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강유전 반도체 물질을 포함하는 비휘발성 반도체 메모리소자 및 그 반도체 메모리 소자의 데이터 기입, 소거 및판독 방법

  • 기술번호 : KST2014029595
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 각 메모리 셀에 강유전 반도체 물질로 형성된 강유전 반도체 패턴을 포함되어 있는 비휘발성 반도체 메모리 소자 및 그 반도체 메모리 소자에 데이터를 기입하거나 기입된 데이터를 판독하는 방법에 개시한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 비휘발성 반도체 메모리 소자는 기판, 기판에 또는 기판 상에 형성되어 있는 다수의 제1 도전성 라인, 제1 도전성 라인과 이격되어서 기판 상에 또는 기판에 형성되어 있으며, 다수의 제1 도전성 라인 각각과 교차하여 다수의 교차부(intersection region)를 형성하는 다수의 제2 도전성 라인 및 기판 상에 형성되어 있는 다수의 메모리 셀을 포함한다. 그리고, 상기한 다수의 메모리 셀 각각은 다수의 제1 도전성 라인 중의 하나와 다수의 제2 도전성 라인 중의 하나 사이에 개재되어 상기한 교차부에 형성되어 있는 강유전 반도체 패턴을 포함한다. 반도체, 메모리, 비휘발성, 강유전 반도체(Ferro-Electric Semiconductor)
Int. CL H01L 27/105 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020040033799 (2004.05.13)
출원인 학교법인 동국대학교
등록번호/일자 10-0593607-0000 (2006.06.20)
공개번호/일자 10-2005-0108750 (2005.11.17) 문서열기
공고번호/일자 (20060628) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.05.13)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 학교법인 동국대학교 대한민국 서울특별시 중구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이재춘 대한민국 서울특별시서초구
2 후데준 중국 서울특별시중구
3 강태원 대한민국 서울특별시강남구
4 이승주 대한민국 서울특별시 성북구
5 허유범 대한민국 경기도평택시
6 김대훈 대한민국 전라북도 남원시
7 이주원 대한민국 서울특별시마포구
8 이동진 대한민국 전라북도전주시덕진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 리앤목특허법인 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)
2 이해영 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)(리앤목특허법인)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 동국대학교 산학협력단 서울특별시 중구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2004.05.13 수리 (Accepted) 1-1-2004-0201347-72
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2005.09.27 수리 (Accepted) 4-1-2005-5099978-65
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2005.12.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0652586-14
4 의견서
Written Opinion
2006.02.22 수리 (Accepted) 1-1-2006-0129341-00
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.02.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0129342-45
6 등록결정서
Decision to grant
2006.04.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0231486-73
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번호 청구항
1 1
기판;상기 기판에 또는 기판 상에 형성되어 있는 다수의 제1 도전성 라인:상기 제1 도전성 라인과 다른 높이에서 상기 기판 상에 또는 기판에 형성되어 있으며, 상기 다수의 제1 도전성 라인 각각과 교차하여 다수의 교차부(intersection region)를 형성하는 다수의 제2 도전성 라인; 및상기 기판 상에 형성되어 있는 다수의 메모리 셀을 포함하는 비휘발성 반도체 메모리 소자로서, 상기 다수의 메모리 셀 각각은 상기 교차부의 상기 다수의 제1 도전성 라인과 상기 다수의 제2 도전성 라인 사이에 형성되어 있는 강유전 반도체 패턴을 포함하며,강유전 반도체 패턴은 상기 제1 도전성 라인 및 상기 제2 도전성 라인 중의 하나와 접할 때 그 접촉면에서 쇼트키 콘택을 형성하고, 다른 하나와 접할 때는 그 접촉면에서 오믹 콘택을 형성하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 소자
