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편석을 이용한 전도성필름 제조방법 및 전도성필름

  • 기술번호 : KST2014036521
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전도성필름 제조방법 및 전도성필름에 관한 것으로, 상기 전도성필름 제조방법은 탄소나노튜브를 용매에 분산시키는 단계와, 상기 용매에 상기 탄소나노튜브의 편석을 유도하는 편석유도 물질을 혼합하는 단계 및 상기 편석유도 물질이 혼합된 상기 탄소나노튜브 분산액을 기판상에 코팅하여 전극층을 형성하는 단계를 포함한다. 이에 의하여 본 발명은 표면의 전기전도도가 균일하고, 광투과성의 정도가 우수한 전도성필름을 구현한다. 전도성필름, 광투과성, 편석유도
Int. CL H01B 1/12 (2006.01) H01B 1/04 (2006.01) C08J 5/18 (2006.01)
CPC H01B 1/04(2013.01) H01B 1/04(2013.01) H01B 1/04(2013.01) H01B 1/04(2013.01) H01B 1/04(2013.01) H01B 1/04(2013.01)
출원번호/일자 1020090032910 (2009.04.15)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-1093550-0000 (2011.12.07)
공개번호/일자 10-2010-0114397 (2010.10.25) 문서열기
공고번호/일자 (20111214) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.04.15)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이현정 대한민국 서울 성북구
2 오경아 대한민국 서울 관악구
3 박민 대한민국 서울 노원구
4 김준경 대한민국 서울 동대문구
5 임순호 대한민국 서울시 송파구
6 김희숙 대한민국 서울시 송파구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 서울특별시 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.04.15 수리 (Accepted) 1-1-2009-0228224-14
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2010.06.03 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2010.07.14 수리 (Accepted) 9-1-2010-0043467-30
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0173274-13
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.05.30 수리 (Accepted) 1-1-2011-0405899-12
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.05.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0405904-64
8 등록결정서
Decision to grant		 2011.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0696690-71
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
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번호 청구항
1 1
탄소나노튜브를 용매에 분산시키는 단계; 상기 용매에 상기 탄소나노튜브의 편석을 유도하는 편석유도 물질을 혼합하는 단계; 및 상기 편석유도 물질이 혼합된 상기 탄소나노튜브 분산액을 기판상에 코팅하여 전극층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 편석유도 물질은 전도성 고분자 물질 및 이온성 액상 물질의 혼합물이며, 상기 전도성 고분자 물질은 페돗(PEDOT, Poly 3,4-ethylenedioxythiophene), 폴리피롤(Polypyrrole) 및 폴리아닐린(Polyaniline) 중 적어도 하나이고, 상기 이온성 액상 물질은 1-butyl-3-methyl imidazolium, 1-hexyl-3-methyl imidazolium 및 1-methyl-3-methyl imidazolium 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 전도성필름 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 초음파에 의한 절단 및 산과 화학반응 중 적어도 하나를 통하여 탄소나노튜브를 전처리하는 단계를 더 포함하는 전도성필름 제조방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 용매는 디메틸포름아마이드(DMF), 엔-메틸피롤리돈(NMP, N-methyl-2-pyrrolidone), 물, 에틸알콜 및 클로로벤젠 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 전도성필름 제조방법
4 4
삭제
5 5
제1항에 있어서, 상기 편석유도 물질은 상기 전도성 고분자 및 이온성 액상 물질이 1:100 내지 100:1 중 적어도 하나의 부피비로 혼합되게 형성되는 것을 특징으로 하는 전도성필름 제조방법
6 6
삭제
7 7
삭제
8 8
제1항에 있어서, 상기 기판이 친수성 또는 소수성이 되도록 표면을 화학적으로 처리하는 단계를 더 포함하는 전도성필름 제조방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 코팅은 스핀코팅, 전기화학 증착, 전기영동 침전(electro deposition), 스프레이 코팅(spray coating), 담금 코팅 (dip-coating), 진공 여과(vacuum filtration), 에어브뤄싱(airbrushing) 및 닥터 블레이드(doctor blade) 중 어느 하나에 의하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 전도성필름 제조방법
10 10
광투과성 기판 및 상기 기판의 일면에 형성되는 전극층을 포함하고, 상기 전극층은, 상기 기판상에 편석되도록 배치되는 탄소나노튜브; 및 상기 탄소나노튜브와 혼재되고, 상기 탄소나노튜브를 편석시키는 편석유도 물질을 포함하며, 상기 편석유도 물질은 전도성 고분자 물질 및 이온성 액상 물질의 혼합물이며, 상기 전도성 고분자 물질은 페돗(PEDOT, Poly 3,4-ethylenedioxythiophene), 폴리피롤(Polypyrrole) 및 폴리아닐린(Polyaniline) 중 적어도 하나이고, 상기 이온성 액상 물질은 1-butyl-3-methyl imidazolium, 1-hexyl-3-methyl imidazolium 및 1-methyl-3-methyl imidazolium 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 전도성필름
11 11
제10항에 있어서, 상기 탄소나노튜브는 단층벽(single wall), 이중층벽(double wall) 및 다층벽(multi wall) 나노튜브 중 적어도 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 전도성필름
12 12
제10항에 있어서, 상기 편석유도 물질에서 상기 전도성 고분자 물질과 상기 이온성 액상 물질은 1:100 내지 100:1 중 적어도 하나의 부피비를 형성하는 것을 특징으로 하는 전도성필름
13 13
기판이 친수성 또는 소수성이 되도록 표면을 화학적으로 처리하는 단계; 탄소나노튜브를 용매에 분산시키는 단계; 편석유도 물질을 이용하여 상기 탄소나노튜브의 편석을 유도하는 단계; 및 상기 탄소나노튜브 및 편석유도 물질을 상기 기판상에 코팅하는 단계를 포함하는 전도성필름 제조방법
14 14
제13항에 있어서, 상기 편석유도 물질은 전도성 고분자 물질; 및 상기 전도성 고분자 물질과 1:100 내지 100:1 중 적어도 하나의 부피비를 형성하는 이온성 액상 물질을 포함하는 전도성필름 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.