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갈로실리케이트 피에스티-1 제올라이트 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2014026692
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 새로운 골격조성 및 구조를 갖는 제올라이트 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 내트로라이트(Natrolite)계 제올라이트 골격구조를 갖고 있으며, 골격내 +3가 원소의 함량이 높고 새로운 구조를 가지는 제올라이트 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 갈로실리케이트 제올라이트는 하기 화학식(1)으로 표현되며, 1.0 K2O : 1.0 Ga2O3 : 2.3-2.7 SiO2 (1)새로운 결정 구조로 이루어져 있다.본 발명에 따른 갈로실리케이트 제올라이트는 이온교환제 또는 특정분자에 대한 분리제로 사용할 수 있으며, 800 이상의 고온에서도 그 골격구조를 유지하는 높은 열적 안정성을 가지며, 약 3.0 Å크기의 균일한 세공을 그 내부에 포함하고 있어 정밀화학, 석유화학공업 등에서 수소와 같은 작은 기체분자에 대한 선택적 분리제로 사용될 수 있는 물리화학적 성질을 갖는다.갈로실리케이트, PST-1, 제올라이트
Int. CL B01D 53/02 (2006.01) B01J 29/87 (2006.01)
CPC B01J 29/87(2013.01) B01J 29/87(2013.01) B01J 29/87(2013.01)
출원번호/일자 1020090009716 (2009.02.06)
출원인 포항공과대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1286077-0000 (2013.07.09)
공개번호/일자 10-2010-0090442 (2010.08.16) 문서열기
공고번호/일자 (20130715) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.02.06)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 대한민국 경상북도 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍석봉 대한민국 경상북도 포항시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박상훈 대한민국 서울특별시 영등포구 선유로 *길 **, **층 ****호 (문래동*가, 문래 sk v*센터)(새생명특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 포항공과대학교 산학협력단 경상북도 포항시 남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.02.06 수리 (Accepted) 1-1-2009-0074921-17
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.02.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.03.15 수리 (Accepted) 9-1-2010-0014875-86
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.02.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0078008-34
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.04.11 수리 (Accepted) 1-1-2011-0262283-43
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.05.11 수리 (Accepted) 1-1-2011-0345453-88
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.06.13 수리 (Accepted) 1-1-2011-0442102-76
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.07.11 수리 (Accepted) 1-1-2011-0530170-57
9 지정기간연장관련안내서
Notification for Extension of Designated Period
2011.07.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0062510-71
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.08.11 수리 (Accepted) 1-1-2011-0622939-30
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.08.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0622791-70
12 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2011.12.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0783106-58
13 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)
2012.01.30 수리 (Accepted) 7-1-2012-0004529-25
14 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2012.03.30 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2012-0015044-41
15 심사전치출원의 심사결과통지서
Notice of Result of Reexamination
2012.05.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0261350-17
16 심사관의견요청서
Request for Opinion of Examiner
2012.06.05 수리 (Accepted) 7-8-2012-0018261-75
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.06.13 수리 (Accepted) 4-1-2013-0025573-58
18 등록결정서
Decision to grant
2013.06.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0433166-92
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5024386-11
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.20 수리 (Accepted) 4-1-2019-5243581-27
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5245997-53
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5247115-68
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번호 청구항
1 1
기본적인 골격구조가 하기 화학식 1과 같은 몰비의 산화물 조성으로 이루어져 있으며 하기 표1에 주어진 격자 간격들을 포함하는 X-선 회절 패턴을 특징으로 하는 갈로실리케이트 PST-1 제올라이트
2 2
제1항에 있어서, 산화물 조성이 1
3 3
제1항에 있어서, 산화물 조성이 1
4 4
기본적인 골격구조가 하기 화학식 1과 같은 몰비의 산화물 조성으로 이루어져 있으며 하기 표2에 주어진 격자 간격들을 포함하는 X-선 회절 패턴을 특징으로 하는 갈로실리케이트 PST-1 제올라이트
5 5
하기 화학식 2로 표현되는 화합물을 100내지 200 ℃ 에서 0
6 6
제5항에 있어서, 상기 화합물은 0
7 7
제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 화합물을 8
8 8
제7항에 있어서, 상기 화합물은 150 ℃에서 가열되는 것을 특징으로 하는 방법
9 9
삭제
10 10
제5항에 있어서, 상기 화학식 2의 화합물은 산화갈륨(Ga2O3) 0
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN102307645 CN 중국 FAMILY
2 EP02394729 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 EP02394729 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
4 JP24517397 JP 일본 FAMILY
5 KR101130120 KR 대한민국 FAMILY
6 KR1020120020195 KR 대한민국 FAMILY
7 US08906139 US 미국 FAMILY
8 US09254474 US 미국 FAMILY
9 US20110308385 US 미국 FAMILY
10 US20150086475 US 미국 FAMILY
11 US20160008789 US 미국 FAMILY
12 WO2010090386 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN102307645 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN102307645 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 JP2012517397 JP 일본 DOCDBFAMILY
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