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펨토초 전자 빔 발생 장치 및 방법

  • 기술번호 : KST2014026605
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 펨토초 전자 빔 발생 장치 및 방법이 개시된다. 음극(cathode)을 통하여 발생되는 전자를 양극(anode)으로 토출하여 전자 빔을 발생하는 전자 빔 발생 장치에 있어서, 상기 음극의 일측에 구비되어 입사되는 레이저를 통과시키는 투과창, 상기 투과창에서 발생된 상기 전자의 위치에 대응하여 상기 양극 상에 형성되는 핀홀, 및 상기 음극의 일측에 구비되어 전기장을 발생함으로써 상기 전자를 가속함과 동시에 상기 핀홀로 집중시키는 포커싱 수단을 포함함으로써, 음극에 위치한 포커싱 수단에 의하여 생성된 전기장에 의하여 전자가 핀홀로 집중됨과 동시에 가속됨으로써 펨토초의 전자 빔을 발생시킬 수 있는 효과를 가진다. 양극, 음극, 펨토초, femtosecond, 전자 빔
Int. CL H01J 37/12 (2006.01) H01J 37/06 (2006.01) H01J 37/065 (2006.01)
CPC H01J 37/045(2013.01) H01J 37/045(2013.01) H01J 37/045(2013.01) H01J 37/045(2013.01) H01J 37/045(2013.01) H01J 37/045(2013.01) H01J 37/045(2013.01) H01J 37/045(2013.01) H01J 37/045(2013.01)
출원번호/일자 1020080111238 (2008.11.10)
출원인 포항공과대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0964094-0000 (2010.06.08)
공개번호/일자 10-2010-0052286 (2010.05.19) 문서열기
공고번호/일자 (20100616) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.11.10)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박용운 대한민국 경상북도 포항시 남구
2 김창범 대한민국 서울특별시 성북구
3 고인수 대한민국 경상북도 포항시 남구
4 이효철 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 양문옥 대한민국 서울(특허법인 퇴사후 사무소변경 미신고)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 박용운 경상북도 포항시 남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.11.10 수리 (Accepted) 1-1-2008-0777135-46
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.05.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.06.18 수리 (Accepted) 9-1-2009-0038151-87
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.01.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0036612-94
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.03.09 수리 (Accepted) 1-1-2010-0147505-30
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.03.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0147504-95
7 등록결정서
Decision to grant
2010.05.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0230682-75
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.13 수리 (Accepted) 4-1-2013-0025573-58
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5024386-11
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.20 수리 (Accepted) 4-1-2019-5243581-27
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5245997-53
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5247115-68
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
레이저가 입사되어, 전자를 발생시키는 음극(cathode); 상기 전자를 전자 빔으로써 토출시켜, 상기 전자 빔을 샘플에 조사시키는 양극(anode); 상기 음극에 구비되어, 금속물질로 코팅되고, 입사되는 상기 레이저가 투과되면서 상기 금속물질과의 충돌을 통해 상기 전자를 발생시키는 투과창; 방사 방향으로 생성된 전기장을 이용하여 상기 전자를 가속시키는 동시에 포커싱 하는 정전렌즈(electrostatic lens); 및 상기 양극에 형성되고, 상기 전자가 입사되어 상기 전자 빔으로써 상기 샘플로 토출시키는 핀홀을 포함하는 전자 빔 발생장치
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 전기장의 세기를 조절하여 상기 전자가 포커싱되는 양을 조절하기 위해, 상기 음극과 상기 정전렌즈 간의 각도가 조절되는 전자 빔 발생 장치
3 3
삭제
4 4
음극(cathode)을 통하여 발생되는 전자를 양극(anode)으로 토출하여 전자 빔을 발생하는 전자 빔 발생 방법에 있어서, 금속물질로 코팅된 투과창에 레이저가 투과되면서 상기 금속물질과의 충돌을 통해 전자를 발생시키는 단계; 정전 렌즈에 의해 방사방향으로 전기장을 발생하는 단계; 상기 전기장을 이용하여 상기 전자를 가속시키는 동시에 포커싱하는 단계; 상기 전자를 상기 양극에 형성된 핀홀을 통하여 전자 빔으로써 샘플로 토출시키는 단계를 포함하는 전자 빔 발생 방법
5 5
제 4 항에 있어서, 상기 전기장의 세기를 조절하여 상기 전자가 포커싱되는 양을 조절하기 위해, 상기 음극과 상기 정전렌즈 간의 각도를 조절하는 단계를 더 포함하는 전자 빔 발생 방법
6 6
삭제
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US08278813 US 미국 FAMILY
2 US20100117510 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CA2669626 CA 캐나다 DOCDBFAMILY
2 CA2669626 CA 캐나다 DOCDBFAMILY
3 GB0911225 GB 영국 DOCDBFAMILY
4 GB2465041 GB 영국 DOCDBFAMILY
5 GB2465041 GB 영국 DOCDBFAMILY
6 US2010117510 US 미국 DOCDBFAMILY
7 US8278813 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.