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아연도금강판 및 마그네슘 판재중 적어도 하나로 이루어진 금속의 표면을 유기세척하는 단계;상기 금속의 표면에 잔존하는 유기용매를 질소가스로 제거하는 단계;상기 금속의 표면을 가습처리하는 단계;상기 금속을 실란계열, 알칸계열산 및 인산계열 화합물 중에서 선택된 적어도 하나의 자기 조립 특성을 갖는 화합물, 및 톨루엔, 벤젠, 에탄올, n-부탄올, n-헵탄올 및 이소프로판올 중에서 선택된 적어도 하나의 용매로 이루어진 자기 조립 분자막을 형성하는 용액에 담금처리하는 단계;상기 담금처리된 금속을 톨루엔, 벤젠, 에탄올, n-부탄올, n-헵탄올 및 이소프로판올로 구성되는 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 용매에 세정하는 단계; 및상기 금속을 진공하에 열 경화시키는 단계를 포함하는 자기 조립 분자막을 이용한 금속 표면 처리 방법
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제 1항에 있어서, 상기 자기 조립 분자막을 형성하는 용액은 옥타데실트리클로로실란, 부틸트리클로로실란, 3-클로로프로필트리클로로실란, 3-브로모프로필트리클로로실란, 트리클로로(3,3,3-트리플루오로프로필)실란, 1H,1H,2H,2H-퍼플루오로옥틸-트리클로로실란, 펜에틸트리클로로실란, 4-(클로로메틸)페닐트리클로로실란, 2-(4-클로로설포닐페닐)에틸트리클로로실란, 헥사노익산, 헵타노익산, 옥탄산, 노나노익산, 데카노익산, 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 아라키딕산, 12-아미노도데카노익산,1,11-운데칸디카르복시산, 메틸포스폰산, 페닐포스폰산, 옥타데실포스폰산, 3-머캅토프로필포스폰산중에서 선택된 적어도 하나의 자기 조립 특성을 갖는 화합물이 상기 용매에 0
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