맞춤기술찾기

이전대상기술

열 증착법을 이용한 이차전지용 Li-B-W-O계 고체전해질 박막 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2014028247
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 열 증착법을 이용한 이차전지용 Li-B-W-O계 고체 전해질 박막 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 일반식 Lix-By-Wz-Oδ(이때, 0.5≤x≤1.2; 0.5≤y≤1.1; 0.6≤z≤1.5; 및 0.5≤δ≤1.5)의 조성을 가진, 양산 효율이 우수한 이차전지용 고체 전해질 박막 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
Int. CL H01M 10/05 (2010.01) H01M 10/058 (2010.01)
CPC H01M 10/0562(2013.01) H01M 10/0562(2013.01) H01M 10/0562(2013.01) H01M 10/0562(2013.01) H01M 10/0562(2013.01)
출원번호/일자 1020070128818 (2007.12.12)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0946750-0000 (2010.03.03)
공개번호/일자 10-2009-0061847 (2009.06.17) 문서열기
공고번호/일자 (20100311) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.12.12)
심사청구항수 8

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 최지원 대한민국 서울 성동구
2 윤석진 대한민국 서울 도봉구
3 윤영수 대한민국 경기 남양주시
4 김수호 대한민국 인천 남구
5 고재환 대한민국 서울 광진구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 장성구 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))
2 김선장 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***(대치동) 삼성대세빌딩 *층(주식회사젠센)
3 김애라 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *** (역삼동, 한신인터밸리**) 서관 ***호(테라아이피씨특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 인텔렉추얼디스커버리 주식회사 서울특별시 강남구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.12.12 수리 (Accepted) 1-1-2007-0892336-02
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.08.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.09.11 수리 (Accepted) 9-1-2008-0057081-34
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.09.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0389487-37
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.10.26 수리 (Accepted) 1-1-2009-0654984-10
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.10.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0655024-94
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
8 [복대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Sub-agent] Report on Agent (Representative)
2010.01.06 수리 (Accepted) 1-1-2010-0007601-76
9 [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative)
2010.01.06 수리 (Accepted) 1-1-2010-0007621-89
10 등록결정서
Decision to grant
2010.02.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0084506-11
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
일반식 Lix-By-Wz-Oδ로 표현되며, 이때 0
2 2
제 1 항에 있어서, 1
3 3
Li, B, W 및 O의 공급원 분말을 진공 챔버 내의 보트 위에 위치시키고; 상기 분말에 열을 가하여 분말을 증발 또는 승화시킴으로써 기판 상에 일반식 Lix-By-Wz-Oδ(여기서, 0
4 4
삭제
5 5
제 3 항에 있어서, 상기 가열이 전자 빔, 전기 필라멘트 또는 아크(Arc)를 이용하여 수행되는, 이차전지용 고체 전해질 박막의 제조 방법
6 6
제 3 항에 있어서, 상기 진공 챔버에서 압력이 1×10-3 내지 10-10 Torr이고, 온도가 300℃ 내지 1,200℃ 범위에서 제어되는, 이차전지용 고체 전해질 박막의 제조 방법
7 7
제 3 항 또는 제 6 항에 있어서, 상기 공급원 분말을 1×10-3 내지 10-10 Torr의 압력에서 0
8 8
제 3 항에 있어서, 얻어진 고체 전해질이 1
9 9
제 1 항에 따른 고체 전해질 박막을 포함하는 이차전지
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.