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광간섭 리소그래피에 의한 멀티스케일 격자 패턴 형성 방법 (METHOD OF FORMING MULTI-SCALE LATTICE PATTERN BY USING HOLOGRAPHIC LITHOGRAPHY)

  • 기술번호 : KST2014034527
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 광간섭 리소그래피에 의한 멀티스케일 격자 패턴 형성 방법으로서, 서로 상이한 차원 또는 주기의 광간섭 패턴을 가지는 두 개 이상의 간섭광을 형성하는 단계; 및 상기 두 개 이상의 간섭광을 기판 상에 형성된 포토레지스트층에 중첩하여 조사함으로써 상기 포토레지스트층에 멀티스케일 격자 패턴을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 7/70408(2013.01) G03F 7/70408(2013.01) G03F 7/70408(2013.01)
출원번호/일자 1020100005613 (2010.01.21)
출원인 서강대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1105378-0000 (2012.01.05)
공개번호/일자 10-2011-0085696 (2011.07.27) 문서열기
공고번호/일자 (20120116) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.01.21)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서강대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 마포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 문준혁 대한민국 서울특별시 구로구
2 진우민 대한민국 부산광역시 해운대구
3 신주환 대한민국 서울특별시 송파구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인엠에이피에스 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **, *층 (역삼동, 한동빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서강대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 마포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2010-0041768-78
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2011.02.08 수리 (Accepted) 1-1-2011-0089013-74
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.04.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0223690-11
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.06.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0482060-73
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2011-0482059-26
6 등록결정서
Decision to grant		 2011.12.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0719795-40
7 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2012.08.08 수리 (Accepted) 1-1-2012-0633434-88
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.11 수리 (Accepted) 4-1-2017-5005781-67
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.01.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5014626-89
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
서로 상이한 차원 또는 주기의 광간섭 패턴을 가지는 두 개 이상의 간섭광을 형성하는 단계; 및기판 상에 형성된 포토레지스트층에 상기 두 개 이상의 간섭광을 중첩하여 조사함으로써 상기 포토레지스트층에 멀티스케일 격자 패턴을 형성하는 단계:를 포함하며,상기 두 개 이상의 간섭광의 각각은 광로차를 갖는 복수의 평행광을 간섭시켜 형성되는 것이며,상기 두 개 이상의 간섭광의 각각은, 광로차를 갖는 2개의 평행광을 간섭시켜 형성된 1차원 형상의 광간섭 패턴을 가지는 간섭광; 광로차를 갖는 3개의 평행광을 간섭시켜 형성된 2차원 형상의 광간섭 패턴을 가지는 간섭광; 또는, 광로차를 갖는 4개의 평행광을 간섭시켜 형성된 3차원 형상의 광간섭 패턴을 가지는 간섭광인, 광간섭 리소그래피에 의한 멀티스케일 격자 패턴 형성 방법
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제 1 항에 있어서,상기 형성되는 멀티스케일 격자 패턴의 격자 상수는, 상기 포토레지스트층에 중첩하여 조사되는 상기 두 개 이상의 간섭광 각각의 입사각에 의하여 조절되는 것인, 광간섭 리소그래피에 의한 멀티스케일 격자 패턴 형성 방법
5 5
제 1 항에 있어서,상기 형성되는 멀티스케일 격자 패턴의 크기는, 상기 포토레지스트층에 중첩하여 조사되는 상기 두 개 이상의 간섭광 각각의 조사 시간에 의하여 조절되는 것인, 광간섭 리소그래피에 의한 멀티스케일 격자 패턴 형성 방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 포토레지스트층에 중첩하여 조사되는 상기 두 개 이상의 간섭광은 각각 순차적으로 또는 동시에 조사되는 것인, 광간섭 리소그래피에 의한 멀티스케일 격자 패턴 형성 방법
7 7
제 1 항에 있어서,상기 두 개 이상의 간섭광이 조사된 상기 포토레지스트층을 현상하는 것을 추가 포함하는, 광간섭 리소그래피에 의한 멀티스케일 격자 패턴 형성 방법
8 8
제 7 항에 있어서,상기 포토레지스트층을 현상한 후, 상기 포토레지스트층에 형성된 멀티스케일 격자 패턴을 통하여 상기 포토레지스트층 하부의 기판의 일부 영역을 에칭한 후 상기 포토레지스트층을 제거함으로써 상기 기판 상에 멀티스케일 격자 패턴을 형성하는 것을 추가 포함하는, 광간섭 리소그래피에 의한 멀티스케일 격자 패턴 형성 방법
9 9
제 1 항에 있어서,상기 두 개 이상의 간섭광을 형성하는 단계는, 하나의 평행광을 광선 분리기(beam splitter)를 이용하여 광로차를 갖는 복수의 평행광으로 분할하고, 상기 분할된 평행광을 이용하여 간섭광을 형성하는 것을 포함하는, 광간섭 리소그래피에 의한 멀티스케일 격자 패턴 형성 방법
10 10
광로차를 갖는 복수의 평행광을 간섭시켜 광간섭 패턴을 가지는 제 1 간섭광을 형성하는 단계;광로차를 갖는 복수의 평행광을 간섭시켜, 상기 제 1 간섭광과 상이한 차원 또는 주기를 갖는 광간섭 패턴을 가지는 제 2 간섭광을 형성하는 단계; 및기판 상에 형성된 포토레지스트층에 상기 제 1 간섭광 및 제 2 간섭광을 중첩하여 조사함으로써 상기 포토레지스트층에 멀티스케일 격자 패턴을 형성하는 단계:를 포함하며,상기 제 1 간섭광 및 제 2 간섭광 각각은, 광로차를 갖는 2개의 평행광을 간섭시켜 형성된 1차원 형상의 광간섭 패턴을 가지는 간섭광; 광로차를 갖는 3개의 평행광을 간섭시켜 형성된 2차원 형상의 광간섭 패턴을 가지는 간섭광; 또는, 광로차를 갖는 4개의 평행광을 간섭시켜 형성된 3차원 형상의 광간섭 패턴을 가지는 간섭광인,광간섭 리소그래피에 의한 멀티스케일 격자 패턴 형성 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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