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수소 투과 방지막

  • 기술번호 : KST2014029989
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 수소가 막을 투과하여 확산 배출되는 것과 수소이온이 물질 내부로의 확산으로 인한 재료의 수소취성을 방지하는 하기 위한 수소 투과 방지막에 관한 것으로, 상세하게는 p형 불순물이 도핑된 반도체층과 n형 불순물이 도핑된 반도체층의 빌트 인 전위 및 역방향 바이어스에 의해 인가된 전위에 의해 수소 이온의 투과를 방지하며, 수소 분자를 흡착하는 흡착층을 구비하여 수소 분자의 투과를 일차적으로 방지하며, 상기 흡착층을 전도성 물질로 구성하여 상기 역방향 바이어스의 인가 전극으로 사용함과 동시에 흡착층 내에 흡착된 수소의 이온화를 야기하여 수소 분자의 투과를 이차적으로 방지 및 수소취성을 방지 하는데 특징이 있다. 수소가스, 수소 이온, 수소 분자, 투과, 확산, 수소취성, 배출, 반도체, 역방향 바이어스
Int. CL B01D 63/00 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020080091158 (2008.09.17)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-0976196-0000 (2010.08.10)
공개번호/일자 10-2010-0032153 (2010.03.25) 문서열기
공고번호/일자 (20100817) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.09.17)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김용일 대한민국 대전시 서구
2 김인중 대한민국 대전 서구
3 이윤희 대한민국 대전시 서구
4 이경석 대한민국 대전시 유성구
5 남승훈 대한민국 대전시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김종관 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
2 박창희 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)
3 권오식 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.09.17 수리 (Accepted) 1-1-2008-0654710-94
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.06.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.07.14 수리 (Accepted) 9-1-2009-0041945-93
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.09.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0568518-17
5 등록결정서
Decision to grant
2010.07.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0325841-33
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2014-5004381-25
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
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번호 청구항
1 1
순차적으로 적층된 n형 반도체층; p형 반도체층; 및 상기 n형 반도체층 및 p형 반도체층 각각에 외부 전압을 인가하는 전극;을 포함하여 구비된 복합막으로, 상기 n형 반도체층 및 p형 반도체층의 빌트인 전위(built-in potential), 또는 상기 빌트인 전위 및 상기 전극을 통해 인가된 역방향 전압(reverse bias)에 의한 인가 전위에 의해, 양이온으로 이온화된 수소의 p형 반도체층으로의 투과가 방지되는 것을 특징으로 하는 수소 투과 방지막
2 2
제 1항에 있어서, 상기 수소 투과 방지막은 상기 p형 반도체층 상부로 형성된 수소 흡착층;을 더 포함하며, 상기 수소 흡착층에 수소 분자가 흡착되는 것을 특징으로 하는 수소 투과 방지막
3 3
제 2항에 있어서, 상기 수소 흡착층이 전도성 막이며, 상기 수소흡착층이 p형 반도체에 외부전압을 인가하는 전극인 것을 특징으로 하는 수소 투과 방지막
4 4
제 3항에 있어서, 상기 수소 흡착층에서 수소분자의 이온화가 수행되는 것을 특징으로 하는 수소 투과 방지막
5 5
제 1항 내지 제 4항에서 선택된 어느 한 항에 있어서, 상기 n형 반도체층은 n형 유기 반도체층이며, 상기 p형 반도체층은 p형 유기 반도체층인 것을 특징으로 하는 수소 투과 방지막
6 6
제 2항 또는 제 3항에 있어서, 상기 수소 흡착층은 전도성 고분자, ITO(Indium-Tin Oxide), FTO(F-doped SnO2), ZnO, TiO2, 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 수소 투과 방지막
7 7
제 5항에 있어서, 상기 n형 반도체층은 C60 및 그 유도체, 페릴렌(Perylene) 및 그 유도체, 폴리티오펜 및 그 유도체, 폴리티오펜-헤테로고리방향족 공중합체 및 그 유도체, 폴리페난트롤린 및 그 유도체, 및 n형 고분자 군에서 하나 이상 선택된 물질인 것을 특징으로 하는 수소 투과 방지막
8 8
제 5항에 있어서, 상기 p형 반도체층은 폴리티오펜 및 그 유도체, 금속 프탈로시아닌, 폴리파라페닐렌비닐렌 및 그 유도체, 및 p형 고분자 군에서 하나 이상 선택된 물질인 것을 특징으로 하는 수소 투과 방지막
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1 US08481999 US 미국 FAMILY
2 US20110175078 US 미국 FAMILY
3 WO2010032944 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
4 WO2010032944 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2011175078 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US8481999 US 미국 DOCDBFAMILY
3 WO2010032944 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
4 WO2010032944 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국표준과학연구원 안전계측기술개발 수소재료 in-situ거동 측정기술개발