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고속 파장가변 외부공진기 레이저 TOSA

  • 기술번호 : KST2014035258
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 직접 결합형 파장 가변 외부 공진기형 레이저에 관한 것으로서, 인가되는 바이어스 전류에 의해 광 신호를 발생하는 이득 매질; 상기 이득 매질과 결합하여 거울면을 형성하고, 상기 인가되는 바이어스 전류가 임계값 이상이 되는 경우 상기 거울면 내에서 발진(Lasing)을 일으키는 광도파로 구조물; 및 상기 인가되는 바이어스 전류에 고주파 신호를 더하여 상기 광 신호의 동작 속도를 조절하는 고주파 전송매질을 포함한다.
Int. CL H01S 3/063 (2006.01) H01S 5/10 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020110143105 (2011.12.27)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0074959 (2013.07.05) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.11.23)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최병석 대한민국 대전광역시 서구
2 오수환 대한민국 대전광역시 서구
3 윤기홍 대한민국 대전광역시 유성구
4 김기수 대한민국 대전광역시 유성구
5 김현수 대한민국 대전광역시 서구
6 권오균 대한민국 대전광역시 유성구
7 한영탁 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2011-1037692-15
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2013.01.23 수리 (Accepted) 1-1-2013-0064539-16
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2013.08.28 수리 (Accepted) 1-1-2013-0785120-67
4 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)		 2014.11.18 수리 (Accepted) 1-1-2014-1111002-72
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
6 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2015.11.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-1138701-89
7 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2016.10.14 수리 (Accepted) 1-1-2016-0998263-20
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.12.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0917628-17
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2017.02.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0171088-52
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.02.20 수리 (Accepted) 1-1-2017-0171087-17
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2017.06.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0433859-62
12 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2017.09.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0615234-61
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번호 청구항
1 1
인가되는 바이어스 전류에 의해 광 신호를 발생하는 이득 매질;상기 이득 매질과 결합하여 거울면을 형성하고, 상기 인가되는 바이어스 전류가 임계값 이상이 되는 경우 상기 거울면 내에서 발진(Lasing)을 일으키는 광도파로 구조물; 및상기 인가되는 바이어스 전류에 고주파 신호를 더하여 상기 광 신호의 동작 속도를 조절하는 고주파 전송매질;을 포함하는 직접 결합형 파장 가변 외부 공진기형 레이저
2 2
제1항에 있어서,상기 고주파 전송매질은 상기 고주파 신호를 이용하여 상기 광 신호의 광 파워를 조절하는 것을 특징으로 하는 직접 결합형 파장 가변 외부 공진기형 레이저
3 3
제2항에 있어서,상기 고주파 전송매질은 상기 고주파 신호를 상기 광 파워에 의하여 정의되는 디지털 신호로 변조하는 것을 특징으로 하는 직접 결합형 파장 가변 외부 공진기형 레이저
4 4
제1항에 있어서, 상기 고주파 전송매질은,유전체;상기 유전체와 결합하여 전송선로를 형성하는 금속박막선; 및상기 이득 매질의 저항값에 더해져 신호 정합 기능을 수행하는 매칭 저항부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 결합형 파장 가변 외부 공진기형 레이저
5 5
