| 1 |
1
조작변수의 수가 종속변수의 수보다 많으며, 짧은 샘플링 시간을 갖는 회분공정의 제어 시스템에 있어서,
저주파 필터를 통해 상기 종속변수의 설정궤도를 부드러운 설정궤도로 변환하는 설정부;
상기 회분공정의 주기에 따라 종속변수 값을 통하여 인가 조작변수의 바이어스 값을 계산하는 반복학습 제어기;
상기 조작변수의 변화량이 최소가 되도록 하며, 상기 계산된 조작변수 바이어스 값에 현재 조작변수가 수렴하도록 조작변수를 계산하는 델타형 선형이차 가우시안 제어기; 및
실시간 측정 종속변수를 이용하여 상기 델타형 선형이차 가우시안 제어기의 상태를 보정하는 상태추정기를 포함하는 것을 특징으로 하는 델타형 모델기반 공정제어 시스템
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,
상기 샘플링 시간(h)은,
(여기서, 는 공정의 시정수, 는 공정의 샘플링 시간, 는 공정의 시정수와 공정의 샘플링 시간의 비율이다
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,
상기 회분공정은 상기 조작변수가 열원에 인가되는 전력값이고, 상기 종속변수는 처리대상물의 온도를 나타내는 열처리 공정인 것을 특징으로 하는 델타형 모델기반 공정제어 시스템
|
| 4 |
4
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 설정부는 상기 델타형 선형이차 가우시안 제어기가 과도응답이 없는 설정궤도로 변환하는 것을 특징으로 하는 델타형 모델기반 공정제어 시스템
|
| 5 |
5
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 상태 추정기는 칼만 필터(Kalman filter; KF)를 포함하는 것을 특징으로 하는 델타형 모델기반 공정제어 시스템
|
| 6 |
6
조작변수의 수가 종속변수의 수보다 많으며, 짧은 샘플링 시간을 갖는 회분공정의 제어방법에 있어서,
(a) 운전자에 의해 입력된 설정궤도를 델타형 선형이차 가우시안 제어기가 과도응답 없이 추적할 수 있도록 저주파 필터를 통해 변환하는 단계;
(b) 반복학습 제어기가 조작변수의 편차를 계산하는 단계;
(c) 상기 델타형 선형이차 가우시안 제어기가 앞먹임(feedforward) 신호를 계산하는 단계;
(d) 상기 델타형 선형이차 가우시안 제어기가 설정궤도를 추적하기 위한 상기 조작변수를 계산하는 단계; 및
(e) 상태추정기가 측정된 출력값을 이용하여 상기 델타형 가우시안 제어기의 상태를 추정하여 공정을 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 델타형 모델기반 공정 제어방법
|
| 7 |
7
제6항에 있어서,
상기 샘플링 시간(h)은,
(여기서, 는 공정의 시정수, 는 공정의 샘플링 시간, 는 공정의 시정수와 공정의 샘플링 시간의 비율이다
|
| 8 |
8
제7항에 있어서,
상기 공정은 반도체 소자의 열처리 공정인 것을 특징으로 하는 델타형 모델기반 공정 제어방법
|
| 9 |
9
제8항에 있어서,
회분마다 상기 반도체 소자를 가열시 온도 측정장치가 설치되지 않은 어느 하나의 지점에서 상기 반도체 소자의 상부에 산소층의 두께를 측정하여 상기 지점에서의 온도를 계산하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 델타형 모델기반 공정 제어방법
|
| 10 |
10
제9항에 있어서,
상기 델타형 선형이차 가우시안 제어기의 목적함수를
(여기서, 은 한 회분의 마지막 시점에서의 제어오차에 대한 가중치 행렬이고, 는 한 회분의 마지막 시점을 제외한 나머지 시점에서의 제어오차에 대한 가중치 행렬이며, 은 상기 반도체 소자의 가열원인 램프 전력의 변화량에 대한 가중치 행렬이다
|
| 11 |
11
제6항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (e) 단계에서 상기 상태 추정기는 칼만 필터를 이용하여 상기 델타형 선형이차 가우시안 제어기의 상태를 보정하는 것을 특징으로 하는 델타형 모델기반 공정 제어방법
|
