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초상자성 산화철 나노입자 탑재 고분자 미세구의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2014026482
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 초상자성 산화철 나노입자(Superparamagnetic iron oxide nanoparticles, SPIOs)를 고효율로 탑재한 생체적합성 고분자 미세구 및 이의 제조방법을 제공하며, 더욱 구체적으로는 초상자성 산화철 나노입자에 대해 95% 이상의 탑재 효율을 가지고, 초상자성 산화철 나노입자의 오랜 미세구 내 머무름 시간을 가지며, 구형의, 우수한 균일성을 가진 생체적합 고분자를 포함하는 미세구를 제조하는 방법을 제공한다.초상자성 산화철 나노입자, 미세구, 고분자
Int. CL B01J 13/08 (2006.01.01) A61K 49/06 (2006.01.01) B82Y 5/00 (2017.01.01)
CPC B01J 13/08(2013.01) B01J 13/08(2013.01) B01J 13/08(2013.01)
출원번호/일자 1020090092712 (2009.09.29)
출원인 중앙대학교 산학협력단, 서울대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1125232-0000 (2012.03.02)
공개번호/일자 10-2011-0035134 (2011.04.06) 문서열기
공고번호/일자 (20120321) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.09.29)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 중앙대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 동작구
2 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이재휘 대한민국 서울특별시 동작구
2 곽병국 대한민국 서울특별시 동작구
3 강명주 대한민국 부산광역시 사하구
4 박정민 대한민국 경상남도 김해시 분성

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다나 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *길 **, 신관 *층~*층, **층(역삼동, 광성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 중앙대학교 산학협력단 서울특별시 동작구
2 서울대학교산학협력단 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.09.29 수리 (Accepted) 1-1-2009-0600545-92
2 보정요구서
Request for Amendment
2009.10.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2009-0075800-52
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2009.10.21 수리 (Accepted) 1-1-2009-0645328-89
4 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2009.10.21 수리 (Accepted) 1-1-2009-0645782-94
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.04.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.05.19 수리 (Accepted) 9-1-2010-0032343-20
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.06.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0326161-18
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.07.20 수리 (Accepted) 4-1-2011-5148883-62
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.07.20 수리 (Accepted) 4-1-2011-5148879-89
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.08.16 수리 (Accepted) 1-1-2011-0628532-02
11 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.09.15 수리 (Accepted) 1-1-2011-0716145-22
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.09.27 수리 (Accepted) 4-1-2011-5195109-43
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.10.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0804204-15
14 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.10.14 수리 (Accepted) 1-1-2011-0804203-70
15 등록결정서
Decision to grant
2012.02.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0062306-51
16 출원인정보변경(경정)신고서
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2013.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-5007213-54
17 출원인정보변경(경정)신고서
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2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000494-54
18 출원인정보변경(경정)신고서
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2014.10.20 수리 (Accepted) 4-1-2014-5123944-33
19 출원인정보변경(경정)신고서
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2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
20 출원인정보변경(경정)신고서
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2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.04 수리 (Accepted) 4-1-2018-5125629-51
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
