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나노 크기의 방사선 차폐물질을 포함하는 방사선 차폐재 및이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2014029923
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 방사선과의 충돌확률이 증가되도록 10 - 900 nm의 나노 크기로 분쇄된 1.0 - 20.0 중량%의 방사선 차폐물질을 80.0 - 99.0 중량%의 고분자 기재 또는 금속 기재에 분산시킨 방사선 차폐재 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상기 나노 크기의 방사선 차폐물질은 고분자 기재 또는 금속기재와 동일 또는 친화도가 높은 계면활성제로 표면 처리 후 상기 고분자 또는 금속 기재와 분말혼합 또는 용융혼합하여 균일하게 분산시켜 방사선 흡수능이 향상된 차폐재 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 나노 크기의 방사선 차폐물질이 균일하게 분산된 기재로 구성되는 본 발명에 따른 방사선 차폐재는 마이크로 이상의 크기를 갖는 방사선 차폐물질로 구성되는 차폐재에 비하여 방사선이 차폐물질과 충돌하는 확률을 증가시키고, 그 결과 차폐재 내에서 방사선의 평균자유경로를 감소시켜 종래의 방사선 차폐재보다 우수한 방사선 차폐효과를 나타낼 뿐만 아니라, 동일한 밀도인 경우 본 발명에 따른 차폐재는 그 두께 및 부피를 감소시킬 수 있기 때문에 차폐재의 경량화를 달성할 수 있으며, 나아가 차폐재 내의 기공 발생을 최소화함으로써 기공의 존재로 인한 차폐효과의 저하 및 차폐재의 물성 저하를 방지하여, 사용후 핵연료 수송/저장 용기 등에 유용하게 사용될 수 있다. 방사선 차폐, 중성자 차폐, 방사선, 보론, 고분자 기재, 금속 기재, 고분자 나노복합재
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) G21F 1/08 (2011.01) G21F 1/06 (2011.01)
CPC
출원번호/일자 1020080106438 (2008.10.29)
출원인 한국원자력연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2010-0047510 (2010.05.10) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 취하
심사진행상태 취하
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020120084185;
심사청구여부/일자 Y (2008.12.10)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김재우 대한민국 대전 유성구
2 엄영랑 대한민국 대전광역시 유성구
3 이병철 대한민국 대전광역시 유성구
4 정진우 대한민국 서울특별시 서대문구
5 이창규 대한민국 대전광역시 유성구
6 이민구 대한민국 대전광역시 유성구
7 이희민 대한민국 서울특별시 마포구
8 이상훈 대한민국 대전광역시 동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.10.29 취하 (Withdrawal) 1-1-2008-0751589-52
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2008.12.10 수리 (Accepted) 1-1-2008-0850336-63
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.05.24 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.06.17 수리 (Accepted) 9-1-2010-0038097-22
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.09.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0435285-59
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.10.18 수리 (Accepted) 1-1-2010-0670745-15
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.10.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0670746-50
8 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2011.02.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0108979-80
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.04.13 수리 (Accepted) 1-1-2011-0271332-04
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.04.13 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2011-0271333-49
11 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2011.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0631411-04
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.12.28 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2011-1044211-43
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2011-1044197-91
14 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.05.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0317604-66
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2012-5134067-95