2 2
제1항에 있어서, 상기 강유전 반도체 패턴은 CdZnTe, ZnCdS, CdMnTe, CdMnS, ZnCdSe 및 CdMnSe로 이루어진 군에서 선택된 하나의 물질로 형성된 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 소자
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 제1 도전성 라인은 워드 라인을 형성하고, 상기 제2 도전성 라인은 비트 라인을 형성하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 소자
5 5
비휘발성 반도체 메모리 소자의 메모리 셀에 데이터를 기입하는 방법에 있어서, 상기 비휘발성 반도체 메모리 소자는, 기판; 상기 기판 상에 형성되어 있는 다수의 제1 도전성 라인: 상기 기판 상에 형성되어 있으며, 상기 다수의 제1 도전성 라인 각각과 교차하여 다수의 교차부를 형성하는 다수의 제2 도전성 라인; 및 상기 기판 상에 형성되어 있는 다수의 메모리 셀을 포함하는 반도체 메모리 소자로서, 상기 다수의 메모리 셀 각각은 상기 교차부의 상기 다수의 제1 도전성 라인과 상기 다수의 제2 도전성 라인 사이에 형성되어 있는 강유전 반도체 패턴을 포함하며, 상기 피기입 메모리 셀에 상기 강유전 반도체 패턴의 항복 전압보다 높은 전위차를 인가하여 상기 피기입 메모리 셀에 데이터를 기입하는 비휘발성 반도체 메모리 소자의 데이터 기입 방법
6 6
제5항에 있어서, 상기 강유전 반도체 패턴과 제1 도전성 라인은 쇼트키 콘택을 형성하고, 상기 강유전 반도체 패턴과 상기 제2 도전성 라인은 오믹 콘택을 형성하며, 상기 피기입 메모리 셀에 데이터 "1"을 기입할 때에는, 상기 제1 도전성 라인에 상기 항복 전압보다 높은 전압을 인가하고 상기 제2 도전성 라인에 접지 전압을 인가하며, 상기 피기입 메모리 셀에 데이터 "0"을 기입할 때에는, 상기 제1 도전성 라인에 상기 접지 전압을 인가하고 상기 제2 도전성 라인에 상기 항복 전압보다 높은 전압을 인가하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 소자의 데이터 기입 방법
7 7
비휘발성 반도체 메모리 소자의 메모리 셀에 저장된 데이터를 판독하는 방법에 있어서, 상기 비휘발성 반도체 메모리 소자는, 기판; 상기 기판 상에 형성되어 있는 다수의 제1 도전성 라인: 상기 기판 상에 형성되어 있으며, 상기 다수의 제1 도전성 라인 각각과 교차하여 다수의 교차부(intersection region)를 형성하는 다수의 제2 도전성 라인; 및 상기 기판 상에 형성되어 있는 다수의 메모리 셀; 및 상기 기판 상에 형성되어 있는 다수의 비교 전류 발생회로를 포함하는 반도체 메모리 소자로서, 상기 다수의 메모리 셀 각각은 상기 교차부의 상기 다수의 제1 도전성 라인과 상기 다수의 제2 도전성 라인 사이에 형성되어 있는 강유전 반도체 패턴을 포함하고, 피판독 메모리 셀에 상기 강유전 반도체 패턴의 항복 전압보다 낮은 전위차를 인가했을 때 상기 피판독 메모리 셀에 흐르는 전류와 상기 비교 전류 발생회로에 의하여 발생하는 전류를 비교하여 상기 피판독 메모리 셀에 저장된 데이터를 판독하는 비휘발성 반도체 메모리 소자의 데이터 판독 방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 피판독 메모리 셀에 흐르는 전류가 상기 비교 전류 발생회로에 의하여 발생하는 전류보다 적으면 피판독 메모리 셀에 "1"의 데이터가 저장되어 있는 것으로 판독하고, 상기 피판독 메모리 셀에 흐르는 전류가 상기 비교 전류 발생회로에 의하여 발생하는 전류보다 많으면 피판독 메모리 셀에 "0"의 데이터가 저장되어 있는 것으로 판독하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 소자의 데이터 판독 방법
9 8
제7항에 있어서, 상기 피판독 메모리 셀에 흐르는 전류가 상기 비교 전류 발생회로에 의하여 발생하는 전류보다 적으면 피판독 메모리 셀에 "1"의 데이터가 저장되어 있는 것으로 판독하고, 상기 피판독 메모리 셀에 흐르는 전류가 상기 비교 전류 발생회로에 의하여 발생하는 전류보다 많으면 피판독 메모리 셀에 "0"의 데이터가 저장되어 있는 것으로 판독하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 반도체 메모리 소자의 데이터 판독 방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20050254310 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2005254310 US 미국 DOCDBFAMILY
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