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검출 소자

  • 기술번호 : KST2014031358
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 검출 소자는 유체 내의 특정 작용기에 반응하는 반응 물질층, 절연층의 상하에 위치한 제1 전극과 제2 전극을 포함하며, 상기 반응 물질층 하부에 상기 제1 전극이 형성되어 있는 검출 커패시터, 그리고 상기 검출 커패시터의 상기 제1 전극과 연결되어 있는 게이트 전극을 포함하는 전계 효과 트랜지스터를 포함하며, 상기 반응 물질층은 표면적을 넓히기 위한 전도성 입체 구조 형태를 가진다. 따라서 전하집적부의 전도성 입체구조물의 표면적을 넓히고 유체의 흐름에 대해 입체적으로 형성함으로써, 커패시터 공유 효과 및 게이트에 인가되는 전압 변화량을 극대화함으로써 훨씬 높은 고민감도를 가질 수 있다. 검출 소자, 바이오 센서, 전계효과 트랜지스터
Int. CL G01N 27/26 (2006.01) G01N 27/327 (2006.01) G01N 33/53 (2006.01) G01N 33/48 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020080098141 (2008.10.07)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-1056385-0000 (2011.08.05)
공개번호/일자 10-2010-0038961 (2010.04.15) 문서열기
공고번호/일자 (20110812) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.10.07)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 안창근 대한민국 대전 유성구
2 박찬우 대한민국 대전 유성구
3 양종헌 대한민국 대전 서구
4 백인복 대한민국 충북 청주시 흥덕구
5 아칠성 대한민국 대전 서구
6 김안순 대한민국 대전 중구
7 김태엽 대한민국 서울 은평구
8 성건용 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신영무 대한민국 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.10.07 수리 (Accepted) 1-1-2008-0699450-16
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.10.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.11.10 수리 (Accepted) 9-1-2009-0060177-24
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0546038-69
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.01.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0050176-05
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2011-0050163-12
8 등록결정서
Decision to grant
2011.07.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0415675-28
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1
유체 내의 특정 작용기에 반응하는 반응 물질층, 절연층의 상하에 위치한 제1 전극과 제2 전극을 포함하며, 상기 반응 물질층하부에 상기 제1 전극이 형성되어 있는 검출 커패시터, 그리고 상기 검출 커패시터의 상기 제1 전극과 연결되어 있는 게이트 전극을 포함하는 전계 효과 트랜지스터 를 포함하며, 상기 반응 물질층은 전도성 물질로 이루어지며 표면적을 넓히기 위한 입체 구조를 갖는 검출 소자
2 2
제1항에 있어서, 상기 제2 전극은, 상기 전계 효과 트랜지스터의 소스 전극과 전도적으로 연결되며, 상기 전계효과 트랜지스터의 기판보다 전도성이 높은 전도성 물질로 형성되는 검출 소자
3 3
제2항에 있어서, 상기 제1 전극은, 상기 게이트 전극과 동일한 물질로 형성되는 검출 소자
4 4
제1항에 있어서, 상기 검출 커패시터의 절연층 두께가 상기 전계효과 트랜지스터의 게이트 절연층보다 더 두꺼운 검출 소자
5 5
제4항에 있어서, 상기 검출 커패시터의 커패시턴스가, 상기 전계효과 트랜지스터의 게이트 커패시턴스의 1/5보다 작은 검출 소자
6 6
제1항에 있어서, 상기 전계효과 트랜지스터는 상기 게이트 전극의 전하량의 변화에 의해 전류가 흐르는 소스/드레인 전극, 상기 소스/드레인 전극 및 채널을 덮으며 형성되는 게이트 절연층, 그리고 상기 게이트 절연층 위에 형성되며, 상기 검출 커패시터의 일전극과 연결되어 있는 상기 게이트 전극 을 포함하는 검출 소자
7 7
제1항에 있어서, 상기 입체 구조는 망사형 또는 기둥형인 검출 소자
8 8
제7항에 있어서, 상기 전도성 물질로 이루어지며 입체 구조를 갖는 반응 물질층은 망사형의 금속 나노 와이어 구조물로 형성되는 검출 소자
9 9
제1항에 있어서, 상기 검출 커패시터의 절연층은 검출하려는 유체를 내부로 이동시키는 평판 형태를 가지며, 상기 제1 전극은 상기 절연층의 상부로 접하는 평판 형태를 가지며, 상기 제2 전극은 상기 절연층의 하부로 접하는 평판 형태를 가지며, 상기 전도성 물질로 이루어지며 입체 구조를 갖는 반응 물질층은 상기 제1 전극의 상부에 위치하는 검출 소자
10 10
제9항에 있어서, 상기 검출 커패시터의 절연층은 고분자 합성수지 혹은 유리로 이루어지며, 상기 제1 전극 및 제2 전극은 금속으로 이루어지는 검출 소자
11 11
제1항에 있어서, 상기 검출 커패시터의 절연층은 검출하려는 유체를 내부로 이동시키는 도관 형태를 가지며, 상기 제1 전극은 상기 절연층의 안쪽으로 접하는 도관 형태를 가지며, 상기 제2 전극은 상기 절연층의 바깥쪽으로 접하는 도관 형태를 가지며, 상기 전도성 물질로 이루어지며 입체 구조를 갖는 반응 물질층은 상기 제1 전극의 안쪽에 위치하는 검출 소자
12 12
제11항에 있어서, 상기 검출 커패시터의 절연층은 고분자 합성수지로 이루어지며, 상기 제1 전극 및 제2 전극은 금속으로 이루어지는 검출 소자
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3 WO2010041805 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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