16 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2012.07.31 보정각하 (Rejection of amendment) 7-1-2012-0036247-49
17 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2012.07.31 수리 (Accepted) 1-1-2012-0614614-10
18 보정각하결정서
Decision of Rejection for Amendment
2012.08.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0481564-85
19 심사전치출원의 심사결과통지서
Notice of Result of Reexamination
2012.08.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0481565-20
20 [특허 등 절차 취하]취하(포기)서
[Withdrawal of Procedure such as Patent, etc.] Request for Withdrawal (Abandonment)
2012.08.28 수리 (Accepted) 1-1-2012-0692834-54
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.16 수리 (Accepted) 4-1-2014-5109542-64
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
방사선과의 충돌확률이 증가되도록 10 - 900 nm의 나노 크기로 분쇄된 1
2 2
제1항에 있어서, 상기 방사선은 중성자 또는 감마선인 것을 특징으로 하는 방사선 흡수능이 개선된 차폐재
3 3
제1항에 있어서, 상기 방사선이 중성자인 경우, 상기 나노입자는 보론, 리튬, 가돌리늄, 사마륨, 유로퓸, 카드뮴 및 디스프로슘으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 또는 이를 포함하는 화합물, 또는 이들의 혼합인 것을 특징으로 하는 방사선 흡수능이 개선된 차폐재
4 4
제1항에 있어서, 상기 방사선이 감마선인 경우, 상기 나노입자는 납, 철 및 텅스텐으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나 또는 이를 포함하는 화합물, 또는 이들의 혼합인 것을 특징으로 하는 방사선 흡수능이 개선된 차폐재
5 5
제1항에 있어서, 상기 고분자 기재는 폴리비닐알콜(PVA), 폴리에틸렌(PE), 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 에폭시(Epoxy), 및 합성고무, 천연고무, 실리콘계 고무 및 불소계 고무로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나의 고무로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나의 고분자인 것을 특징으로 하는 방사선 흡수능이 개선된 차폐재
6 6
제1항에 있어서, 상기 금속 기재는 스테인레스 스틸, 알루미늄, 티타늄, 지르코늄, 스칸듐, 이트륨, 코발트, 크롬, 니켈, 탄탈륨, 몰리브덴 및 텅스텐으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나 또는 이들의 합금인 것을 특징으로 하는 방사선 흡수능이 개선된 차폐재
7 7
제1항에 있어서, 상기 고분자 기재 또는 금속 기재와 동일 또는 친화도가 높은 계면활성제를 이용하여 나노분말을 표면처리하는 경우, 나노입자가 응집에 의해 재성장하는 것을 방지하기 위해 재분쇄 과정을 수반하는 것을 특징으로 하는 방사선 흡수능이 개선된 차폐재
8 8
제1항 또는 제7항에 있어서, 상기 분쇄 또는 재분쇄는 볼 밀링에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 방사선 흡수능이 개선된 차폐재
9 9
제1항에 있어서, 상기 고분자 기재와 동일 또는 친화도가 높은 계면활성제는 폴리비닐알콜(PVA), 폴리에틸렌(PE), 에폭시(Epoxy) 및 고무(rubber)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나이고, 상기 금속 기재와 동일 또는 금속 기재와 친화도가 높은 계면활성제는 스테인리스 스틸, 알루미늄, 텅스텐, 티타늄 및 니켈로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 방사선 흡수능이 개선된 차폐재
10 10
제1항에 있어서, 상기 나노 크기의 방사선 차폐물질은 차폐재의 두께 및 부피를 감소시키는 것을 특징으로 하는 방사선 흡수능이 개선된 차폐재
11 11
제1항에 있어서, 상기 차폐재는 방사선 피복의류, 사용후 핵연료 수송/저장 용기; 사용후 핵연료 저장고; 사용후 핵연료 재처리 시설; 가속기를 포함하는 방사선 발생시설; 방사성 물질의 수송/저장용기; 항공우주선, 인공위성을 포함하는 우주 방사선 차폐부, 및 무기체계의 방사선 차폐부로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 1 이상의 방사선 차폐 부위에 사용되는 것을 특징으로 하는 방사선 흡수능이 개선된 차폐재
12 12
방사선 차폐물질을 나노 크기의 입자로 분쇄하는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 분쇄된 나노 크기의 방사선 차폐물질을 고분자 기재 또는 금속기재와 동일 또는 친화도가 높은 계면활성제와 혼합하여 코팅(표면처리)시킴과 동시에 재분쇄시키는 단계(단계 2); 및 상기 단계 2에서 제조된 나노크기의 방사선 차폐물질을 고분자 기재 또는 금속 기재 상에 균일하게 분산시키는 단계(단계 3)를 포함하는 제1항의 방사선 흡수능이 개선된 차폐재의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR101272883 KR 대한민국 FAMILY
2 KR101460691 KR 대한민국 FAMILY
3 US08318045 US 미국 FAMILY
4 US20100102279 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2010102279 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US8318045 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.