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기판 상에 단층그래핀이 형성되어 있되 그 단층그래핀의 면적이 1~1
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제 2항에 있어서, 상기 기판은 광학유리인 것을 특징으로 하는 포화흡수체
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제 2항에 있어서, 상기 기판은 반사 거울인 것을 특징으로 하는 포화흡수체
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a) 금속 박막 코팅된 기판 상에 그래핀을 형성시키는 단계;b) 상기 그래핀 상에 스탬프 물질을 코팅하고 금속 박막을 에칭하여 그래핀/스탬프 복합체와 기판을 분리시킴으로써 그래핀/스탬프 복합체를 얻는 단계;c) 또 다른 기판상에 상기 그래핀/스탬프 복합체를 스탬핑하는 단계;d) 상기 스탬프를 제거하는 단계를 포함하는 포화흡수체의 제조 방법
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제 5항에 있어서, 상기 a) 단계는 500 ~ 2000℃의 온도에서 금속 박막 코팅된 기판위에 C1 ~ C10의 알칸, 수소, 아르곤을 포함하는 혼합기체를 흘려주면서 탄소를 증착한 후, 10 ~ 50 ℃로 냉각하는 것을 특징으로 하는 포화흡수체의 제조 방법
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제 5항에 있어서, 상기 a) 단계에서 상기 기판은 Si/SiO2인 것을 특징으로 하는 포화흡수체의 제조 방법
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제 5항에 있어서, 상기 a) 단계에서 금속 박막은 Cu, Ni, Co, Fe, Pt Au, Al, Cr, Mg, Mn, Mo, Rh, Si, Ta, Ti, W, U, V, 또는 Zr인 것을 특징으로 하는 포화흡수체의 제조 방법
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제 6항에 있어서, 냉각 시 -5 ~ -50 ℃/초의 속도로 냉각하는 것을 특징으로 하는 포화흡수체의 제조 방법
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제 6항에 있어서, C1 ~ C10의 알칸은 메탄인 것을 특징으로 하는 포화흡수체의 제조 방법
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제 6항에 있어서, 상기 C1 ~ C10의 알칸, 수소, 아르곤 혼합기체는 아르곤 100 중량부에 대하여 C1 ~ C10의 알칸 1 ~ 50 중량부, 수소 1 ~ 50 중량부로 혼합된 것을 특징으로 하는 포화흡수체의 제조 방법
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제 5항에 있어서, 상기 b) 단계에서 스탬프 물질은 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA, Polymethylmethacrylate), 또는 폴리디메틸실록산(PDMS, poly(dimethylsiloxane))인 것을 특징으로 하는 포화흡수체의 제조 방법
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제 5항에 있어서, 상기 c) 단계는 그래핀/스탬프 복합체를 기판 상에 올려놓은 후, 50 ~ 100 ℃에서 열을 가하는 것을 특징으로 하는 포화흡수체의 제조 방법
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제 5항에 있어서, 상기 스탬프를 제거하는 단계는 아세톤을 사용하여 제거하는 것을 특징으로 하는 포화흡수체의 제조 방법
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제 2 항 내지 제 4 항 중에서 선택된 어느 한 항의 포화흡수체를 포함하는 고체레이저
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제 15항에 있어서, 상기 고체레이저는 이터븀(Yb), 크롬(Cr), 툴륨(Tm), 티타늄(Ti) 또는 홀륨(Ho)이 도핑된 고체레이저인 것을 특징으로 하는 고체레이저
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