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박막의 부착력 향상을 위한 전처리 장치 및 전처리 방법

기술번호 : KST2014037605
담당센터 : 경기기술혁신센터
전화번호 : 031-8006-1570

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명의 박막의 부착력 향상을 위한 전처리 장치 및 전처리 방법은, 외부로부터 공급되어 수용된 가스를 압축하여 공정가스를 제공하는 가스 압축기와, 외부로부터 공급되어 수용된 단일금속 또는 합금의 코팅용 분말을 제공하는 분말 공급기 및, 상기 가스 압축기와 상기 분말 공급기로부터 제공되는 상기 공정가스와 상기 코팅용 분말을 콜드 스프레이 방식으로, 박막이 증착되는 모재의 표면상에 분사하여, 상기 모재의 표면상에 다공성 금속 코팅층을 형성시키는 분사 노즐을 포함한다.또한, 단일금속 또는 합금의 모재를 준비하는 제1단계와, 하나 또는 둘 이상의 단일금속 또는 그 합금의 분말로 이루어진 코팅용 분말을 준비하는 제2단계와, 상기 준비된 코팅용 분말과 공정가스를 콜드 스프레이 방식을 이용해 박막이 증착될 모재의 표면에 분사하여, 상기 모재의 표면상에 완충을 위한 다공성 금속 코팅층을 형성시키는 제3단계 및, 상기 코팅층에 금속 재질의 박막을 증착시키는 제4단계를 포함한다.
Int. CL	C23C 14/02 (2006.01) C23C 24/04 (2006.01) B05B 7/14 (2006.01)
CPC
출원번호/일자	1020100066419 (2010.07.09)
출원인	아주대학교산학협력단
등록번호/일자	10-1171535-0000 (2012.07.30)
공개번호/일자	10-2012-0005771 (2012.01.17) 문서열기
공고번호/일자	(20120807) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	등록
심사진행상태	수리
심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2010.07.09)
심사청구항수	4

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	아주대학교산학협력단	대한민국	경기도 수원시 영통구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	고경현	대한민국	서울특별시 서초구
2	이혁준	대한민국	경기도 용인시 수지구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	윤재승	대한민국	서울특별시 강남구 테헤란로*길 , 덕천빌딩 *층 (역삼동)(예준국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	아주대학교산학협력단		경기도 수원시 영통구

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번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2010.07.09	수리 (Accepted)	1-1-2010-0445016-27
2	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2011.10.11	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
3	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2011.11.14	수리 (Accepted)	9-1-2011-0088093-91
4	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2012.02.17	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0094797-38
5	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2012.04.17	수리 (Accepted)	1-1-2012-0303413-23
6	[명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment	2012.04.17	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2012-0303414-79
7	등록결정서 Decision to grant	2012.06.29	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0377671-00
8	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2014.01.02	수리 (Accepted)	4-1-2014-5000672-13

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 삭제
2	2 삭제
3	3 삭제
4	4 삭제
5	5 삭제
6	6 삭제
7	7 삭제
8	8 삭제
9	9 단일금속 또는 합금의 모재를 준비하는 제1단계(S100);하나 또는 둘 이상의 단일금속 또는 그 합금의 분말로 이루어지며, 1 내지 200㎛의 입자 크기를 갖는 코팅용 분말을 준비하는 제2단계(S200);상기 준비된 코팅용 분말과 공정가스를 콜드 스프레이 방식을 이용해 박막이 증착될 모재의 표면에 분사하여, 상기 모재의 표면상에 완충을 위한 다공성 금속 코팅층을 형성시키는 제3단계(S300); 및상기 코팅층에 유기 금속 화학 증착법, 스퍼터링 또는 e-beam 증착법을 이용하여 금속 재질의 카본 박막을 증착시키는 제4단계(S400);를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막의 부착력 향상을 위한 전처리 방법
10	10 제9항에 있어서,상기 콜드 스프레이 방법은, 상기 준비된 코팅용 분말을 코팅용 분사 노즐에 주입하는 단계; 및상기 분사 노즐 내에 흐르는 상기 공정가스의 유동에 의해 상기 코팅용 분말을 300 내지 1,200 ㎧의 속도로 가속하여 상기 모재의 표면에 코팅용 분말을 분사하는 단계;를 포함하며,상기 공정가스는 550 내지 650℃의 온도 및 10 내지 20 kgf/cm2의 압력을 가지는 것을 특징으로 하는 박막의 부착력 향상을 위한 전처리 방법
11	11 제10항에 있어서,상기 분사 노즐은, 초음속 유동을 발생시키기 위해 수렴-발산형 노즐(de Laval-Type)을 사용하는 것을 특징으로 하는 박막의 부착력 향상을 위한 전처리 방법
12	12 삭제
13	13 삭제
14	14 제9항에 있어서,상기 제3단계에는, 가스 히터를 이용하여 상기 공정가스를 가열하는 단계가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 박막의 부착력 향상을 위한 전처리 방법

