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광학적 분석방법을 이용한 센싱 시스템 기술

  • 기술번호 : KST2014027812
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 수발광 일체형 소자에 관한 것으로, 보다 자세하게는 수광소자와 발광소자를 모노리틱(Monolithic)하게 형성하여 콤팩트한 모듈이 가능하며, 금속 그리드(Metal grid)의 형성으로 수광소자의 효율이 우수하고 발광소자에서 나온 광이 수광소자에 직접 입사되는 것을 방지하는 광분리층(Optical isolation layer)을 형성하여 수광소자와 발광소자 간의 크로스토크(Crosstalk)를 줄일 수 있는 수발광 일체형 소자에 관한 것이다. 본 발명의 수발광 일체형 소자는 기판, 상기 기판 하부에 형성되는 제1전극층, 상기 기판 상부에 형성되는 제1N형반도체층, 상기 제1N형반도체층 상부에 형성되는 제1P형반도체층, 상기 제1P형반도체층 상부에 형성되며 발광영역을 정의해주는 제2전극층, 상기 발광영역과 제2전극층이 존재하지 않는 영역에 존재하며 제1P형반도체층 상부에 형성되고 요부와 철부를 갖는 제2N형반도체층, 상기 제2N형반도체층의 철부에 형성되는 제2P형반도체층, 상기 제2N형반도체층의 요부에 형성되는 제3전극층 및 상기 제2P형반도체층 상부에 존재하며 제3전극층과 이격되어 존재하여 수광영역을 정의해주는 제4전극층을 포함함에 기술적 특징이 있다. 수발광, 일체, 모노리틱(monolithic), 크로스토그(crosstalk), 금속 그리드
Int. CL H01L 33/02 (2014.01)
CPC H01L 31/125(2013.01) H01L 31/125(2013.01) H01L 31/125(2013.01) H01L 31/125(2013.01) H01L 31/125(2013.01) H01L 31/125(2013.01) H01L 31/125(2013.01) H01L 31/125(2013.01)
출원번호/일자 1020080094241 (2008.09.25)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-1001185-0000 (2010.12.08)
공개번호/일자 10-2010-0034980 (2010.04.02) 문서열기
공고번호/일자 (20101215) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.09.25)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이준호 대한민국 서울특별시 강서구
2 한철구 대한민국 경기 성남시 분당구
3 송홍주 대한민국 경기도 성남시 분당구
4 노정현 대한민국 경기도 성남시 분당구
5 김시종 대한민국 서울특별시 성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남충우 대한민국 서울 강남구 언주로 ***, *층(역삼동, 광진빌딩)(알렉스국제특허법률사무소)
2 서천석 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로**길 **, *층 (서초동, 서초다우빌딩)(특허법인세하)
3 노철호 대한민국 경기도 성남시 분당구 판교역로 ***, 에스동 ***호(삼평동,에이치스퀘어)(특허법인도담)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.09.25 수리 (Accepted) 1-1-2008-0674984-44
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2009.04.23 수리 (Accepted) 1-1-2009-0247197-69
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.12.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.01.15 수리 (Accepted) 9-1-2010-0004284-23
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.05.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0195321-42
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.07.07 수리 (Accepted) 1-1-2010-0438750-57
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.07.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0438759-67
8 등록결정서
Decision to grant
2010.10.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0469051-13
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
삭제
2 2
기판; 상기 기판 하부에 형성되는 제1전극층; 상기 기판 상부에 형성되는 제1N형반도체층; 상기 제1N형반도체층 상부에 형성되는 제1P형반도체층; 상기 제1P형반도체층 상부에 형성되며 발광영역을 정의해주는 제2전극층; 상기 발광영역과 제2전극층이 존재하지 않는 영역에 존재하며 제1P형반도체층 상부에 형성되고 요부와 철부를 갖는 제2N형반도체층; 상기 제2N형반도체층의 철부에 형성되는 제2P형반도체층; 상기 제2N형반도체층의 요부에 형성되는 제3전극층; 및 상기 제2P형반도체층 상부에 제3전극층과 이격되어 존재하여 수광영역을 정의해주는 제4전극층을 포함하되, 상기 제1P형반도체층과 제2N형반도체층 사이에 에치스탑층을 더 포함하는 수발광 일체형 소자
3 3
제2항에 있어서, 상기 제2P형반도체층 상부에 존재하며 제4전극층에 연결되는 금속 그리드를 더 포함하는 수발광 일체형 소자
4 4
제2항에 있어서, 상기 제2전극층과 제4전극층 사이의 영역을 덮어 수광영역과 발광영역을 광학적으로 분리해주는 광분리층을 더 포함하는 수발광 일체형 소자
5 5
제2항에 있어서, 상기 제1P형반도체층의 상부 또는 제1N형반도체층의 하부에 DBR층을 더 포함하는 수발광 일체형 소자
6 6
제2항에 있어서, 상기 제2P형반도체층의 상부에 DBR층을 더 포함하는 수발광 일체형 소자
7 7
제2항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1전극층, 제2전극층, 제3전극층, 제4전극층 또는 금속 그리드는 Au, Ag, Al, Pt, Cu, Ni, Mo, W, Pd 또는 이들의 합금을 포함하는 수발광 일체형 소자
8 8
제4항에 있어서, 상기 광분리층은 금속 또는 유전체로 이루어진 수발광 일체형 소자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 경기도 전자부품연구원 경기도 차세대 성장동력 기술개발 사업 Resonant cavity형 차세대 나노 수발광 집적모듈개발