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1
기판 및 코팅층을 포함하는 광감응성 전극으로서,
상기 코팅층은:
(a)무기 나노 입자;
(b)고분자; 및
(c)탄소계 물질;
을 포함하여 이루어지고,
상기 (b)고분자는 폴리퍼플루오로술폰산, 폴리알킬에테르, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르술폰, 폴리이미드, 폴리비닐알콜, 폴리에틸렌이민, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되고,
상기 (c)탄소계 물질은 탄소나노튜브, 흑연, 카본나노파이버, 플러렌, 나노로드, 다이아몬드라이크카본(DLC), 그라핀(Graphene) 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것인 광감응성 전극
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2
제1항에 있어서,
상기 코팅층은
(d)광에너지를 흡수하여 여기상태의 전자를 내어놓는 광활성화 물질을 더 포함하여 이루어진 광감응성 전극
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3 |
3
제1항에 있어서,
상기 (a)무기 나노입자는 Ti, Zr, Sr, Zn, In, Yr, La, V, Mo, W, Sn, Nb, Mg, Al, Y, Sc, Sm, Ga, In, Cd, Se, TiSr, Ag, Pb, Bi, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 금속의 산화물, 황화물, 또는 할로겐화물인 것인 광감응성 전극
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4 |
4
제1항에 있어서,
상기 (a)무기 나노입자는 200 내지 300 m2/g의 표면적을 갖고, 1 내지 100 nm의 입경을 갖는 나노입자인 것인 광감응성 전극
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5
삭제
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6
삭제
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7 |
7
제1항에 있어서,
상기 코팅층은 (a)무기 나노 입자 100 중량부에 대하여
(b)고분자 10 내지 200 중량부; 및
(c)탄소계 물질 0
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8
제2항에 있어서,
상기 코팅층은 (a)무기 나노 입자 100 중량부에 대하여 (d)광에너지를 흡수하여 여기상태의 전자를 내어놓는 광활성화 물질 1 내지 100 중량부를 더 포함하여 이루어진 것인 광감응성 전극
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9
제1 내지 4, 7 및 8항 중 어느 한 항에 따른 광감응성 전극을 포함하는 태양전지 또는 광감응성 전기화학전지
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10
(a)무기 나노 입자, (b)고분자, 및 (c)탄소계 물질을 용매에 넣고 혼합하여 슬러리를 제조하는 1단계, 및
기판상에 상기 1단계에서 제조된 슬러리를 상온에서 도포한 후, 20 내지 100 ℃의 온도에서 건조하여 광감응성 전극을 제조하는 2단계
를 포함하여 이루어진 광감응성 전극의 제조방법으로서,
상기 (b)고분자는 폴리퍼플루오로술폰산, 폴리알킬에테르, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르술폰, 폴리이미드, 폴리비닐알콜, 폴리에틸렌이민, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되고,
상기 (c)탄소계 물질은 탄소나노튜브, 흑연, 카본나노파이버, 플러렌, 나노로드, 다이아몬드라이크카본(DLC), 그라핀(Graphene) 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것인 광감응성 전극의 제조방법
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11
제10항에 있어서,
상기 슬러리를 제조하는 1단계는 (d)광에너지를 흡수하여 여기상태의 전자를 내어놓는 광활성화 물질을 더 첨가하여, 용매에 넣고 혼합하는 것인 광감응성 전극의 제조방법
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12
제10항에 있어서,
상기 광감응성 전극의 제조방법은 광감응성 전극을 제조하는 2단계 이후에 (d)광에너지를 흡수하여 여기상태의 전자를 내어놓는 광활성화 물질을 광감응성 전극의 (b)고분자에 흡착시키는 3단계를 더 포함하여 이루어진 광감응성 전극의 제조방법
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13
제10항에 있어서,
상기 (a)무기 산화물 나노입자는 Ti, Zr, Sr, Zn, In, Yr, La, V, Mo, W, Sn, Nb, Mg, Al, Y, Sc, Sm, Ga, In, Cd, Se, TiSr, Ag, Pb, Bi, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 금속의 산화물, 황화물, 또는 할로겐화물인 것인 광감응성 전극의 제조방법
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14
제10항에 있어서,
상기 (a)무기 산화물 나노입자는 200 내지 300 m2/g의 표면적을 갖고, 1 내지 100 nm의 입경을 가지는 나노입자인 것인 광감응성 전극의 제조방법
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삭제
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삭제
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17
제10항에 있어서,
상기 슬러리는 (a)무기 나노 입자 100 중량부에 대하여
(b)고분자 10 내지 200 중량부;및
(c)탄소계 물질 0
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18
제11항에 있어서,
상기 슬러리는 (a)무기 나노 입자 100 중량부에 대하여 (d)광에너지를 흡수하여 여기상태의 전자를 내어놓는 광활성화 물질 1 내지 100 중량부를 더 포함하여 혼합한 것인 광감응성 전극의 제조방법
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19
제10항에 있어서,
상기 2단계에서, 상기 1단계에서 제조된 슬러리를 스핀코팅, 스프레이 코팅, 스크린 프린팅, 닥터 블레이딩, 및 잉크 젯팅으로 이루어진 군에서 선택되는 방법에 의해 기판상에 도포하여 수행하는 것인 광감응성 전극의 제조방법
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20
제1항에 있어서,
상기 기판은 유리 또는 플라스틱의 투명 기판인 것인 광감응성 전극
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21
제10항에 있어서,
상기 기판은 유리 또는 플라스틱의 투명 기판인 것인 광감응성 전극의 제조방법
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