제1항에 있어서,상기 광도파로 구조물의 온도를 조절하는 열전 냉각기;상기 이득 매질의 온도를 측정하는 써미스터; 및상기 이득 매질의 광 신호를 모니터링하는 광검출기;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 결합형 파장 가변 외부 공진기형 레이저
6 6
제1항에 있어서, 상기 광도파로 구조물은,지지 기판;상기 지지 기판 상에 형성되고, 코어 및 클래딩층을 포함하는 광도파로;상기 광도파로 상에 증착되고, 상기 코어 및 상기 클래딩층의 온도를 조절하는 박막 히터; 및상기 광도파로 상에 증착되고, 발진 파장의 위상을 조절하는 위상 조절부;를 포함하고,상기 코어 또는 상기 클래딩층은 브래그 격자를 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 결합형 파장 가변 외부 공진기형 레이저
7 7
제6항에 있어서,상기 브래그 격자는 상기 코어 또는 상기 클래딩층에 주기적으로 배열되어 직렬로 연결되는 것을 특징으로 하는 직접 결합형 파장 가변 외부 공진기형 레이저
8 8
제1항에 있어서, 상기 이득 매질은,능동 도파로를 포함하는 능동 도파로 영역;상기 능동 도파로에 대해 일정 각도만큼 기울어져 있는 수동 도파로를 포함하는 수동 도파로 영역;상기 능동 도파로 영역 측 이득 매질의 일면에 고반사 코팅된 고반사막; 및상기 수동 도파로 영역 측 이득 매질의 타면에 저반사 코팅된 저반사막;을 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 결합형 파장 가변 외부 공진기형 레이저
9 9
제8항에 있어서, 상기 이득 매질은,상기 수동 도파로의 끝단의 폭을 테이퍼링시키거나 증가시켜 모드 크기를 변화시키는 모드 크기 변환기;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 결합형 파장 가변 외부 공진기형 레이저
10 10
제8항에 있어서, 상기 능동 도파로 영역은,p형 전극과 n형 전극;이득 매질층, 상기 이득 매질층의 상하부에 형성되는 두 개의 SCH(Separate Confinement Heterostructure)층을 포함하는 상기 능동 도파로;상기 능동 도파로를 피복하는 상부 클래딩층과 하부 클래딩층;상기 상부 클래딩층과 상기 p형 전극 사이의 저항을 감소시켜주는 오믹층;상기 능동 도파로의 양 측면에 배치되고, 헤테로 구조로 이루어져 있어 상기 능동 도파로를 중심으로 양쪽에 트렌치가 형성되어 있는 전류 차단층; 및상기 트렌치를 덮는 유전체 박막;을 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 결합형 파장 가변 외부 공진기형 레이저
11 11
제8항에 있어서, 상기 능동 도파로 영역은,n형 전극;상기 n형 전극 상의 하부 클래딩층;상기 하부 클래딩층 상에 형성되고, 이득 매질층, 상기 이득 매질층의 상하부에 형성되는 두 개의 SCH(Separate Confinement Heterostructure)층을 포함하는 상기 능동 도파로;상기 능동 도파로 상에 형성되는 상부 클래딩층;상기 상부 클래딩층 상에 형성되는 오믹층;상기 오믹층 상에 배치되는 p형 전극; 및상기 상부 클래딩층과 상기 p형 전극 사이에 배치되는 유전체층과 폴리이미드층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 결합형 파장 가변 외부 공진기형 레이저
12 12
제8항에 있어서, 상기 능동 도파로 영역은,n형 전극;상기 n형 전극 상에 형성되는 하부 클래딩층;상기 하부 클래딩층 상에 형성되고, 이득 매질층, 상기 이득 매질층의 상하부에 형성되는 두 개의 SCH(Separate Confinement Heterostructure)층을 포함하는 상기 능동 도파로;상기 능동 도파로 상에 형성되는 상부 클래딩층;상기 상부 클래딩층 상에 형성되는 p형 전극;상기 상부 클래딩층의 양 측면과 상기 능동 도파로의 상부면을 따라 형성되는 실리콘 산화막 또는 실리콘 질화막; 및상기 실리콘 산화막 또는 상기 실리콘 질화막을 덮으면서 상기 p형 전극과 상기 능동 도파로 사이에 형성되는 폴리이미드층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 직접 결합형 파장 가변 외부 공진기형 레이저
13 13
제1항에 있어서,상기 광도파로 구조물과 상기 이득 매질의 정렬시 상기 이득 매질의 지지 기판 또는 상기 광도파로 구조물의 지지 기판 중 바닥 높이가 높은 재료에 열 패드를 부착하여 단차를 조절하는 것을 특징으로 하는 직접 결합형 파장 가변 외부 공진기형 레이저
14 14
제13항에 있어서,상기 광 도파로 구조물과 상기 이득 매질을 정렬하기 전에, 상기 광도파로 구조물의 지지 기판에 수용성 접착제를 이용하여 구조물을 덧대어 폴리싱한 후, 상기 구조물을 제거하는 것을 특징으로 하는 직접 결합형 파장 가변 외부 공진기형 레이저
15 15
제13항에 있어서,상기 이득 매질의 지지 기판과 상기 광도파로 구조물의 지지 기판 사이에 자외선 경화 에폭시를 선택적으로 도포하여 반사율을 조절 가능한 것을 특징으로 하는 직접 결합형 파장 가변 외부 공진기형 레이저
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20130163993 US 미국 FAMILY

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1 US2013163993 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국전자통신연구원 정보통신산업융합원천기술개발사업 액세스 네트워크용 광집적기반 OLT 서브모듈 플랫폼 개발