1 |
1
상호 대향 배치된 제1 및 제2 전극; 및
상기 제1 및 제2 전극 사이에 위치하는 광전변환층
을 포함하며,
상기 광전변환층은,
자성 및 전도성 고분자 나노막대로 이루어지되, 상기 자성 및 전도성 고분자 나노막대가 상기 제1 및 제2 전극 표면에 대해 수직하게 배열된 나노막대층; 및
상기 나노막대층의 빈 공간을 매립하는 전도성 고분자층 또는 유기물층
을 포함하는 태양전지
|
2 |
2
제1항에 있어서,
상기 자성 및 전도성 고분자 나노막대는,
전도성 고분자 나노막대;
상기 전도성 고분자 나노막대의 일단부에 형성된 제1 자성체; 및
상기 전도성 고분자 나노막대의 타단부에 형성된 제2 자성체
를 포함하는 태양전지
|
3 |
3
제2항에 있어서,
상기 전도성 고분자 나노막대간 간격이 500 nm 이하이고, 상기 전도성 고분자 나노막대의 길이가 30 내지 2000 nm인 태양전지
|
4 |
4
제2항에 있어서,
상기 제1 및 제2 자성체가, 각각 독립적으로 니켈(Ni), 철(Fe), 크롬(Cr) 및 코발트(Co), 및 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상으로 이루어진 태양전지
|
5 |
5
제2항에 있어서,
상기 전도성 고분자 나노막대가 전자공여체이고, 상기 전도성 고분자층 또는 유기물층이 전자수용체이거나, 또는 상기 전도성 고분자 나노막대가 전자수용체이고, 상기 전도성 고분자층 또는 유기물층이 전자공여체인 태양전지
|
6 |
6
제1 전극이 형성된 기재를 준비하는 단계;
자성 및 전도성 고분자 나노막대를 준비하는 단계;
상기 제1 전극 표면에 대해 수직하게 배열된 상기 자성 및 전도성 고분자 나노막대로 이루어진 나노막대층을 상기 제1 전극 상에 형성하는 단계;
상기 나노막대층의 빈 공간을 매립하는 전도성 고분자층 또는 유기물층을 형성하는 단계; 및
상기 전도성 고분자층 또는 유기물층 상에 제2 전극을 형성하는 단계
를 포함하는 태양전지 제조 방법
|
7 |
7
제6항에 있어서,
상기 자성 및 전도성 고분자 나노막대를 준비하는 단계는,
나노 다공성 템플레이트를 준비하는 단계;
상기 나노 다공성 템플레이트의 다공 내부에 제1 자성체를 형성하는 단계;
상기 제1 자성체가 형성된 상기 나노 다공성 템플레이트의 다공 내부에 전도성 고분자 나노막대를 형성하는 단계; 및
상기 전도성 고분자 나노막대가 형성된 상기 나노 다공성 템플레이트의 다공 내부에 제2 자성체를 형성하는 단계
를 포함하는 태양전지 제조 방법
|
8 |
8
제7항에 있어서,
상기 나노 다공성 템플레이트가 양극산화 알루미늄 템플레이트인 태양전지 제조 방법
|
9 |
9
제6항에 있어서,
상기 나노막대층을 상기 제1 전극 상에 형성하는 단계는,
상기 제1 전극 상에 상기 자성 및 전도성 고분자 나노막대를 위치시킨 후, 상기 자성 및 전도성 고분자 나노막대에 자장을 인가하는 단계
를 포함하는 태양전지 제조 방법
|