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반응기 내에 위치하는 기판;
상기 반응기 내에서 상기 기판에 대향하여 위치하는 타겟; 및
상기 타겟의 아래에 위치하고 상기 타겟의 후면 전체에 대응하여 설치되는 회전 자석 셀 블록을 포함하고,
상기 회전 자석 셀 블록은 가로 및 세로 방향의 매트릭스로 배열되는 복수개의 단위 회전 자석 셀 블록들을 포함하고,
상기 단위 회전 자석 셀 블록은 지지부와, 상기 지지부에 설치된 복수개의 회전 수단들과, 상기 회전 수단들과 각각 연결된 복수개의 회전 자석 셀들을 포함하고, 상기 단위 회전 자석 셀 블록에 포함되는 복수개의 회전 자석 셀들은 독립적으로 상기 타겟에 대하여 평행하게 회전할 수 있는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터링 장치
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제1항에 있어서, 상기 회전 자석 셀은 상기 회전수단에 연결된 요크판 및 상기 요크판에 부착된 회전 자석 어레이로 이루어지는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터링 장치
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제4항에 있어서, 상기 요크판에는 서로 이격된 회전 자석 어레이들이 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터링 장치
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제4항에 있어서, 상기 회전 자석 어레이는 복수개의 자석들로 이루어지는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터링 장치
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제1항에 있어서, 상기 회전 수단은 상기 지지부에 설치된 관통홀과, 상기 관통홀에 설치된 베어링과, 상기 관통홀 및 베어링에 설치된 회전축과, 상기 회전축에 설치된 풀리를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터링 장치
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8
반응기 내에 위치하는 사각형의 기판;
상기 반응기 내에서 상기 사각형의 기판에 대향하여 위치하는 사각형의 타겟; 및
상기 사각형의 타겟의 아래에 위치하고 상기 타겟의 후면 전체에 대응하여 설치되는 회전 자석 셀 블록을 포함하고,
상기 회전 자석 블록은 가로 및 세로 방향의 매트릭스로 배열되는 사각형의 단위 회전 자석 셀 블록들을 복수개 조합하여 구성되고,
상기 단위 회전 자석 셀 블록은 지지부와, 상기 지지부에 설치된 복수개의 회전 수단들과, 상기 회전 수단들과 각각 연결된 복수개의 회전 자석 셀들을 포함하고, 상기 회전 자석 셀들은 독립적으로 상기 타겟에 대하여 평행하게 회전할 수 있는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터링 장치
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제8항에 있어서, 상기 단위 회전 자석 셀 블록 내에 포함된 회전 자석 셀들 사이에 대응하는 상기 타겟의 표면은 스퍼터링시 침식 영역(침식 라인)이 위치하는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터링 장치
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제8항에 있어서, 상기 단위 회전 자석 셀 블록 내에 포함된 회전 자석 셀들은 상기 타겟에 대하여 평행하게 독립적으로 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전할 수 있는 것을 특징으로 하는 마그네트론 스퍼터링 장치
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