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마이크로렌즈 제조 방법에 있어서,적어도 하나의 패턴이 형성되어 있는 기판을 제공하는 공정;상기 기판의 표면을 개질하는 공정;상기 표면이 개질된 기판을 가열하는 공정;상기 패턴 위에 적어도 하나의 제1 액체 방울을 배치하는 공정;상기 기판 및 상기 제1 액체 방울 위에 제1 액체 방울과 혼합되지 않고 경화성을 갖는 제2 액체를 배치하는 공정; 및상기 제2 액체를 경화시켜 적어도 하나의 제1 마이크로렌즈를 형성하는 공정을 포함하는 방법으로,상기 기판과 상기 제1 액체 방울과의 접촉각은, 상기 표면 개질 공정 및 상기 기판의 가열 공정 중 적어도 어느 하나에 의하여 제어되는 방법
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제1항에 있어서,상기 접촉각은 상기 패턴의 표면에너지, 상기 패턴과 상기 제1 액체 방울 사이의 계면에너지 및 상기 제1 액체 방울의 표면장력에 의하여 제어되는 방법
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제1항에 있어서,상기 표면 개질하는 공정은 플라즈마 처리에 의하여 상기 패턴의 상기 표면을 개질하는 방법
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제1항에 있어서,상기 표면 개질하는 공정은 상기 패턴의 상기 표면을 친수성으로 개질하는 공정을 포함하며,상기 제1 액체 방울은 물방울, 수용액 방울 및 글리세롤 방울 중에서 선택된 어느 하나이며, 상기 패턴은 소수성 표면을 가지는 방법
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제6항에 있어서,상기 제1 액체 방울을 배치하는 공정은 소정의 시간이 경과한 후에 상기 패턴 위에 상기 제1 액체 방울을 배치하는 공정을 포함하고,상기 소정의 시간은 표면 개질된 상기 패턴의 상기 표면의 적어도 일부분이 소수성으로 복원되는 시간 초과이고, 표면 개질된 상기 패턴의 상기 표면의 전부가 소수성으로 복원되는 시간 이하이며,상기 소정의 시간을 조절하여 상기 표면과 상기 제1 액체 방울 사이의 접촉각을 조절하는 방법
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제1항에 있어서,상기 제2 액체를 배치하는 공정은상기 기판 및 상기 제1 액체 방울을 상기 제2 액체에 침지하는 공정; 및상기 제2 액체에 존재하는 기포를 제거하는 공정을 포함하는 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 마이크로렌즈 위에 제3 액체를 배치하는 공정; 및상기 제3 액체를 경화시켜 적어도 하나의 제2 마이크로렌즈를 형성하는 공정을 더 포함하는 방법
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제1항, 제2항, 제4항 및 제6항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제2 액체는 PDMS를 포함하는 방법
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제1항, 제2항, 제4항 및 제6 내지 제9항 중 어느 한 항에 의하여 제조된 마이크로렌즈
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청구항 11항의 마이크로렌즈를 포함하는 라이트 유닛
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