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Ｘ-선 노광을 이용한 미세 구조물 제조 방법

  • 기술번호 : KST2014026548
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 입체적인 형상의 미세 패턴을 갖는 미세 구조물을 용이하게 형성할 수 있도록, X-선 마스크를 설치하고 X-선을 조사하여 측면 노광 방식으로 감광재를 노광하는 감광재 노광 단계와, 노광된 감광재를 에칭하는 감광재 에칭 단계와, 에칭된 감광재에 금속을 채워서 미세 패턴이 형성된 몰드를 제작하는 몰드 형성 단계와, 복수 개의 몰드를 결합시키는 몰드 모듈 형성 단계, 및 몰드 모듈을 이용하여 미세 구조물을 성형하는 미세 구조물 성형 단계를 포함한다. 미세 구조물, 감광재, 몰드 모듈, 감광재 모듈
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 7/2039(2013.01) G03F 7/2039(2013.01) G03F 7/2039(2013.01) G03F 7/2039(2013.01)
출원번호/일자 1020080110582 (2008.11.07)
출원인 포항공과대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1020187-0000 (2011.02.28)
공개번호/일자 10-2010-0051418 (2010.05.17) 문서열기
공고번호/일자 (20110307) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.11.07)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 권태헌 대한민국 경북 포항시 남구
2 이봉기 대한민국 울산 중구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.11.07 수리 (Accepted) 1-1-2008-0773398-43
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2010.08.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2010.09.14 수리 (Accepted) 9-1-2010-0058143-04
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2010.09.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0426046-43
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.11.29 수리 (Accepted) 1-1-2010-0783000-36
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.11.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0783004-18
7 등록결정서
Decision to grant		 2011.02.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0108547-70
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.06.13 수리 (Accepted) 4-1-2013-0025573-58
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5024386-11
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.11.20 수리 (Accepted) 4-1-2019-5243581-27
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.11.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5245997-53
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5247115-68
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
X-선 마스크를 설치하고 X-선을 조사하여 측면 노광 방식으로 감광재를 노광하는 감광재 노광 단계; 노광된 감광재를 에칭하는 감광재 에칭 단계; 에칭된 감광재에 금속을 채워서 미세 패턴이 형성된 몰드들을 제작하는 몰드 형성 단계; 복수 개의 몰드를 결합시키는 몰드 모듈 형성 단계; 및 몰드 모듈을 이용하여 미세 구조물을 성형하는 미세 구조물 성형 단계; 를 포함하며, 상기 몰드들에 형성된 미세 패턴은 서로 상이한 형상으로 이루어진 미세 구조물의 제작 방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 감광재 노광 단계는 딥 X-선 리소그래피(DXRL; Deep X-Ray Lithography) 공정으로 감광재를 노광하는 미세 구조물의 제작 방법
3 3
삭제
4 4
제 1항에 있어서, 상기 몰드 형성 단계는 전기 도금(electro forming)하는 단계를 더 포함하는 미세 구조물의 제작 방법
5 5
제 4항에 있어서, 상기 몰드 형성 단계에서 금속은 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어진 미세 구조물의 제작 방법
6 6
제 1항에 있어서, 상기 미세 패턴은 상면의 높이가 상이한 입체적인 미세 패턴으로 이루어진 미세 구조물의 제작 방법
7 7
제 1항에 있어서, 상기 X-선 마스크는 상기 미세 구조물의 측면 형상과 대응되는 패턴 형상을 갖는 미세 구조물의 제작 방법
8 8
제 1항에 있어서, 상기 몰드들은 상기 미세 패턴의 길이 방향으로 적층 배열된 미세 구조물의 제작 방법
9 9
X-선 마스크를 설치하고 X-선을 조사하여 측면 노광 방식으로 감광재를 노광하는 감광재 노광 단계; 노광된 감광재를 에칭하는 감광재 에칭 단계; 에칭된 감광재들을 적층 배열하여 감광재 모듈을 형성하는 단계; 감광재 모듈에 금속을 채워서 미세 패턴이 형성된 몰드를 제작하는 몰드 형성 단계; 몰드를 이용하여 미세 구조물을 성형하는 미세 구조물 성형 단계; 를 포함하는 미세 구조물의 제작 방법
10 10
제 9항에 있어서, 상기 감광재 노광 단계는 딥 X-선 리소그래피(DXRL; Deep X-Ray Lithography) 공정으로 감광재를 노광하는 미세 구조물의 제작 방법
11 11
제 9항에 있어서, 상기 에칭된 감광재들에는 미세 패턴이 형성되고, 감광재들에 형성된 미세 패턴은 서로 상이한 형상을 갖는 미세 구조물의 제작 방법
12 12
제 11항에 있어서, 상기 감광재들은 상기 미세 패턴의 길이 방향으로 적층 배열된 미세 구조물의 제작 방법
13 13
제 9항에 있어서, 상기 몰드 형성 단계는 전기 도금(electro forming)하는 단계를 더 포함하는 미세 구조물의 제작 방법
14 14
제 13항에 있어서, 상기 몰드 형성 단계에서 금속은 니켈 또는 니켈 합금으로 이루어진 미세 구조물의 제작 방법
15 15
제 9항에 있어서, 상기 미세 패턴은 상면의 높이가 상이한 입체적인 미세 패턴으로 이루어진 미세 구조물의 제작 방법
16 16
제 9항에 있어서, 상기 X-선 마스크는 상기 미세 구조물의 측면 형상과 대응되는 패턴 형상을 갖는 미세 구조물의 제작 방법
17 17
제 9항에 있어서, 상기 감광재의 모서리에는 이웃하는 감광재를 지지하는 맞춤 돌기가 상기 감광재의 상면 또는 하면으로 돌출되도록 형성된 미세 구조물의 제작 방법
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1 CN102210008 CN 중국 FAMILY
2 EP02355136 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 US09217927 US 미국 FAMILY
4 US20110254195 US 미국 FAMILY
5 WO2010053277 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
6 WO2010053277 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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1 CN102210008 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 EP2355136 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
3 EP2355136 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
4 US2011254195 US 미국 DOCDBFAMILY
5 US9217927 US 미국 DOCDBFAMILY
6 WO2010053277 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
7 WO2010053277 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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