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(a) 탄소나노튜브섬유를 산 처리, 자외선 조사, 플라즈마 처리, 전자빔 처리, 및 용매 또는 계면활성제에 침지하는 방법 중에서 선택된 어느 한 방법에 의해 전처리하는 단계;(b) 탄소전구체를 용매에 용해시키고, 여기에 상기 전처리된 탄소나노튜브섬유를 침지하여, 탄소전구체가 코팅된 탄소나노튜브섬유를 제조하는 단계;(c) 상기 제조된 탄소전구체로 코팅된 탄소나노튜브섬유를 건조하는 단계;(d) 상기 건조된 탄소나노튜브섬유를 공기 분위기 하에 100 내지 400℃에서 열처리하여 안정화하는 단계; 및(e) 상기 안정화된 탄소나노튜브섬유를 불활성 가스 분위기 하에 500 내지 1600℃에서 30분 내지 1시간 동안 열처리하여 탄화하는 단계;를 포함하는 탄소나노튜브섬유의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (e)단계 이 후, (f) 탄화된 탄소나노튜브섬유를 불활성 가스분위기 하에 1700 내지 3000℃에서 30분 내지 1시간 동안 열처리하여 흑연화하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 탄소나노튜브섬유의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (a)단계에서 산처리는 30 내지 100℃에서, 4 내지 15몰의 산성 용액에서 탄소나노튜브섬유를 침지하는 것을 특징으로 하는, 탄소나노튜브섬유의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (a)단계에서 자외선 조사는 파장이 100 내지 400nm의 자외선을 10 내지 120분간 조사하는 것을 특징으로 하는, 탄소나노튜브섬유의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (a)단계에서 전자빔 처리는 전자빔흡수선량을 10kGy 내지 500kGy로 처리하는 것을 특징으로 하는, 탄소나노튜브섬유의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (a)단계에서 용매 처리는 5 내지 15중량%의 NH2OHㆍHCl 수용액에서 탄소나노튜브를 침지하는 것을 특징으로 하는, 탄소나노튜브섬유의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (a)단계에서 계면활성제 처리는 소듐 도데실 설페이트(sodium dodecyl sulfate), 트리톤 X-100(triton X-100), 리튬 도데실 설페이트(lithium dodecyl sulfate), 아라비아 검(gum arabic), 소듐 리그노설포네이트(sodium lignosulfonate), 폴리스티렌 설포네이트(polystyrene sulfonate)로 이루어진 군에서 1종 이상을 선택하는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브섬유의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (b)단계에서 탄소전구체는 폴리아크릴로니트릴(polyacrylonitrile), 폴리비닐알코올(polyvinyl alchol), 셀룰로오스(cellulose) 및 피치(pitch)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브섬유의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (b)단계에서 용매는 디메틸설폭사이드 (dimethylsulfoxide), 디메틸포름아미드(dimethylformamide), 디메틸아밀아민 (dimethylamylamine), 물, N-메틸모폴린 N-옥사이드(N-methylmorpholine N-oxide)와 물의 혼합액, 리튬클로라이드(lithium chloride)와 디메틸아세트아미드 (dimethylacetamide)의 혼합액, 수산화나트륨(NaOH)과 우레아(Urea)의 혼합액, 퀴놀린(quinoline), 톨루엔(toluene)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는, 탄소나노튜브섬유의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (c)단계에서 건조는 50 내지 70℃에서 20 내지 30시간동안 수행되는 것을 특징으로 하는, 탄소나노튜브섬유의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (d)단계에서 열처리는 분당 0
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 불활성 가스는 질소, 아르곤 또는 헬륨인 것을 특징으로 하는, 탄소나노튜브섬유의 제조방법
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