맞춤기술찾기

이전대상기술

무전해 도금을 이용한 실리콘 박막 태양 전지 소자 및 이의 제작 방법

  • 기술번호 : KST2014035190
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 실리콘 박막을 가지는 태양 전지 소자 및 그 제작 방법에 관한 것으로, 이러한 본 발명은 기판 상에 광전 전환의 역할을 수행하는 비정질 특성을 가지는 비정질 실리콘층을 형성하는 과정과, 상기 비정질 실리콘층상에 무전해 도금 방법으로 메탈 촉매층을 형성하는 과정과, 상기 메탈 촉매층이 형성된 비정질 실리콘층을 열처리하여 다결정 실리콘층을 형성하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 박막 태양 전지 소자 제작 방법 및 이러한 방법으로 제작된 실리콘 박막 태양 전지 소자를 제공한다. Amorphous, poly, 태양 전지, 무전해 도금, 실리콘
Int. CL H01L 31/0445 (2014.01)
CPC H01L 31/1872(2013.01) H01L 31/1872(2013.01) H01L 31/1872(2013.01) H01L 31/1872(2013.01) H01L 31/1872(2013.01)
출원번호/일자 1020090133454 (2009.12.29)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-1091765-0000 (2011.12.02)
공개번호/일자 10-2011-0076695 (2011.07.06) 문서열기
공고번호/일자 (20111208) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.12.29)
심사청구항수 17

