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1차 가스에 고주파 전압을 인가하여 플라즈마를 발생시키기 위한 전극부; 및
1차 가스에 고주파 전압을 인가하여 발생된 플라즈마 영역에서의 화학종과 반응하기 위한 2차 가스를 공급하기 위한 2차 가스 공급관을 포함하고,
상기 전극부는 상기 플라즈마 발생을 위한 플라즈마 영역으로 유입되는 상기 1차 가스의 흐름에 평행하게 배치되고,
상기 전극부는 고주파 전압 인가를 위한 전극과 접지 전압 인가를 위한 전극을 교대로 배치하여 구성되고, 상기 전극부를 구성하는 각각의 전극은 상기 1차 가스의 흐름에 대해 서로 평행하게 배치되는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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1차 가스에 고주파 전압을 인가하여 플라즈마를 발생시키는 상압 플라즈마 발생장치에 있어서:
상기 플라즈마가 발생되는 플라즈마 영역;
상기 1차 가스가 충전되는 1차 가스 영역;
상기 플라즈마 영역에서 생성된 화학종과 반응하기 위한 2차 가스가 충전되는 2차 가스 영역;
상기 1차 가스 영역과 상기 2차 가스 영역을 구획하는 가스 혼합 방지판;
상기 플라즈마 영역과 상기 1차 가스 영역을 구획하며, 상기 1차 가스를 상기 플라즈마 영역으로 공급하기 위한 경로를 제공하는 다공판;
상기 플라즈마 영역으로 공급된 1차 가스에 상기 고주파 전압을 인가하기 위한 전극부; 및
상기 2차 가스를 상기 플라즈마 영역으로 공급하기 위한 2차 가스 공급관을 포함하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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청구항 3에 있어서,
상기 2차 가스 공급관은, 상기 가스 혼합 방지판 및 상기 다공판을 관통하며, 일단은 상기 2차 가스 영역에 노출되고, 타단은 상기 플라즈마 영역에 노출되는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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청구항 3에 있어서,
상기 2차 가스 공급관은 상기 가스 혼합 방지판 및 상기 다공판을 관통하는 슬릿형 관으로서, 일단은 상기 2차 가스 영역에 노출되고, 타단은 상기 플라즈마 영역에 노출되되,
상기 플라즈마 영역에 노출된 부분에는 2차 가스 유출공이 형성되는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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청구항 3 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전극부는
고주파 전압을 인가하기 위한 적어도 하나 이상의 제1 전극; 및
접지 전압을 인가하기 위한 적어도 하나 이상의 제2 전극을 포함하며,
상기 제1 전극 및 상기 제2 전극이 교대로 배치되는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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청구항 6에 있어서,
상기 제2 전극과 접지단 사이에 연결되는 바이폴라 트랜지스터를 포함하되,
상기 바이폴라 트랜지스터의 콜렉터단은 상기 제2 전극에 연결되고, 에미터단은 상기 접지단에 연결되며, 베이스단에는 상기 제2 전극에 축적된 전하가 상기 접지단으로 흐르도록 하기 위한 소정의 베이스 전압이 선택적으로 인가되는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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청구항 3 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전극부는 적어도 하나 이상의 제1 전극과 적어도 하나 이상의 제2 전극을 포함하고,
상기 제1 전극에는 고주파 전압이 인가되고 상기 제2 전극에는 접지 전압이 인가되는 제1 작동모드와, 상기 제1 전극에는 상기 접지 전압이 인가되고 상기 제2 전극에는 상기 고주파 전압이 인가되는 제2 작동모드를 주기적으로 갖도록 스위칭하기 위한 절환 스위치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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청구항 5에 있어서,
상기 전극부는 상기 슬릿형 관의 표면에 부착 또는 패터닝되는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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청구항 5에 있어서,
상기 슬릿형 관은 유전체 재질이고, 상기 전극부는 상기 슬릿형 관의 내측에 부착 또는 패터닝되는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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1차 가스에 고주파 전압을 인가하여 플라즈마를 발생시키는 상압 플라즈마 발생장치에 있어서:
상기 플라즈마가 발생되는 플라즈마 영역;
상기 1차 가스가 충전되는 1차 가스 영역;
상기 플라즈마 영역과 상기 1차 가스 영역을 구획하며, 상기 1차 가스를 상기 플라즈마 영역으로 공급하기 위한 경로를 제공하는 다공판;
상기 플라즈마 영역으로 공급된 1차 가스에 상기 고주파 전압을 인가하기 위한 전극부; 및
상기 플라즈마 영역에서 생성된 화학종과 반응시킬 2차 가스를 상기 플라즈마 영역으로 공급하기 위한 2차 가스 공급관을 포함하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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1차 가스에 고주파 전압을 인가하여 플라즈마를 발생시키기 위한 플라즈마 발생 모듈을 포함하는 상압 플라즈마 발생장치에 있어서:
상기 플라즈마 발생 모듈은,
상기 플라즈마 발생을 위한 플라즈마 영역으로 상기 1차 가스를 공급하고, 상기 플라즈마 영역에서 생성된 화학종과 반응하도록 2차 가스를 공급하기 위한 가스공급유닛; 및
상기 플라즈마 영역으로 공급된 1차 가스에 상기 고주파 전압을 인가하기 위한 전극유닛을 포함하고,
상기 플라즈마 발생 모듈은 두 개 이상이고,
상기 두 개 이상의 플라즈마 발생 모듈들 내의 각각의 가스공급유닛은
상기 1차 가스가 충전되는 1차 가스 영역;
상기 플라즈마 영역에서 생성된 화학종과 반응하기 위한 2차 가스가 충전되는 2차 가스 영역;
상기 1차 가스 영역과 상기 2차 가스 영역을 구획하는 가스 혼합 방지판; 및
상기 플라즈마 영역과 상기 1차 가스 영역을 구획하며, 상기 1차 가스를 상기 플라즈마 영역으로 공급하기 위한 경로를 제공하는 다공판을 포함하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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청구항 12에 있어서,
상기 두 개 이상의 플라즈마 발생 모듈들 내의 각각의 전극유닛은 해당 플라즈마 발생 모듈 내의 플라즈마 영역으로 유입되는 상기 1차 가스의 흐름과 평행하게 배치되는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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청구항 14에 있어서,
상기 두 개 이상의 플라즈마 발생 모듈들 내의 각각의 전극유닛은,
고주파 전압을 인가하기 위한 제1 전극; 및
접지 전압을 인가하기 위한 제2 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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청구항 15에 있어서,
상기 두 개 이상의 플라즈마 발생 모듈들 중 서로 이웃하는 플라즈마 발생 모듈들은, 각각의 전극 유닛의 제1 전극 또는 제2 전극이 상기 서로 이웃하는 플라즈마 발생 모듈들에 의해 공유되도록 배치되는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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청구항 12에 있어서,
상기 두 개 이상의 플라즈마 발생 모듈들 내의 각각의 가스공급유닛은,
상기 1차 가스 영역으로 상기 1차 가스를 공급하기 위한 1차 가스 공급관; 및
상기 2차 가스를 상기 플라즈마 영역으로 공급하기 위한 2차 가스 공급관을 포함하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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청구항 18에 있어서,
상기 2차 가스 공급관은, 상기 가스 혼합 방지판 및 상기 다공판을 관통하며, 일단은 상기 2차 가스 영역에 노출되고, 타단은 상기 플라즈마 영역에 노출되는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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청구항 12에 있어서,
상기 두 개 이상의 플라즈마 발생 모듈들의 각각의 가스공급유닛들 중의 적어도 두 개 이상은,
가스의 종류, 농도 및 유량 중 적어도 어느 하나가 상이한 2차 가스를 상기 플라즈마 영역으로 공급하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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청구항 12에 있어서,
상기 두 개 이상의 플라즈마 발생 모듈들은,
전극의 재료, 전극의 형태, 전극간 간격, 및 전극에 인가되는 전력의 양태 중 적어도 어느 하나에 있어서 상이한 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생장치
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