24 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.29 수리 (Accepted) 4-1-2019-5151122-15
25 출원인정보변경(경정)신고서
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2019.08.01 수리 (Accepted) 4-1-2019-5153932-16
26 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 0
2 2
제1항에 있어서초상자성 산화철 나노입자의 탑재효율이 90% 이상인 것을 특징으로 하는 미세구의 제조방법
3 3
제1항에 있어서초상자성 산화철 나노입자가 미세구 중에 4주 이상 체류하는 것을 특징으로 하는 미세구의 제조방법
4 4
제1항에 있어서생체적합성 고분자 용액이 키토산, 키틴(chitin), 콜라겐(collagen), 알부민(albumin), 아미노산(poly(amino acid)), 셀룰로오스(cellulose), 아가로스(agarose), 알지네이트(alginate), 헤파린, 히아루론산(hyarulonic acid), 카르복시메틸 셀룰로오스(Carboxymethyl cellulose), 셀룰로오스 설페이트(Cellulose sulphate), 카라지난(Carrageenan), 폴리(락트산)(Poly(lactic acid)), 폴리(글리콜산)(poly(glycolic acid)), 폴리(히드록시 부티레이트)(Poly(hydroxy butyrate)), 폴리(e-카프로락톤)(poly(e-caprolactone)), 폴리(알킬렌 석시네이트)(poly(alkylene succinates)), 폴리아마이드(Polyamides), 폴리(오르쏘 에스테르)(Poly(ortho esters)), 폴리(시아노 아크릴레이트)(Poly(cyano acrylates)), 폴리포스파진(Polyphosphazenes), 폴리에틸렌(Polyethylene), 폴리(비닐 알코올)(Poly(vinyl alcohol)), 폴리(에틸렌 옥사이드)(Poly(ethylene oxide)), 폴리(히드록시에틸 메타크릴레이트(Poly(hydroxyethyl methacrylate)), 폴리(메틸 메타크릴레이트)(Poly(methyl methacrylate)), 폴리(테트라플루오로에틸렌(Poly(tetrafluoroethylene)), 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxanes), 폴리(에틸렌 옥사이드-b-프로필렌 옥사이드(Poly(ethylene oxide-b-propylene oxide)), 폴리(비닐 메틸 에테르)(Poly(vinyl methyl ether)) 및 폴리(N-알킬아크릴아마이드)(Poly(N-alkylacrylamides))로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 생체적합성 고분자를 용매와 혼합하여 제조되는 것을 특징으로 하는 미세구의 제조방법
5 5
제1항에 있어서생체적합성 고분자 용액의 점도가 2 내지 100 cps인 것을 특징으로 하는 미세구의 제조방법
6 6
삭제
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
제1항에 있어서제조된 미세구 직경이 5 내지 1000㎛인 것을 특징으로 하는 미세구의 제조방법
10 10
제1항에 있어서단계 (b) 이후,(c) 형성된 미세구를 가교제로 가교하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 미세구의 제조방법
11 11
제10항에 있어서가교제가 포름알데히드, 글루타르알데히드, 디알데히드 전분, 에폭시 화합물, 게니핀, 글루타르알데히드 글리옥살, 덱스트린 알데히드 글리옥살, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필카보이미드, 디사이클로헥실카보이미드, 1-에틸-3-(2-몰포리닐-4-에틸)카보이미드, 디이소시아네이트, 트리폴리포스페이트 나트륨염, 디아세트알데히드 폴리에틸렌 글리콜(PEG), 스클레르알데히드(scleraldehyde), 디에틸스쿠아레이트 및 에피클로로히드린으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 미세구의 제조방법
12 12
제1항에 있어서생체적합성 고분자 용액이 키토산 용액인 것을 특징으로 하는 미세구의 제조방법
13 13
제12항에 있어서키토산의 탈아세틸화도가 60% 이상인 것을 특징으로 하는 미세구의 제조방법
14 14
제12항에 있어서키토산 용액이 키토산을 산성 용매와 혼합하여 제조되는 것을 특징으로 하는 미세구의 제조방법
15 15
재14항에 있어서산성 용매가 초산, 염산, 황산, 질산, 젖산, 개미산, 글루타민산, 아크릴산, 프로핀산, 석신산, 수산, 호박산, 아스코르빈산, 글루콘산, 주석산, 말레인산, 구연산, 글루타글리콜산, 아민산, 술폰산, 인산, 탄산, 구연산, 염소산, 주석산, 말산, 스테아르산, 옥살산, 과염소산 및 인산으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 미세구의 제조방법
16 16
제1항에 있어서유기용매층이 C4-9 탄화수소, C10-30 지방족 알코올, C10-30 방향족 알코올, C10-30 지방족 에스테르, C10-30 방향족 에스테르, C10-30 지방족 에테르, C10-30 방향족 에테르, 아세톤, 아세토니트릴, 디에틸에테르, 에틸 에테르, 에틸 아세테이트 및 그 혼합용매로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 층인 것을 특징으로 하는 미세구의 제조방법
17 17
제1항에 있어서코아세르베이션 매질층이 알칼리 수용액 또는 알칼리 수용액 및 C1-5 유기용매의 혼합 용매층인 것을 특징으로 하는 미세구의 제조방법
18 18
제17항에 있어서알칼리 수용액이 수산화 이온(OH-)이 들어있는 용액이거나; 그 반대이온과의 염, 또는 이들의 혼합물이며, 여기에서 염은 피로인산염, 트리폴리인산염, 테트라폴리인산염, 옥타폴리인산염, 헥사메타인산염, FeCN, 지용성 알지네이트, 카라지난, 옥틸설페이트염, 라우릴설페이트염, 헥사데실설페이트염, 세틸스테아릴설페이트염, 폴리알데히드로카르본산염, 염소염, 불소염, 탄산염, 질산염, 황산염, 인산염 및 시안염으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 미세구의 제조방법
19 19
제 1항에 있어서단계 (b)에서 적하가 100 내지 1000 ㎕/h의 속도로 수행되는 것을 특징으로 하는 미세구의 제조방법
20 20
삭제
21 21
제1항에 있어서가스가 질소, 헬륨, 아르곤, 이산화탄소, 네온, 산소, 수소 및 공기로 이루어진 그룹에서 선택되는 것을 특징으로 하는 미세구의 제조방법
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 서울특별시 서울대학교 산학협력단 서울시 산학연사업-기술기반구축사업 나노바이오 시스템 및 응용소재