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SiO2 10 mol% 내지 80 mol%, Al2O3 15 mol% 내지 40 mol%, 및 알칼리토금속의 산화물, 희토류 금속의 산화물 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 산화물 0 mol% 초과 내지 30 mol%를 포함하는 것인, 비정질 내플라즈마 유리 조성물
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제 1 항에 있어서,상기 희토류 금속의 산화물은 란타늄족 금속 원소의 산화물을 포함하는 것인, 비정질 내플라즈마 유리 조성물
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제 2 항에 있어서,상기 란타늄족 금속 원소의 산화물은, 란타늄(La), 세슘(Ce), 프라세오디뮴(Pr), 네오디뮴(Nd), 프로메튬(Pm), 사마륨(Sm), 유로퓸(Eu), 가돌리늄(Gd), 터븀(Tb), 디스프로슘(Dy), 홀뮴(Ho), 에르븀(Er), 톨륨(Tm), 이터븀(Yb), 루템튬(Lu) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 란타늄족 금속 원소의 산화물을 포함하는 것인, 내플라즈마 유리조성물
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제 2 항에 있어서,Y2O3 0 mol% 초과 내지 20 mol% 를 추가 포함하는 것인, 비정질 내플라즈마 유리 조성물
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제 1 항에 있어서,가시광선에 대하여 80% 이상의 투과도를 가지는 것인, 비정질 내플라즈마 유리 조성물
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제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 비정질 내플라즈마 유리 조성물을 이용하여 형성되는, 비정질 내플라즈마 부재
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제 6 항에 있어서,상기 내플라즈마 부재는 플라즈마 챔버용 윈도우 글래스인, 비정질 내플라즈마 부재
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제 6 항에 따른 비정질 내플라즈마 부재를 포함하는 플라즈마 챔버
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제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 비정질 내플라즈마 유리 조성물을 알루미나, 석영 및 금속 중 어느 하나로 선택되는 기재 위에 코팅하여 코팅층을 형성하는 것을 포함하는, 비정질 내플라즈마 부재의 제조방법
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