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미세 홀이 외면에 형성된 템플릿(template)을 준비하는 템플릿 단계;
상기 템플릿의 외면에서 미리 설정된 패턴 영역에 고분자 물질을 도포하는 고분자 물질 도포 단계;
상기 템플릿의 외면에 친수성 필름을 부착하는 필름 부착 단계; 및
상기 친수성 필름으로부터 상기 템플릿을 분리 제거하는 템플릿 제거 단계;를 포함하는 친수성과 소수성을 갖는 멤브레인의 제조방법
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제 1 항에 있어서,
상기 템플릿은 금속 기재를 양극 산화 처리하여 상기 금속 기재의 외면에 상기 미세 홀을 갖는 양극 산화층이 형성되는 것을 특징으로 하는 친수성과 소수성을 갖는 멤브레인의 제조방법
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제 2 항에 있어서,
상기 템플릿은 상기 금속 기재의 표면에 미세 입자를 분사시켜 미세 요철을 형성시킨 후에 상기 양극 산화층이 형성되는 것을 특징으로 하는 친수성과 소수성을 갖는 멤브레인의 제조방법
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제 1 항에 있어서,
상기 고분자 물질 도포 단계는 상기 템플릿에 상기 고분자 물질을 코팅하고, 상기 고분자 물질 위에 미리 설정된 패턴 형상의 마스크(mask)를 위치시키고, 상기 미리 설정된 패턴 영역 이외의 상기 고분자 물질을 제거하는 것을 특징으로 하는 친수성과 소수성을 갖는 멤브레인의 제조방법
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제 4 항에 있어서,
상기 고분자 물질을 향해 빛을 조사하여 상기 마스크가 차단하지 않는 영역의 상기 고분자 물질을 성질 변화시키고, 상기 고분자 물질을 식각함으로써 상기 미리 설정된 패턴 영역 이외의 상기 고분자 물질을 제거하는 것을 특징으로 하는 친수성과 소수성을 갖는 멤브레인의 제조방법
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제 1 항에 있어서,
상기 고분자 물질 도포 단계는 미리 설정된 굵기로 상기 고분자 물질을 분사시키는 분사기를 이용하여, 상기 분사기를 거동시키면서 상기 미리 설정된 패턴 영역에 상기 고분자 물질을 도포하는 것을 특징으로 하는 친수성과 소수성을 갖는 멤브레인의 제조방법
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제 1 항에 있어서,
상기 친수성 필름은 상기 템플릿에 코팅된 상기 고분자 물질이 부착되도록 접착성을 갖는 것을 특징으로 하는 친수성과 소수성을 갖는 멤브레인의 제조방법
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제 1 항에 있어서,
상기 템플릿 제거 단계는 상기 템플릿을 화학적인 식각에 의해 제거하는 것을 특징으로 하는 친수성과 소수성을 갖는 멤브레인의 제조방법
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제 1 항에 있어서,
상기 템플릿 제거 단계는 상기 템플릿과 상기 친수성 필름을 외력으로 직접 잡아 당기는 방식으로 상기 고분자 물질이 부착된 상기 친수성 필름으로부터 상기 템플릿을 분리하는 것을 특징으로 하는 친수성과 소수성을 갖는 멤브레인의 제조방법
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제 9 항에 있어서,
상기 템플릿의 외면에 이형제(離形劑)를 코팅시키는 것을 특징으로 하는 친수성과 소수성을 갖는 멤브레인의 제조방법
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