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스팀 플라즈마 토치

  • 기술번호 : KST2014034718
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 작업 매체로 스팀을 사용한 스팀 플라즈마 토치에 관한 것으로서, 상기 스팀 플라즈마 토치는, 길이를 가지고 일측에 팁이 형성되며 음극 전원과 전기적으로 연결되는 전극봉; 상기 전극봉의 길이 방향으로 상기 전극봉을 둘러싸며, 상기 전극봉과의 사이에 제1 공간을 형성하고, 양극 전원과 전기적으로 연결되는 중공형 제1 덮개; 상기 길이 방향으로 상기 제1 덮개를 둘러싸며 상기 제1 덮개와의 사이에 제2 공간을 형성하는 중공형 제2 덮개; 및 상기 제1 덮개의 일측에 결합되며, 상기 팁을 따라 단면이 축소되고 하단에 노즐 기부를 가지며, 상기 노즐 기부상에 제1 노즐목이 형성되는 제1 노즐과, 상기 제2 덮개의 일측에 결합되며, 상기 제1 노즐을 따라 단면이 축소되고 하단에서 상기 제1 노즐의 상기 노즐 기부까지 하방으로 개방된 공간을 형성하도록 노즐 측부를 가지며, 상기 노즐 측부의 상부에 제2 노즐목이 형성되고 상기 노즐 측부의 하부에 제3 노즐목이 형성되며, 상기 제2 노즐목은 상기 제2 공간을 지나는 관을 통해 외부의 스팀 발생기와 연결되는 제2 노즐로 구성되는 노즐부를 포함한다. 플라즈마, 토치, 스팀
Int. CL H05H 1/32 (2006.01) H05H 1/24 (2006.01) H05H 1/26 (2006.01)
CPC H05H 1/34(2013.01) H05H 1/34(2013.01) H05H 1/34(2013.01) H05H 1/34(2013.01) H05H 1/34(2013.01)
출원번호/일자 1020090106778 (2009.11.06)
출원인 (주)리뉴에너지, 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1092494-0000 (2011.12.05)
공개번호/일자 10-2011-0049983 (2011.05.13) 문서열기
공고번호/일자 (20111213) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.11.06)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 (주)리뉴에너지 대한민국 경기도 수원시 장안구
2 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김성훈 대한민국 서울특별시 관악구
2 손민규 대한민국 서울특별시 서대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인세신 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 *** (가산동, 월드메르디앙벤처센터II)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 (주)리뉴에너지 대한민국 경기도 수원시 장안구
2 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.11.06 수리 (Accepted) 1-1-2009-0682487-31
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.01.26 수리 (Accepted) 4-1-2010-5014531-18
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2010.11.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2010.12.16 수리 (Accepted) 9-1-2010-0078366-36
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.01.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0014588-15
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.01.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0067109-43
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.01.27 수리 (Accepted) 1-1-2011-0067110-90
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.07.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0406430-49
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.07.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0587625-43
10 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status		 2011.10.24 수리 (Accepted) 1-1-2011-0829135-93
11 등록결정서
Decision to grant		 2011.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0709261-03
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.06.27 수리 (Accepted) 4-1-2012-5137276-45
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.06 수리 (Accepted) 4-1-2014-5001983-86
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
작업 매체로 스팀을 사용한 스팀 플라즈마 토치로서, 길이 방향의 일측에 팁이 형성되고 음극 전원과 전기적으로 연결되는 전극봉; 상기 전극봉의 길이 방향으로 상기 전극봉을 둘러싸며, 상기 전극봉과의 사이에 제1 공간을 형성하고, 양극 전원과 전기적으로 연결되는 중공형 제1 덮개; 상기 길이 방향으로 상기 제1 덮개를 둘러싸며 상기 제1 덮개와의 사이에 제2 공간을 형성하는 중공형 제2 덮개; 및 상기 제1 덮개의 일측에 결합되며, 상기 팁을 따라 단면이 축소되고 하단에 노즐 기부를 가지며, 상기 노즐 기부 상에 제1 노즐목이 형성되는 제1 노즐과, 상기 제2 덮개의 일측에 결합되며, 상기 제1 노즐을 따라 단면이 축소되고 하단에서 상기 제1 노즐의 상기 노즐 기부까지 하방으로 개방된 공간을 형성하도록 노즐 측부를 가지며, 상기 노즐 측부의 상부에 제2 노즐목이 형성되고 상기 노즐 측부의 하부에 제3 노즐목이 형성되며, 상기 제2 노즐목은 상기 제2 공간을 지나는 관을 통해 외부의 스팀 발생기와 연결되는 제2 노즐로 구성되는 노즐부를 포함하는 것을 특징으로 하는 스팀 플라즈마 토치
2 2
제1항에 있어서, 상기 제2 덮개와 상기 노즐부에는 냉각 라인들이 각각 형성되며 상기 냉각 라인들은 서로 연통되는 것을 특징으로 하는 스팀 플라즈마 토치
3 3
제1항에 있어서, 상기 관을 통해 상기 제2 노즐목으로 H2, H20 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나 이상을 공급하는 것을 특징으로 하는 스팀 플라즈마 토치
4 4
제1항에 있어서, 상기 제2 노즐목과 상기 제3 노즐목은 좌우 대칭되게 상기 노즐 기부 상에 각각 형성되는 것을 특징으로 하는 스팀 플라즈마 토치
5 5
제1항에 있어서, 상기 제1 공간을 통해 상기 제1 노즐목으로 비이송식 플라즈마 아크 방전을 형성하기 위한 가스가 공급되는 것을 특징으로 하는 스팀 플라즈마 토치
6 6
제5항에 있어서, 상기 가스는 Ar을 포함하는 것을 특징으로 하는 스팀 플라즈마 토치
7 7
제1항에 있어서, 상기 제2 공간을 통해 상기 제3 노즐목으로 이송식 플라즈마 아크 방전을 형성하기 위한 가스가 공급되는 것을 특징으로 하는 스팀 플라즈마 토치
8 8
제7항에 있어서, 상기 가스는 Ar을 포함하는 것을 특징으로 하는 스팀 플라즈마 토치
9 9
제1항에 있어서, 상기 제1 덮개는 단열 물질로 이루어지고 상기 제2 덮개 및 상기 노즐부는 열전도체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 스팀 플라즈마 토치
10 10
제1항에 있어서, 상기 전극봉 내부에 냉각 구조가 형성되는 것을 특징으로 하는 스팀 플라즈마 토치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.