 상기 지지대(24)의 길이방향으로 LM 가이드(25)가 장착된 것을 특징으로 하는 플라즈마 토치 높낮이 조절장치
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삭제
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제1항에 있어서,
상기 위치조절부(80)는,
중앙에 출입홀(82a)이 형성되며, 상기 플라즈마 용융로(1)의 상부홀(1a) 테두리에 상기 출입홀(82a)이 상기 상부홀(1a)과 겹치도록 설치된 플랜지(82); 및
상기 플랜지(82)에 설치되어 상기 플라즈마 토치(2)를 상기 상부홀(1a)의 중심에 위치시키도록, 상기 상부홀(1a)의 중심에 대한 사이의 각이 120도 간격으로 배치된 세 개의 센터조절용 어셈블리(84);를 포함하며,
상기 센터조절용 어셈블리(84)는,
상기 플랜지(82)에 상기 출입홀(82a)의 중심방향 및 방사방향으로 이동가능하도록 설치된 이동판(86); 상기 이동판(86)에 설치되어 승강되는 상기 플라즈마 토치(2) 몸체(2a)의 측면을 가이드 지지하는 가이드 롤러(84a); 상기 출입홀(82a)의 방사방향으로 상기 이동판(86)으로부터 이격되어 상기 플랜지(82)에 고정된 고정판(87)에 설치되어, 상기 이동판(86)을 상기 출입홀(82a)의 중심방향으로 미는 푸시볼트(84b); 및 상기 고정판(87)에 설치되어 상기 출입홀(82a)의 방사방향으로 당기는 풀볼트(84c);를 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 토치 높낮이 조절장치
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