1 |
1
전해질 및 금속산화물 미립자들을 포함하는 중공형 입자가 혼합된 것으로서, 상기 중공형 입자는 내부가 비어있는 쉘 구조의 구형 또는 다면체 중공형 입자인 것을 특징으로 하는 복합 전해질
|
2 |
2
제1항에 있어서, 상기 중공형 입자와 상기 전해질의 질량비는 1:1000∼2:1인 것을 특징으로 하는 복합 전해질
|
3 |
3
제1항에 있어서, 상기 중공형 입자의 평균 외경은 50 ㎚∼100 ㎛이고, 상기 금속산화물 미립자의 평균 입경은 1 ㎚∼10 ㎛인 것을 특징으로 하는 복합 전해질
|
4 |
4
제1항에 있어서, 상기 중공형 입자의 평균 껍질 두께는 10 ㎚∼10 ㎛인 것을 특징으로 하는 복합 전해질
|
5 |
5
제1항에 있어서, 상기 금속산화물 미립자는 알루미늄 (Al)산화물, 규소 (Si)산화물, 티타늄 (Ti)산화물, 인듐 (In)산화물, 아연 (Zn)산화물, 주석 (Sn)산화물, 텅스텐 (W)산화물, 납 (Pb)산화물, 마그네슘 (Mg)산화물, 갈륨 (Ga)산화물, 지르코늄 (Zr)산화물, 스트론디움 (Sr)산화물, 몰리브데늄 (Mo)산화물, 바나디움 (V)산화물, 이리듐 (Yr)산화물, 스캔디움 (Sc)산화물, 사마리움 (Sm)산화물, 철티타늄 (FeTi)산화물, 망간티타늄 (MnTi))산화물, 바륨티타늄 (BaTi)산화물 스트론티움티타늄 (SrTi)산화물 중에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 복합물인 것을 특징으로 하는 복합 전해질
|
6 |
6
광전극 기판 및 이에 대향하는 대전극 기판과;
상기 광전극 기판의 안쪽 면 위에 형성된 염료가 흡착된 광 흡수층과;
상기 광 흡수층과 상기 대전극 기판 사이에 주입된 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 복합 전해질;을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지
|
7 |
7
(가) 코어 표면에 금속산화물 미립자들을 흡착시켜 금속산화물 흡착체를 형성한 후, 상기 금속산화물 흡착체로부터 상기 코어를 제거하여 중공형 입자를 얻고,
(나) 상기 중공형 입자를 전해질에 혼합하여 복합 전해질을 얻는 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법
|
8 |
8
제7항에 있어서, 상기 코어는 고분자 혹은 그 유도체, 또는 실리카 혹은 그 유도체인 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법
|
9 |
9
제8항에 있어서, 상기 고분자는 폴리스티렌 (polystyrene), 폴리스티렌/디비닐벤젠 공중합체 (styrene/divinylbenzene copolymer), 폴리메틸메타크릴레이트 (polymethylmethacrylate), 폴리비닐톨루엔 (polyvinyltoluene), 폴리스티렌/부타디엔 공중합체 (styrene/butadiene copolymer) 중에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 복합물인 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법
|
10 |
10
제7항에 있어서, 상기 코어의 평균 입경은 50 ㎚∼100 ㎛인 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법
|
11 |
11
제7항에 있어서, 상기 금속산화물 미립자는 알루미늄 (Al)산화물, 규소 (Si)산화물, 티타늄 (Ti)산화물, 인듐 (In)산화물, 아연 (Zn)산화물, 주석 (Sn)산화물, 텅스텐 (W)산화물, 납 (Pb)산화물, 마그네슘 (Mg)산화물, 갈륨 (Ga)산화물, 지르코늄 (Zr)산화물, 스트론디움 (Sr)산화물, 몰리브데늄 (Mo)산화물, 바나디움 (V)산화물, 이리듐 (Yr)산화물, 스캔디움 (Sc)산화물, 사마리움 (Sm)산화물, 철티타늄 (FeTi)산화물, 망간티타늄 (MnTi))산화물, 바륨티타늄 (BaTi)산화물 스트론티움티타늄 (SrTi)산화물 중에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 복합물인 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법
|
12 |
12
제7항에 있어서, 상기 코어와 상기 금속산화물 미립자의 입경 비는 10:1∼100000:1인 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법
|
13 |
13
제7항에 있어서, 상기 금속산화물 미립자는 알루미늄 (Al)산화물, 규소 (Si)산화물, 티타늄 (Ti)산화물, 인듐 (In)산화물, 아연 (Zn)산화물, 주석 (Sn)산화물, 텅스텐 (W)산화물, 납 (Pb)산화물, 마그네슘 (Mg)산화물, 갈륨 (Ga)산화물, 지르코늄 (Zr)산화물, 스트론디움 (Sr)산화물, 몰리브데늄 (Mo)산화물, 바나디움 (V)산화물, 이리듐 (Yr)산화물, 스캔디움 (Sc)산화물, 사마리움 (Sm)산화물, 철티타늄 (FeTi)산화물, 망간티타늄 (MnTi))산화물, 바륨티타늄 (BaTi)산화물 스트론티움티타늄 (SrTi)산화물 중에서 선택된 어느 하나 또는 둘 이상의 복합물인 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법
|
14 |
14
제7항에 있어서, 상기 금속산화물 흡착체는 건식 방법 또는 습식 방법을 이용하여 형성하고,
상기 건식 방법은, 혼합 기기를 이용한 기계적 흡착, 스퍼터링법 (sputtering), 전자빔증착법 (e-beam evaporation), 열증착법 (thermal evaporation), 레이저분자빔증착법 (laser molecular beam epitaxy), 펄스레이저증착법 (pulsed laser deposition), MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), HVPE (Hydiride vapor phase epitaxy), 일렉트로증착법 (Electro deposition), 아토믹레이어증착법 (atomic layer deposition), MOMBE (Metal-Organic Molecular Beam Epitaxy) 중의 어느 한 방법이고,
상기 습식 방법은, 에멀젼중합법 (emulsion polymerization), 전기영동법 (electrophoresis), 딥코팅법 (dip coating), 표면 작용기 (surface functional group)를 이용한 화학적 흡착법 중의 어느 한 방법인 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법
|
15 |
15
제7항에 있어서, 상기 금속산화물 흡착체로부터 상기 코어를 제거하는 것은 열처리법 또는 용액처리법에 의하여 이루어지고,
상기 열처리법은, 상기 금속산화물 흡착체를 분당 10 ℃ 미만의 속도로 승온시켜 300∼1000 ℃의 온도에서 5분∼48시간 열처리하는 것이고,
상기 용액처리법은 용매로 물, 알코올, 아세톤, 클로로포름, 메틸렌클로라이드, 에틸아세테이트, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 테트라하이드로퓨란, 헥산, 다이에틸에테르, 플루오르화수소산 (hydrofluoric acid) 중 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 이용하는 것을 특징으로 하는 복합 전해질의 제조 방법
|