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플라즈마 처리장치 기술

  • 기술번호 : KST2014036728
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 플라즈마 처리장치가 개시된다. 본 발명의 플라즈마 처리장치는, 플라즈마가 생성되는 공간을 제공하는 반응챔버; 반응챔버의 상부에 마련되어 플라즈마를 생성시키는 전기장을 유도하는 안테나 모듈; 및 반응챔버와 안테나 모듈 사이에 배치되는 절연판을 포함하고, 안테나 모듈은, 절연판의 중심에 대하여 상호 대칭되도록 배치되는 복수개의 외부 안테나; 및 복수개의 외부 안테나의 내측 영역에서 절연판의 중심에 대하여 상호 대칭되도록 배치되는 복수개의 내부 안테나를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 전체적인 플라즈마 균일도를 향상시킬 수 있다.플라즈마, 안테나, 절연판, 고주파전력
Int. CL H05H 1/30 (2006.01) H05H 1/34 (2006.01) H05H 1/24 (2006.01)
CPC H01J 37/3211(2013.01) H01J 37/3211(2013.01) H01J 37/3211(2013.01) H01J 37/3211(2013.01) H01J 37/3211(2013.01) H01J 37/3211(2013.01) H01J 37/3211(2013.01)
출원번호/일자 1020080100112 (2008.10.13)
출원인 김남진
등록번호/일자 10-1122132-0000 (2012.02.23)
공개번호/일자 10-2010-0041103 (2010.04.22) 문서열기
공고번호/일자 (20120315) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.10.13)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 김남진 대한민국 경기도 수원시 영통구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김남진 대한민국 경기 수원시 영통구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 한지희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *** 한국지식재산센터 *층 (공익변리사 특허상담센터)(한국지식재산보호원)
2 권영규 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *** *** (역삼동, 재승빌딩 *층)(프라임특허법률사무소)
3 윤재석 대한민국 서울특별시 서초구 서초대로**길 **(서초동) *층(정석국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 에이씨에스 경기 화성
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.10.13 수리 (Accepted) 1-1-2008-0711287-42
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.03.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.04.09 수리 (Accepted) 4-1-2010-5062898-17
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.04.15 수리 (Accepted) 9-1-2010-0022915-57
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2010.08.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0370388-06
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2010.10.25 수리 (Accepted) 1-1-2010-0690326-56
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.11.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0768633-19
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2010.11.24 수리 (Accepted) 1-1-2010-0768632-74
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.02.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0087846-89
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.03.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0188873-56
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.03.15 수리 (Accepted) 1-1-2011-0188872-11
12 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0485967-29
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.10.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0793315-26
14 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.10.11 수리 (Accepted) 1-1-2011-0793314-81
15 등록결정서
Decision to grant
2011.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0709273-40
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.03.08 수리 (Accepted) 4-1-2016-5029574-39
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
플라즈마가 생성되는 공간을 제공하는 반응챔버;상기 반응챔버의 상부에 마련되어 플라즈마를 생성시키는 전기장을 유도하는 안테나 모듈; 및상기 반응챔버와 상기 안테나 모듈 사이에 배치되는 절연판을 포함하고,상기 안테나 모듈은,상기 절연판의 중심에 대하여 상호 대칭되도록 배치되는 복수개의 외부 안테나; 및상기 복수개의 외부 안테나의 내측 영역에서 상기 절연판의 중심에 대하여 상호 대칭되도록 배치되는 복수개의 내부 안테나를 포함하며,상기 복수개의 외부 안테나 각각은,사각 형상의 코일 안테나로, 상기 절연판의 중심에 인접한 모서리부에서 접지되고, 상기 접지된 모서리부에 대해 대각선 방향에 위치하고 제1전력인입선이 연결된 모서리에 접속되며상기 복수개의 내부 안테나 각각은,사각 형상의 코일 안테나로, 상기 절연판의 중심에 인접한 모서리부에서 접지되고, 상기 접지된 모서리부에 대해 대각선 방향에 위치하고 제2전력인입선이 연결된 모서리에 접속되며,상기 안테나 모듈의 상측에 마련되고, 중간판에 의해 상부 영역과 하부 영역으로 구획되는 2단 구조의 접지케이스를 포함하며,상기 제1 전력인입선 및 상기 제2 전력인입선은 상기 접지케이스의 상부 영역에 배치되고, 상기 복수개의 외부 안테나와 상기 복수개의 내부 안테나는 상기 접지케이스의 하부 영역에 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서,상기 복수개의 외부 안테나에 인가되는 고주파전력의 위상과 상기 복수개의 내부 안테나에 인가되는 고주파전력의 위상을 다르게 설정하기 위한 위상조절수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
4 4
제3항에 있어서,상기 위상조절수단은,상기 제1 전력인입선과 상기 제2 전력인입선 사이에 접속되는 콘덴서를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
5 5
제4항에 있어서,상기 콘덴서는,가변 콘덴서인 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
6 6
제1항에 있어서,상기 복수개의 외부 안테나는 상호 병렬 접속되고, 상기 복수개의 내부 안테나는 상호 병렬 접속되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
7 7
제1항에 있어서,상기 복수개의 외부 안테나와 상기 복수개의 내부 안테나는 하나의 고주파전원에 접속되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
8 8
제1항에 있어서,상기 복수개의 외부 안테나와 상기 복수개의 내부 안테나는 동일한 평면상에 배치되거나 상호 다른 평면상에 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
9 9
제1항에 있어서,상기 절연판은 복수개의 단위절연판으로 분할되고,상기 복수개의 단위절연판이 대응 배치되는 복수개의 개구부가 형성되어 상기 절연판을 지지하는 절연판 지지체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
10 10
제9항에 있어서,상기 절연판 지지체는,사각 형상을 갖는 외곽 프레임; 및상기 외곽 프레임의 내측 영역을 상기 복수개의 개구부로 분할하도록, 상기 외곽 프레임의 내측에서 가로 방향으로 배치되는 적어도 하나의 가로보와, 상기 외곽 프레임의 내측에서 세로 방향으로 배치되는 적어도 하나의 세로보를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
11 11
제10항에 있어서,상기 절연판 지지체는,상기 적어도 하나의 가로보 중 상기 외곽 프레임의 중심을 지나는 가로보의 상부에 마련되는 제1 보강리브; 및상기 적어도 하나의 세로보 중 상기 외곽 프레임의 중심을 지나는 세로보의 상부에 마련되는 제2 보강리브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
12 12
제11항에 있어서,상기 제1 보강리브는 상기 외곽 프레임의 중심 영역에서 상기 가로보에 대해 이격되고, 상기 제2 보강리브는 상기 외곽 프레임의 중심 영역에서 상기 세로보에 대해 이격되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리장치
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