요약 | 본 발명은 콘덴서형 음향 센서에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시 예에 따른 음향 센서는, 기판의 상부가 식각되어 형성된 음향 챔버; 상기 기판 상에 형성되며 상기 음향 챔버가 노출되도록 중앙 영역이 식각된 절연막; 상기 절연막 상에 형성된 진동판; 상기 절연막 상에서 상기 진동판을 지지하는 자가 유지 지지대; 및 상기 진동판 상에 형성된 고정 전극을 포함한다. 상술한 바와 같은 본 발명에 따르면 지지대 및 진동판의 좌우 운동으로 인한 비선형 성분을 제거하여 음압 응답 특성을 향상시킬 수 있고, 기판의 후면 공정을 생략할 수 있어 공정이 간단해지고 수율이 향상되는 이점이 있다. 음향 센서, 자가 유지 지지대 |
---|---|
Int. CL | H04R 19/04 (2006.01) G01H 11/06 (2006.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020090123740 (2009.12.14) |
출원인 | 한국전자통신연구원 |
등록번호/일자 | 10-1300749-0000 (2013.08.21) |
공개번호/일자 | 10-2011-0067235 (2011.06.22) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20130828) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2009.12.14) |
심사청구항수 | 20 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국전자통신연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 이재우 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
2 | 박강호 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
3 | 김종대 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 신영무 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국전자통신연구원 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2009.12.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0769244-16 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2013.01.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2013.02.06 | 수리 (Accepted) | 9-1-2013-0008710-80 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2013.02.15 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0103997-10 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2013.04.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0287536-09 |
6 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2013.04.02 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2013-0287562-86 |
7 | 등록결정서 Decision to grant |
2013.08.19 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0567345-11 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.02.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-0006137-44 |
번호 | 청구항 |
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1 |
1 기판의 상부가 식각되어 형성된 음향 챔버(chamber); 상기 기판 상에 형성되며 상기 음향 챔버가 노출되도록 중앙 영역이 식각된 절연막; 상기 절연막 상에 형성된 진동판; 및 상기 진동판 상에 형성된 고정 전극을 포함하는 음향 센서 |
2 |
2 제 1 항에 있어서, 상기 절연막과 상기 진동판 사이에 형성된 진동판 갭(gap)을 더 포함하는 음향 센서 |
3 |
3 제 2 항에 있어서, 상기 절연막 상에서 상기 진동판을 지지하는 자가 유지 지지대를 더 포함하는 음향 센서 |
4 |
4 제 3 항에 있어서, 상기 자가 유지 지지대는 상기 진동판의 가장 자리 안쪽에 형성된음향 센서 |
5 |
5 제 3 항에 있어서, 상기 자가 유지 지지대는 상기 진동판과 일체로 형성된음향 센서 |
6 |
6 제 1 항에 있어서, 상기 고정 전극 상에 패턴을 가지고 형성된 에칭 홀을 더 포함하는 음향 센서 |
7 |
7 제 1 항에 있어서, 상기 고정 전극은 상기 절연막 상에서 상기 진동판을 둘러싸는 형태로 형성된 음향 센서 |
8 |
8 제 7 항에 있어서, 상기 진동판과 상기 고정 전극 사이에 형성된 고정 전극 갭을 더 포함하는 음향 센서 |
9 |
9 제 7 항에 있어서, 상기 고정 전극의 외주면과 상기 기판 사이에 형성된 에칭 윈도우를 더 포함하는 음향 센서 |
10 |
10 제 1 항에 있어서, 상기 진동판은 절연층과 전도층의 적층 구조인음향 센서 |
11 |
11 기판 상에 절연막을 형성하는 단계; 상기 절연막의 중앙 영역을 식각하여 음향 챔버 오픈 패턴을 형성하는 단계; 상기 절연막 상에 진동판을 형성하는 단계; 상기 진동판 상에 고정 전극을 형성하는 단계; 및 상기 기판의 상부를 식각하여 상기 음향 챔버 오픈 패턴에 의하여 노출되는 음향 챔버를 형성하는 단계를 포함하는 음향 센서의 제조 방법 |
12 |
12 제 11 항에 있어서, 상기 진동판을 형성하는 단계는, 상기 절연막과 간격을 갖도록 상기 진동판을 형성하는 단계를 포함하는 음향 센서의 제조 방법 |
13 |
13 제 12 항에 있어서, 상기 진동판을 형성하는 단계는, 상기 음향 챔버 오픈 패턴과 상기 절연막을 덮는 제 1 희생층을 형성하는 단계; 상기 제 1 희생층 상에 상기 진동판을 형성하는 단계; 및 상기 제 1 희생층을 식각하여 제거하는 단계를 포함하는 음향 센서의 제조 방법 |
