요약 | 본 발명에 따른 pn접합 GaN 나노막대 LED 제조방법은, n형(220a)은 GaClx 기체와 NH3 기체를 성장용 기판(10)이 장입된 반응기 안으로 공급하여 이들 기체를 400 내지 600℃의 온도범위에서 반응시켜 성장시키고, p형(220b)은 GaClx 기체, NH3 기체, 및 억셉터 함유 기체를 상기 반응기 안으로 공급하여 이들 기체를 400 내지 600℃의 온도범위에서 반응시켜 성장시킴으로써 성장용 기판(10) 상에 pn 접합 나노막대를 형성하는 단계; 성장용 기판(10) 상에 형성된 pn 접합 GaN 나노막대를 잘라내는 단계; 및 상기 잘라내어진 pn 접합 GaN 나노막대에 상기 p형 및 n형 영역에 각각 오믹접촉되는 금속전극(30a, 30b)을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 나노막대, GaN, GaClx, NH3, HVPE, Mg, pn접합, LED, 오믹접촉, |
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Int. CL | H01L 33/00 (2014.01) |
CPC | H01L 33/0075(2013.01) H01L 33/0075(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020020082624 (2002.12.23) |
출원인 | 김화목, 강태원 |
등록번호/일자 | 10-0693129-0000 (2007.03.05) |
공개번호/일자 | 10-2004-0056441 (2004.07.01) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20070313) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | 심판사항 |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2002.12.23) |
심사청구항수 | 6 |