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보호층이 구비되는 저온동시소성세라믹의 무수축 제조방법

  • 기술번호 : KST2014036663
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 저온동시소성세라믹 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 저온동시소성세라믹(LTCC) 소성가공시 세라믹의 수축을 줄이도록 하여, 소성에 따른 수축 불균일을 낮추도록 하는 저온동시소성세라믹 제조방법에 관한 것이다. 이와 같은 본 발명의 특징은 다층 세라믹 기판이 되는 엘티씨씨의 세라믹층이 형성되도록 하고, 세라믹층의 상하로 접해지는 양측의 보호층을 준비하며, 보호층의 상하로 접해지는 상하의 고정층을 준비하여 세라믹층 제조공정을 준비하는 세라믹층준비공정단계; 세라믹층 상하면으로 보호층이 형성되고 상하 양측 보호층의 상하면으로 고정층이 형성된 상태에서 소성가공하여 소성세라믹레이어가 형성되도록 하는 소성가공단계; 상하면의 고정층을 제거하는 고정층제거단계; 고정층이 제거된 소성세라믹레이어에서 상하면의 보호층을 제거하여 엘티씨씨세라믹층이 형성되도록 하는 보호층제거단계가 포함되어 이루어지는 것을 특징으로 한다. 저온동시소성세라믹, 세라믹, 인쇄회로기판, 소성
Int. CL H05K 3/46 (2006.01)
CPC H05K 3/4629(2013.01) H05K 3/4629(2013.01) H05K 3/4629(2013.01) H05K 3/4629(2013.01) H05K 3/4629(2013.01) H05K 3/4629(2013.01)
출원번호/일자 1020080011372 (2008.02.04)
출원인 동의대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0949545-0000 (2010.03.18)
공개번호/일자 10-2009-0085463 (2009.08.07) 문서열기
공고번호/일자 (20100325) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.02.04)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 동의대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 부산진구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 신병철 대한민국 부산 부산진구
2 김일수 대한민국 부산 부산진구
3 전형도 대한민국 부산광역시 금정구
4 김환 대한민국 부산 강서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 조경화 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 한림빌딩 *층 (대치동)(국제특허법률사무소 미래연)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 동의대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 부산진구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.02.04 수리 (Accepted) 1-1-2008-0092084-83
2 보정요구서
Request for Amendment
2008.02.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0022791-63
3 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2008.03.12 수리 (Accepted) 1-1-2008-0177927-83
4 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2008.03.17 수리 (Accepted) 1-1-2008-0190564-63
5 보정요구서
Request for Amendment
2008.03.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2008-0045907-56
6 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2008.04.07 수리 (Accepted) 1-1-2008-0251285-94
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2009.05.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2009.06.15 수리 (Accepted) 9-1-2009-0035839-65
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.08.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0359055-80
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.09.23 수리 (Accepted) 4-1-2009-5184999-34
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.10.28 수리 (Accepted) 1-1-2009-0662556-25
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.10.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0662560-19
13 등록결정서
Decision to grant
2010.03.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0106237-40
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.07.07 수리 (Accepted) 4-1-2014-5081860-22
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.26 수리 (Accepted) 4-1-2015-0010968-18
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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다층 세라믹 기판이 되는 엘티씨씨의 세라믹층이 형성되도록 하는 세라믹층 준비단계; 상기 세라믹층의 상하면으로 접해지는 양측의 보호층을 준비하는 보호층준비단계; 상하 양측의 상기 보호층의 상하면으로 접해지는 상하 양측의 고정층을 준비하여 세라믹층 제조공정을 준비하는 세라믹층준비공정단계; 상기 세라믹층준비공정단계에 의하여 세라믹층 상하면으로 보호층이 형성되고 상하 양측 보호층의 상하면으로 고정층이 각각 형성된 상태에서 소성가공하여 소성세라믹레이어가 형성되도록 하는 소성가공단계; 상기 소성세라믹레이어에서 상하면의 고정층을 제거하는 고정층제거단계; 고정층이 제거된 소성세라믹레이어에서 상하면의 보호층을 제거하여 엘티씨씨세라믹층이 형성되도록 하는 보호층제거단계가 포함되어 이루어지되, 상기 보호층준비단계의 상기 보호층은 알루미나(Al2O3) 분말 또는 글래스세라믹(Glass Ceramic) 분말이 포함되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비되는 저온동시소성세라믹의 무수축 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 보호층준비단계의 상기 보호층은 40 ~ 60 무게비의 알루미나(Al2O3) 분말에 대하여 60 ~ 40 무게비의 글래스세라믹(Glass Ceramic) 분말로 이루어지는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비되는 저온동시소성세라믹의 무수축 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 세라믹층준비공정단계의 상기 고정층은 알루미나(Al2O3) 분말이 포함되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비되는 저온동시소성세라믹의 무수축 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 소성가공단계는 800 ~ 1000 ℃에서 소성가공되도록 구비되는 것을 특징으로 하는 보호층이 구비되는 저온동시소성세라믹의 무수축 제조방법
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