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마이크로 스테이지를 제조하는 제조방법에 있어서,
기판 본체에 열선을 증착시키는 제 1 단계;
상기 열선이 증착된 기판 본체에 열팽창 소재를 도포하는 제 2 단계;
상기 도포된 열팽창 소재를 패턴화시켜 판상형의 지지부, 상기 지지부와 연결되는 지지부 구동수단을 형성시키는 제 3 단계;
상기 기판 본체의 테두리 부위를 제외한 나머지 부위를 제거하는 제 4 단계;를 포함하는 마이크로 스테이지 제조 방법
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제 1 항에 있어서,
상기 기판 본체는 실리콘 웨이퍼로 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지 제조 방법
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제 1 항에 있어서,
상기 열팽창 소재는 PDMS(Poly di-methyl siloxane) 또는 SU-8인 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지 제조 방법
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제 3 항에 있어서,
상기 제 2 단계는 상기 열선이 증착된 기판 본체 상에 SU-8을 도포하여 SU-8 몰드층을 형성하고, 상기 제 3 단계는 상기 지지부, 고정부, 및 지지부 구동 수단을 형성시킬 부위의 SU-8을 제거한 다음, 상기 SU-8 몰드 층 상에 PDMS를 도포하고 경화시킨 후, 상기 SU-8 몰드 층 및 SU-8 몰드 층 상에 경화된 PDMS를 제거하여 상기 지지부, 및 상기 지지부와 연결되는 지지부 구동수단을 형성시키는 과정으로 수행되는 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지 제조 방법
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제 1 항에 있어서,
상기 제 1 단계는 상기 기판 본체에 열팽창 소재를 도포한 후 상기 열선을 도포하는 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지 제조 방법
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6
제 1 항에 있어서,
상기 제 3 단계는 포토 리소그래피 방법을 이용하여 상기 열팽창 소재를 패턴화 하는 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지 제조 방법
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제 1 항에 있어서,
상기 기판 본체의 테두리 부위를 제외한 나머지 부위를 제거하는 과정은 습식 식각 방법에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지 제조 방법
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8
마이크로 스테이지에 있어서,
기판 본체;
상기 기판 본체에 부착되는 고정부;
판상형의 지지부; 및
일측이 상기 지지부와 연결되고, 타측이 상기 고정부와 연결되며, 상기 기판 본체 상에서 상기 지지부를 구동시키는 둘 또는 그 이상의 지지부 구동 수단을 포함하며,
상기 지지부 구동 수단은 열에 의한 팽창 또는 수축에 의해 상기 지지부를 구동시키도록 열선 및 열팽창 소재를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지
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제 8 항에 있어서,
상기 지지부 구동 수단의 열팽창 소재는 폴리머인 것을 특징으로 하는마이크로 스테이지
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제 9 항에 있어서,
상기 폴리머는 PDMS(Poly di-methyl siloxane) 또는 SU-8인 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지
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11
제 8 항에 있어서,
상기 기판 본체 상에는 도포된 열팽창 소재의 움직임을 방지하기 위해 열선과 기판 본체를 연결하는 열선 지지대가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지
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제 11 항에 있어서,
상기 열선 지지대는 상기 열선과 다른 소재의 금속으로 이루어진 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지
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13
제 8 항에 있어서,
상기 열선은 열팽창 소재의 하부에 위치하는 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지
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14
제 8 항에 있어서,
상기 지지부 구동 수단은 삼각형 형상으로 이루어져 있으며, 상기 삼각형 형상의 일측 단부는 상기 지지부와 연결되어 있고 타측 두 개의 단부는 상기 고정부와 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지
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15
제 8 항에 있어서,
상기 지지부 구동 수단은 삼각형 형상 및 바 형상이 조합된 구조로 이루어져 있으며, 상기 삼각형 형상의 두 개의 단부는 상기 고정부와 연결되어 있고 상기 바 형상의 단부 부위는 상기 지지부와 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지
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16
제 14 항 또는 제 15 항에 있어서,
상기 지지부 구동 수단에는 상기 고정부와 연결되는 단부 부위에 홈이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지
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17
제 8 항에 있어서,
상기 지지부 구동 수단에는 하나 또는 둘 이상의 관통구가 형성되어있는 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지
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18
제 8 항에 있어서,
상기 지지부 구동 수단은 상기 지지부를 중심으로 적어도 두 개가 각각 상기 지지부에 수직 방향으로 연결되어 있어서 평면 상에서 X축 및 Y축에 의한 구동을 수행하는 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지
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제 18 항에 있어서,
상기 지지부 구동 수단은 상기 지지부를 중심으로 4 개가 각각 90 도의 각도를 이루면서 방사형 구조로 상기 지지부에 각각 연결되는 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지
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20
제 8 항에 있어서,
상기 기판 본체는 실리콘 웨이퍼로 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지
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21
제 20 항에 있어서,
상기 기판 본체는 상기 지지부 구동 수단의 열선에 전류를 공급하도록 실리콘 웨이퍼 상에 외부와 연결되는 접속 단자를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 마이크로 스테이지
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