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a) 물유리: 물이 1:1-1:10 중량비가 되도록 물유리(sodium silicate)를 희석하는 단계;
b) 상기 희석된 물유리를 pH 3-6으로 조절한 후, 20℃ 내지 80℃에서 2시간 내지 24시간 에이징하여 모노리스형 실리카 습윤겔을 형성하는 단계;
c) 상기 모노리스형 실리카 습윤겔을 20℃ 내지 80℃의 물에 침지하여 Na이온을 제거하는 단계;
d) 상기 Na이온이 제거된 모노리스형 실리카 습윤겔을, 실릴화제 1-10중량%를 포함하는 n-부탄올 용액에 넣고 pH 1-5에서 100℃ 내지 150℃로 환류시키고 동시에 50-1000rpm 교반속도로 교반하는 소수성화-과립화 단계; 및
e) 얻어진 에어로겔 과립을 20-250℃에서 건조하는 단계를 포함하는 소수성을 갖는 에어로겔 과립 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 단계 c)와 d)사이에, Na이 제거된 모노리스형 실리카 습윤겔을 pH 3-6 그리고 20℃ 내지 80℃에서 1시간 이상 에이징하는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 소수성을 갖는 에어로겔 과립 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 실릴화제는 화학식 R1 4-n-SiXn (여기서, n은 1-3이고, R1은 C1-C10 알킬, C3-C8 방향족, C3-C8 방향족 알킬, C3-C7 헤테로방향족 알킬(헤테로 원소는 O, N, S, P로 구성되는 그룹으로부터 선택된 최소 일종임) 및 수소로 구성되는 그룹으로부터 선택되며, X는 F, Cl, Br, I로 구성되는 그룹으로부터 선택된 할로겐, C1-C10 알콕시 그룹, C3-C8 방향족 알콕시 그룹 및 C3-C7 헤테로 방향족 알콕시 그룹(헤테로 원소는 O, N, S, P로 구성되는 그룹으로부터 선택된 최소 일종임)으로 구성되는 그룹으로부터 선택됨)) 및 R2Si-O-SiR3 (여기서, R2, R3 그룹은 F, Cl, Br, I로 구성되는 그룹으로부터 선택된 할로겐, C1-C10 알킬, C3-C8 방향족, C3-C8 방향족 알킬, C3-C7 헤테로 방향족 알킬 (헤테로 원소는, O, N, S, P로 구성되는 그룹으로부터 선택된 최소 일종임) 및 수소로 구성되는 그룹으로부터 각각 독립적으로 선택됨
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제 4항에 있어서, 상기 실릴화제는 헥사메틸디실란, 에틸트리에톡시실란, 트리메톡시실란, 트리에틸에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 메톡시트리메틸실란, 트리메틸클로로실란 및 트리에틸클로로실란으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 최소 일종임을 특징으로 하는 소수성을 갖는 에어로겔 과립 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 교반속도에 따라 과립의 크기가 조절됨을 특징으로 하는 에어로겔 과립 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 건조단계 후에, 건조된 에어로겔 과립을 입자 크기별로 분리하는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 에어로겔 과립 제조방법
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제 7항에 있어서, 상기 분리단계는 진동분쇄기, 회전선별기, 비중선별기 및/또는 체를 이용하여 행함을 특징으로 하는 에어로겔 과립 제조방법
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제 8항에 있어서, 상기 분리단계 후에 분리된 큰입자의 에어로겔 과립을 재순환하여 작은 입자로 재분쇄하는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 에어로겔 과립 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 용매치환에 사용된 n-부탄올은 증류공정으로 보내어져 재사용됨을 특징으로 하는 방법
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