14 |
14 제 11 항에 있어서, 상기 절연막 상에 상기 진동판의 지지를 위한 자가 유지 지지대를 형성하는 단계를 더 포함하는 음향 센서의 제조 방법 |
15 |
15 제 14 항에 있어서, 상기 자가 유지 지지대를 형성하는 단계는, 상기 진동판과 상기 자가 유지 지지대를 동일한 식각 공정에 의하여 형성하는 단계인음향 센서의 제조 방법 |
16 |
16 제 11 항에 있어서, 상기 고정 전극을 형성하는 단계는, 상기 진동판과 간격을 갖도록 상기 고정 전극을 형성하는 단계를 포함하는 음향 센서의 제조 방법 |
17 |
17 제 16 항에 있어서, 상기 고정 전극을 형성하는 단계는, 상기 진동판을 덮도록 상기 기판 상에 제 2 희생층을 형성하는 단계; 상기 제 2 희생층 상에 상기 고정 전극을 형성하는 단계; 및 상기 제 2 희생층을 식각하여 제거하는 단계를 포함하는 음향 센서의 제조 방법 |
18 |
18 제 17 항에 있어서, 상기 고정 전극을 형성하는 단계는, 상기 고정 전극 상에 패턴을 갖는 에칭 홀을 형성하는 단계를 더 포함하는 음향 센서의 제조 방법 |
19 |
19 제 16 항에 있어서, 상기 고정 전극을 형성하는 단계는, 상기 절연막 상에서 상기 고정 전극이 상기 진동판을 둘러싸는 형태로 상기 고정 전극을 형성하는 단계를 포함하는 음향 센서의 제조 방법 |
20 |
20 제 19 항에 있어서, 상기 고정 전극을 형성하는 단계는, 상기 절연막과 상기 고정 전극의 외주면 사이에 패턴을 갖는 에칭 윈도우를 형성하는 단계를 더 포함하는 음향 센서의 제조 방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
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순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US20110141854 | US | 미국 | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US2011141854 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 지식경제부 | 한국전자통신연구원 | IT성장동력기술개발 | 유비쿼터스 단말용 부품 모듈 |
특허 등록번호 | 10-1300749-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20091214 출원 번호 : 1020090123740 공고 연월일 : 20130828 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20130819 청구범위의 항수 : 20 유별 : H04R 19/04 발명의 명칭 : 음향 센서 및 이의 제조 방법 존속기간(예정)만료일 : 20160822 |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국전자통신연구원 대전광역시 유성구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 412,500 원 | 2013년 08월 22일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2009.12.14 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0769244-16 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2013.01.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 | 2013.02.06 | 수리 (Accepted) | 9-1-2013-0008710-80 |
4 | 의견제출통지서 | 2013.02.15 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0103997-10 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2013.04.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0287536-09 |
6 | [명세서등 보정]보정서 | 2013.04.02 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2013-0287562-86 |
7 | 등록결정서 | 2013.08.19 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0567345-11 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.02.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-0006137-44 |
기술번호 | KST2014031763 |
---|---|
자료제공기관 | NTB |
기술공급기관 | 한국전자통신연구원 |
기술명 | 음향 센서 및 이의 제조 방법 |
기술개요 |
본 발명은 콘덴서형 음향 센서에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시 예에 따른 음향 센서는, 기판의 상부가 식각되어 형성된 음향 챔버; 상기 기판 상에 형성되며 상기 음향 챔버가 노출되도록 중앙 영역이 식각된 절연막; 상기 절연막 상에 형성된 진동판; 상기 절연막 상에서 상기 진동판을 지지하는 자가 유지 지지대; 및 상기 진동판 상에 형성된 고정 전극을 포함한다. 상술한 바와 같은 본 발명에 따르면 지지대 및 진동판의 좌우 운동으로 인한 비선형 성분을 제거하여 음압 응답 특성을 향상시킬 수 있고, 기판의 후면 공정을 생략할 수 있어 공정이 간단해지고 수율이 향상되는 이점이 있다. 음향 센서, 자가 유지 지지대 |
개발상태 | 기술개발완료 |
기술의 우수성 | |
응용분야 | |
시장규모 및 동향 | |
희망거래유형 | 기술매매 |
사업화적용실적 | |
도입시고려사항 |
과제고유번호 | 1415100592 |
---|---|
세부과제번호 | KI001602 |
연구과제명 | 유비쿼터스단말용부품/모듈 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
연구주관기관명 | 한국전자통신연구원 |
성과제출연도 | 2009 |
연구기간 | 200603~201002 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
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