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김성현 대한민국 경기도 용인시 수지구
2 조진우 대한민국 경기도 성남시 분당구
3 이경일 대한민국 서울특별시 양천구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 박종한 대한민국 서울특별시 구로구 디지털로**길 * (구로동, 에이스하이엔드타워*차) ***호(한림특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 전자부품연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.12.29 수리 (Accepted) 1-1-2009-0814165-53
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.03.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0147526-70
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.05.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0352349-02
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.05.12 수리 (Accepted) 1-1-2011-0352348-56
5 등록결정서
Decision to grant
2011.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0705332-53
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
실리콘 박막을 가지는 태양 전지 소자 제작 방법에 있어서, 기판 상에 광전 전환의 역할을 수행하는 비정질 특성을 가지는 비정질 실리콘층을 형성하는 과정과, 상기 비정질 실리콘층 상에 무전해 도금 방법으로 메탈 촉매층을 형성하는 과정과, 상기 메탈 촉매층이 형성된 비정질 실리콘층을 열처리하여 다결정 실리콘층을 형성하는 과정을 포함하고, 상기 메탈 촉매층을 형성하는 과정은 상기 비정질 실리콘층을 초순수와 염산 및 니켈 촉매를 혼합한 니켈 촉매제에 디핑한 후 팔라듐을 흡착하는 과정과, 팔라듐이 흡착된 비정질 실리콘층에 니켈 닷(dot) 및 니켈 박막 중 적어도 하나를 증착하는 과정과, 증착된 니켈 닷 또는 니켈 박막 중 적어도 하나를 이용하여 치환 반응을 통해 Au 박막을 형성하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 박막 태양 전지 소자 제작 방법
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서, 상기 니켈 닷 및 니켈 박막 중 적어도 하나를 증착하는 과정은 차아인산 나트륨, NH4Oh, 및 Ni 이온 용액이 혼합된 도금조에서 니켈 닷 및 니켈 박막 중 적어도 하나를 증착하는 것을 특징으로 하는 실리콘 박막 태양 전지 소자 제작 방법
4 4
실리콘 박막을 가지는 태양 전지 소자 제작 방법에 있어서, 기판 상에 광전 전환의 역할을 수행하는 비정질 특성을 가지는 비정질 실리콘층을 형성하는 과정과, 상기 비정질 실리콘층 상에 무전해 도금 방법으로 메탈 촉매층을 형성하는 과정과, 상기 메탈 촉매층이 형성된 비정질 실리콘층을 열처리하여 다결정 실리콘층을 형성하는 과정을 포함하고, 상기 비정질 실리콘층은 P 층, I 층 및 N 층이 순차로 적층된 적어도 하나의 PIN 접합 구조를 가지며, 상기 P 층은 SiH4 가스와 B2H6를 1 : 0
5 5
삭제
6 6
실리콘 박막을 가지는 태양 전지 소자 제작 방법에 있어서, 기판 상에 광전 전환의 역할을 수행하는 비정질 특성을 가지는 비정질 실리콘층을 형성하는 과정과, 상기 비정질 실리콘층 상에 무전해 도금 방법으로 메탈 촉매층을 형성하는 과정과, 상기 메탈 촉매층이 형성된 비정질 실리콘층을 열처리하여 다결정 실리콘층을 형성하는 과정을 포함하고, 상기 비정질 실리콘층은 P 층, I 층 및 N 층이 순차로 적층된 적어도 하나의 PIN 접합 구조를 가지며, 상기 I 층은 SiH4 가스를 주입하여 증착함을 특징으로 하는 실리콘 박막 태양 전지 소자 제작 방법
7 7
실리콘 박막을 가지는 태양 전지 소자 제작 방법에 있어서, 기판 상에 광전 전환의 역할을 수행하는 비정질 특성을 가지는 비정질 실리콘층을 형성하는 과정과, 상기 비정질 실리콘층 상에 무전해 도금 방법으로 메탈 촉매층을 형성하는 과정과, 상기 메탈 촉매층이 형성된 비정질 실리콘층을 열처리하여 다결정 실리콘층을 형성하는 과정을 포함하고, 상기 비정질 실리콘층은 P 층, I 층 및 N 층이 순차로 적층된 적어도 하나의 PIN 접합 구조를 가지며, 상기 N 층은 SiH4 가스가 1일때 PH3 가스가 적어도 0
8 8
제1항, 제3항, 제4항, 제6항 또는 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 비정질 실리콘층은 PECVD(Plasma-enhanced chemical vapor deposition) 방법으로 형성함을 특징으로 하는 실리콘 박막 태양 전지 소자 제작 방법
9 9
제1항, 제3항, 제4항, 제6항 또는 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 다결정 실리콘층은 1um 이하의 결정립 크기를 갖도록 형성함을 특징으로 하는 실리콘 박막 태양 전지 소자 제작 방법
10 10
제1항, 제3항, 제4항, 제6항 또는 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 열처리는 500 ℃ 이하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 실리콘 박막 태양 전지 소자 제작 방법
11 11
실리콘 박막을 가지는 태양 전지 소자에 있어서, 반사 방지막과 투명 전극이 증착된 기판; 상기 기판 상에 형성되며 비정질의 실리콘층이 무전해 도금 방법을 이용하여 상기 비정질의 실리콘층 상에 증착된 메탈 촉매층이 촉매로 작용해 결정화된 다결정 실리콘층; 및 상기 다결정 실리콘층 상에 형성되는 전극;을 포함하고, 상기 비정질 실리콘층은 P 층, I 층 및 N 층이 순차로 적층된 적어도 하나의 PIN 접합 구조를 가지며, 상기 P 층은 SiH4 가스와 B2H6를 1 : 0
12 12
제11항에 있어서, 상기 다결정 실리콘층은 상기 기판 상에 비정질 실리콘층을 증착하고, 증착된 비정질 실리콘 상에 메탈 촉매층을 형성한 후, 메탈 촉매층이 형성된 비정질 실리콘층을 열처리하여 형성함을 특징으로 하는 실리콘 박막 태양 전지 소자
13 13
제11항에 있어서, 상기 비정질 실리콘층은 PECVD(Plasma-enhanced chemical vapor deposition) 방법으로 형성함을 특징으로 하는 실리콘 박막 태양 전지 소자
14 14
삭제
15 15
삭제
16 16
실리콘 박막을 가지는 태양 전지 소자에 있어서, 반사 방지막과 투명 전극이 증착된 기판; 상기 기판 상에 형성되며 비정질의 실리콘층이 무전해 도금 방법을 이용하여 상기 비정질의 실리콘층 상에 증착된 메탈 촉매층이 촉매로 작용해 결정화된 다결정 실리콘층; 및 상기 다결정 실리콘층 상에 형성되는 전극;을 포함하고, 상기 비정질 실리콘층은 P 층, I 층 및 N 층이 순차로 적층된 적어도 하나의 PIN 접합 구조를 가지며, 상기 I 층은 SiH4 가스를 주입하여 증착함을 특징으로 하는 실리콘 박막 태양 전지 소자
17 17
실리콘 박막을 가지는 태양 전지 소자에 있어서, 반사 방지막과 투명 전극이 증착된 기판; 상기 기판 상에 형성되며 비정질의 실리콘층이 무전해 도금 방법을 이용하여 상기 비정질의 실리콘층 상에 증착된 메탈 촉매층이 촉매로 작용해 결정화된 다결정 실리콘층; 및 상기 다결정 실리콘층 상에 형성되는 전극;을 포함하고, 상기 비정질 실리콘층은 P 층, I 층 및 N 층이 순차로 적층된 적어도 하나의 PIN 접합 구조를 가지며, 상기 N 층은 SiH4 가스가 1일때 PH3 가스가 적어도 0
18 18
실리콘 박막을 가지는 태양 전지 소자에 있어서, 반사 방지막과 투명 전극이 증착된 기판; 상기 기판 상에 형성되며 비정질의 실리콘층이 무전해 도금 방법을 이용하여 상기 비정질의 실리콘층 상에 증착된 메탈 촉매층이 촉매로 작용해 결정화된 다결정 실리콘층; 및 상기 다결정 실리콘층 상에 형성되는 전극;을 포함하고, 상기 무전해 도금 방법은 상기 비정질 실리콘층을 초순수와 염산 및 니켈 촉매를 혼합한 니켈 촉매제에 디핑한 후 팔라듐을 흡착하고, 니켈 닷(dot) 및 니켈 박막 중 적어도 하나를 증착한 후, 증착된 니켈 닷 또는 니켈 박막 중 적어도 하나를 이용하여 치환 반응을 통해 Au 박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 실리콘 박막 태양 전지 소자
19 19
제18항에 있어서, 상기 니켈 닷 및 니켈 박막 중 적어도 하나를 증착하는 방법은 차아인산 나트륨, NH4Oh, 및 Ni 이온 용액이 혼합된 도금조에서 니켈 닷 및 니켈 박막 중 적어도 하나를 증착하는 것을 특징으로 하는 실리콘 박막 태양 전지 소자
20 20
제11항 내지 제13항 및 제16항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 다결정 실리콘층은, 1um 이하의 결정립 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 실리콘 박막 태양 전지 소자
21 21
제12항에 있어서, 상기 열처리는 500 ℃ 이하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 실리콘 박막 태양 전지 소자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 국토해양부 TG 솔라 건설기술혁신기술개발사업 창호형 see-through 타입 나노구조 태양전지개발