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CCD 공정을 이용한 리튬 이온의 흡착/탈착 방법

  • 기술번호 : KST2014034057
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 CCD 방식으로 흡착 및 탈착 공정을 수행함으로써 흡착율 65±5% 및 탈착율 95±3%를 달성할 수 있는 염수로부터 리튬 이온을 추출할 수 있는 리튬 이온의 흡착/탈착 방법에 대하여 개시한다. 본 발명에 따른 CCD 공정을 이용한 리튬 이온의 흡착/탈착 방법은 복수의 흡착 반응 용기 중 하나의 흡착 반응 용기 내에 염수를 공급하는 염수 공급 단계; 상기 염수가 공급된 흡착 반응 용기에 흡착제를 투입한 후, 상기 염수와 흡착제가 상기 복수의 흡착 반응 용기 내부 각각을 차례로 역류하도록 하여 상기 흡착제에 리튬 이온을 흡착하는 리튬 이온 흡착 단계; 및 상기 리튬 이온이 흡착된 흡착제가 복수의 탈착 반응 용기 내부 각각을 차례로 역류하도록 하여 상기 흡착제로부터 리튬 이온을 탈착하는 리튬 이온 탈착 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Int. CL C22B 3/24 (2006.01) B01D 15/08 (2006.01) C02F 1/58 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020100119159 (2010.11.26)
출원인 한국지질자원연구원
등록번호/일자 10-1047986-0000 (2011.07.04)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20110713) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.11.26)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국지질자원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이진영 대한민국 대전광역시 유성구
2 정경우 대한민국 대전광역시 서구
3 김준수 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유한) 대아 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, 한양빌딩*층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국지질자원연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.11.26 수리 (Accepted) 1-1-2010-0777769-20
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2010.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2010-0809646-19
3 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search		 2010.12.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search		 2010.12.15 수리 (Accepted) 9-1-2010-0075277-56
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.02.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0060391-30
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2011.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2011-0234878-08
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2011.04.29 수리 (Accepted) 1-1-2011-0320714-70
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.05.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0410316-45
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.05.31 수리 (Accepted) 1-1-2011-0410315-00
10 등록결정서
Decision to grant		 2011.07.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0365703-13
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2014-0097650-21
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.07.19 수리 (Accepted) 4-1-2017-5114414-50
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번호 청구항
1 1
복수의 흡착 반응 용기 중 하나의 흡착 반응 용기 내에 염수를 공급하는 염수 공급 단계;상기 염수가 공급된 흡착 반응 용기에 흡착제를 투입한 후, 상기 염수와 흡착제가 상기 복수의 흡착 반응 용기 내부 각각을 차례로 역류하도록 하여 상기 흡착제에 리튬 이온을 흡착하는 리튬 이온 흡착 단계; 및상기 리튬 이온이 흡착된 흡착제가 복수의 탈착 반응 용기 내부 각각을 차례로 역류되도록 하여 상기 흡착제로부터 리튬 이온을 탈착하는 리튬 이온 탈착 단계;를 포함하며,상기 염수가 공급된 흡착 반응 용기에 흡착제를 투입한 후, 상기 염수 및 흡착제를 교반자에 의하여 회전시켜, 상기 흡착제가 상기 복수의 흡착 반응 용기 내부 각각에서 침강되거나, 또는 부유되지 않는 중간 상태가 되도록 하되,상기 흡착제는 망간 산화물 또는 알루미늄 산화물이고, 상기 흡착제의 평균 입도는 1 ~ 50㎛이며, 탈착 용액은 염산, 황산 및 질산을 포함하는 강산 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 CCD 공정을 이용한 리튬 이온의 흡착/탈착 방법
2 2
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3 3
제1항에 있어서, 상기 망간 산화물은 화학식 HnMn2-xO4(여기서, 1≤n≤1
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제1항에 있어서, 상기 복수의 흡착 반응 용기는 제1 내지 제3 흡착 반응 용기로 이루어지는 것을 특징으로 하는 CCD 공정을 이용한 리튬 이온의 흡착/탈착 방법
7 7
제6항에 있어서, 상기 리튬 이온 흡착 단계는, 상기 제1 흡착 반응 용기 내에 채워진 염수 및 흡착제가 1차적으로 역류하도록 하여 상기 흡착제에 리튬 이온이 1차적으로 흡착되는 제1 흡착 단계;상기 제1 흡착 단계를 거친 반응물을 제2 흡착 반응 용기에 투입시킨 후, 상기 반응물이 2차적으로 역류하도록 하여 상기 흡착제에 리튬 이온이 2차적으로 흡착되는 제2 흡착 단계; 및상기 제2 흡착 단계를 거친 반응물을 제3 흡착 반응 용기에 투입시킨 후, 상기 반응물이 3차적으로 역류하도록 하여 상기 흡착제에 리튬 이온이 3차적으로 흡착되는 제3 흡착 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 CCD 공정을 이용한 리튬 이온의 흡착/탈착 방법
8 8
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제1항에 있어서, 상기 복수의 탈착 반응 용기는 제1 내지 제3 탈착 반응 용기로 이루어지는 것을 특징으로 하는 CCD 공정을 이용한 리튬 이온의 흡착/탈착 방법
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흡착제에 리튬 이온을 흡착시키기 위해 투입되는 염수와 흡착제가 각각의 내부에서 차례로 역류하도록 서로 연결되는 복수의 흡착 반응 용기; 및상기 복수의 흡착 반응 용기 하류에 배치되며, 상기 흡착제로부터 리튬 이온을 탈착시키기 위해 상기 복수의 흡착 반응 용기와 연결되는 연결 라인을 통하여 상기 복수의 흡착 반응 용기로부터 빠져나온 리튬 이온이 흡착된 흡착제가 각각의 내부에서 차례로 역류하도록 서로 연결되는 복수의 탈착 반응 용기;를 포함하며,상기 염수 및 흡착제는 교반자에 의하여 회전되어, 상기 흡착제가 상기 복수의 흡착 반응 용기 내부 각각에서 침강되거나, 또는 부유되지 않는 중간 상태가 되도록 하되, 상기 흡착제는 망간 산화물 또는 알루미늄 산화물이고, 상기 흡착제의 평균 입도는 1 ~ 50㎛이며, 탈착 용액은 염산, 황산 및 질산을 포함하는 강산 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 CCD 공정을 이용한 리튬 이온의 흡착/탈착 장치
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제11항에 있어서, 상기 망간 산화물은 화학식 HnMn2-xO4(여기서, 1≤n≤1
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제11항에 있어서, 상기 복수의 흡착 반응 용기는 제1 내지 제3 흡착 반응 용기로 이루어지는 것을 특징으로 하는 CCD 공정을 이용한 리튬 이온의 흡착/탈착 장치
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제11항에 있어서, 상기 복수의 탈착 반응 용기는 제1 내지 제3 탈착 반응 용기로 이루어지는 것을 특징으로 하는 CCD 공정을 이용한 리튬 이온의 흡착/탈착 장치
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1 CN102918170 CN 중국 FAMILY
2 EP02644720 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 US09771632 US 미국 FAMILY
4 US20130001168 US 미국 FAMILY
5 WO2012070769 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN102918170 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 CN102918170 CN 중국 DOCDBFAMILY
3 EP2644720 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
4 EP2644720 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
5 US2013001168 US 미국 DOCDBFAMILY
6 US9771632 US 미국 DOCDBFAMILY
7 WO2012070769 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국지질자원연구원 기본사업 홍천 희토류 광화대 복합금속광으로부터 유가금속 회수기술 개발