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기판 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계;상기 형성된 포토레지스트층에 3차원 광간섭 리소그래피를 이용하여 3차원 광간섭 패턴을 조사함으로써 3차원 다공성 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계;상기 형성된 3차원 다공성 포토레지스트 패턴에 무기물을 코팅하는 단계;상기 무기물이 코팅된 포토레지스트 패턴을 가열하여 탄화시키는 단계; 및상기 코팅된 무기물을 제거하여 다공성 탄소 구조체를 수득하는 단계를 포함하는,광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 3차원 다공성 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계는, 상기 3차원 광간섭 패턴이 조사된 상기 포토레지스트 층을 현상하는 것을 추가 포함하는 것인, 광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 3차원 광간섭 패턴은, 상기 포토레지스트 층에 광로차를 갖는 4개의 간섭성 평행광을 조사하여 형성되는 것인, 광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제 3 항에 있어서,상기 형성되는 3차원의 다공성 포토레지스트 패턴의 격자 상수는, 상기 조사되는 간섭성 평행광의 입사각에 따라 조절되는 것인, 광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제 3 항에 있어서,상기 형성되는 3차원의 다공성 포토레지스트 패턴의 기공 크기는, 상기 조사되는 간섭성 평행광의 세기 및 조사 시간에 따라 조절되는 것인, 광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 3차원 다공성 포토레지스트 패턴은, 상기 포토레지스트층에 3차원의 기공이 규칙적으로 배열된 3차원 면심입방 구조로 형성되는 것인, 광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 무기물을 코팅하는 단계는, 상기 포토레지스트 패턴의 표면에 수분을 흡착시킨 후 무기물 전구체를 포함하는 증기(vapor)에 노출하는 것을 1 회 이상 수행하고, 소결 공정에 의하여 수분을 제거함으로써 무기물을 코팅하는 것을 포함하는 것인, 광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 무기물은, 실리카, 타이타니아, 지르코니아, 알루미나, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것인, 광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 3차원 다공성 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계는, 상기 포토레지스트층에 서로 상이한 주기를 갖는 두 개 이상의 3차원 광간섭 패턴을 중첩 조사하여 상기 포토레지스트층에 멀티스케일 격자 패턴을 형성하는 것을 포함하는 것인, 광간섭 리소그래피를 이용한 다공성 탄소 구조체의 제조 방법
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제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의하여 제조되어 균일한 3차원 기공 배열을 가지며, 탄화 처리되어 96% 이상의 탄소를 함유하는, 다공성 탄소 구조체
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