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순번	패밀리번호	국가코드	국가명	종류
1	US08747946	US	미국	FAMILY
2	US20130115378	US	미국	FAMILY
3	WO2012005539	WO	세계지적재산권기구(WIPO)	FAMILY
4	WO2012005539	WO	세계지적재산권기구(WIPO)	FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번	패밀리번호	국가코드	국가명	종류
1	US2013115378	US	미국	DOCDBFAMILY
2	US8747946	US	미국	DOCDBFAMILY
3	WO2012005539	WO	세계지적재산권기구(WIPO)	DOCDBFAMILY
4	WO2012005539	WO	세계지적재산권기구(WIPO)	DOCDBFAMILY

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순번	연구부처	주관기관	연구사업	연구과제
1	지식경제부	아주대학교산학협력단	차세대소재성형기술개발사업	저온분사법으로 제조된 기능성 후막에 의한 표면개질

본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

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특허 등록번호	10-1171535-0000

권리란

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표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20100709 출원 번호 : 1020100066419 공고 연월일 : 20120807 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20120629 청구범위의 항수 : 4 유별 : C23C 24/04 발명의 명칭 : 박막의 부착력 향상을 위한 전처리 장치 및 전처리 방법 존속기간(예정)만료일 :

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 아주대학교산학협력단 경기도 수원시 영통구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	100,500 원	2012년 07월 30일	납입
제 4 년분	금 액	89,600 원	2015년 06월 19일	납입
제 5 년분	금 액	89,600 원	2016년 07월 28일	납입
제 6 년분	금 액	89,600 원	2017년 07월 03일	납입
제 7 년분	금 액	126,000 원	2018년 07월 04일	납입
제 8 년분	금 액	126,000 원	2019년 07월 02일	납입
제 9 년분	금 액	126,000 원	2020년 06월 25일	납입

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정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2010.07.09	수리 (Accepted)	1-1-2010-0445016-27
2	선행기술조사의뢰서	2011.10.11	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
3	선행기술조사보고서	2011.11.14	수리 (Accepted)	9-1-2011-0088093-91
4	의견제출통지서	2012.02.17	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0094797-38
5	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2012.04.17	수리 (Accepted)	1-1-2012-0303413-23
6	[명세서등 보정]보정서	2012.04.17	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2012-0303414-79
7	등록결정서	2012.06.29	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0377671-00
8	출원인정보변경(경정)신고서	2014.01.02	수리 (Accepted)	4-1-2014-5000672-13


기술번호	KST2014037605
자료제공기관	NTB
기술공급기관	아주대학교
기술명	박막의 부착력 향상을 위한 전처리 장치 및 전처리 방법
기술개요	본 발명의 박막의 부착력 향상을 위한 전처리 장치 및 전처리 방법은, 외부로부터 공급되어 수용된 가스를 압축하여 공정가스를 제공하는 가스 압축기와, 외부로부터 공급되어 수용된 단일금속 또는 합금의 코팅용 분말을 제공하는 분말 공급기 및, 상기 가스 압축기와 상기 분말 공급기로부터 제공되는 상기 공정가스와 상기 코팅용 분말을 콜드 스프레이 방식으로, 박막이 증착되는 모재의 표면상에 분사하여, 상기 모재의 표면상에 다공성 금속 코팅층을 형성시키는 분사 노즐을 포함한다.또한, 단일금속 또는 합금의 모재를 준비하는 제1단계와, 하나 또는 둘 이상의 단일금속 또는 그 합금의 분말로 이루어진 코팅용 분말을 준비하는 제2단계와, 상기 준비된 코팅용 분말과 공정가스를 콜드 스프레이 방식을 이용해 박막이 증착될 모재의 표면에 분사하여, 상기 모재의 표면상에 완충을 위한 다공성 금속 코팅층을 형성시키는 제3단계 및, 상기 코팅층에 금속 재질의 박막을 증착시키는 제4단계를 포함한다.
개발상태	기술개발진행중
기술의 우수성
응용분야	금속코팅
시장규모 및 동향
희망거래유형	기술매매,라이센스,기술협력,기술지도,기타,
사업화적용실적
도입시고려사항


과제고유번호	1415112205
세부과제번호	PM003-10-00
연구과제명	저온 분사법으로 제조된 기능성 후막에 의한 표면 개질
성과구분	등록
부처명	지식경제부
연구관리전문기관명	SECRET PROJECT
연구주관기관명	SECRET PROJECT
성과제출연도	2010
연구기간	200110~201106
기여율	1
연구개발단계명	개발연구
6T분류명	기타


과제고유번호	1415112205
세부과제번호	PM003-10-00
연구과제명	저온 분사법으로 제조된 기능성 후막에 의한 표면 개질
성과구분	출원
부처명	지식경제부
연구관리전문기관명	SECRET PROJECT
연구주관기관명	SECRET PROJECT
성과제출연도	2010
연구기간	200110~201106
기여율	1
연구개발단계명	개발연구
6T분류명	기타

특허성과

[1020100066419]	박막의 부착력 향상을 위한 전처리 장치 및 전처리 방법	새창보기
[1020100035700]	저온 분사 방법을 이용한 알루미늄 또는 알루미늄 합금 표면의 질화처리방법	새창보기
[1020050075097]	분무 코팅에 의한 금속표면 개질방법 및 이에 의하여 제조되는 금속	새창보기

중요키워드

이전대상기술 뷰 페이지 관련기술 표
[KST2015187612][아주대학교]	전착막 형성방법	새창보기
[KST2015187772][아주대학교]	내식성 코팅물 및 그 제조방법	새창보기

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