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식각골이 형성된 기판, 그 제조방법 및 그 기판을 사용한 발광소자와 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2014038444
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 식각골이 형성된 기판, 그 제조방법 및 그 기판을 사용한 발광소자와 그 제조방법에 관한 것으로서, 식각액이 식각골을 쉽게 침투하여 반도체층의 식각속도를 빠르게 할 수 있어서, 광추출효율을 높일 수 있는 기술적 구성인 에어바를 빠르게 만들 수 있으므로 공정효율을 높일 수 있다.
Int. CL H01L 33/20 (2014.01)
CPC H01L 33/22(2013.01) H01L 33/22(2013.01)
출원번호/일자 1020100012107 (2010.02.09)
출원인 전북대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1176462-0000 (2012.08.17)
공개번호/일자 10-2011-0092598 (2011.08.18) 문서열기
공고번호/일자 (20120830) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.02.09)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 전북대학교산학협력단 대한민국 전라북도 전주시 덕진구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍창희 대한민국 서울특별시 영등포구
2 김형구 대한민국 전라북도 전주시 덕진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 염홍서 대한민국 경기도 성남시 분당구 판교로 ***(야탑동, 탑마을경남아너스빌) 경남상가 B*-***(서준국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 전북대학교산학협력단 전라북도 전주시 덕진구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.02.09 수리 (Accepted) 1-1-2010-0088227-24
2 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2010.11.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0725903-01
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.12.28 수리 (Accepted) 4-1-2010-5245806-20
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.06.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0303865-58
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.08.01 수리 (Accepted) 1-1-2011-0592924-18
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.09.01 수리 (Accepted) 1-1-2011-0682613-57
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.09.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0682614-03
8 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2012.02.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0098216-27
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.03.06 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2012-0182743-24
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.03.06 수리 (Accepted) 1-1-2012-0182742-89
11 등록결정서
Decision to grant
2012.07.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0434528-50
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.10.04 수리 (Accepted) 4-1-2012-5206243-46
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2016-5013206-34
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.02.27 수리 (Accepted) 4-1-2019-5038917-11
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146986-17
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5146985-61
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.22 수리 (Accepted) 4-1-2019-5219602-91
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.06 수리 (Accepted) 4-1-2020-5149086-79
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번호 청구항
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기판;상기 기판 표면에 형성된 식각골;상기 기판상에 형성된 박막층; 및상기 박막층 내에 형성되며 상기 식각골과 마주보는 에어바, 상기 에어바를 따라 서로 간격을 두고 형성된 에어갭과 에어아일랜드를 포함하는 발광소자
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기판을 준비하는 단계;상기 기판 상에 마스크패턴을 위한 박막을 형성하는 단계;상기 박막을 식각하여 마스크패턴을 형성하는 단계; 상기 기판을 식각하여 식각골을 형성하는 단계;상기 마스크 패턴을 제거하는 단계:상기 기판 상에 박막층을 형성하는 단계; 및상기 식각골로 스며드는 식각액에 의해 상기 박막층에 에어바가 형성되는 단계를 포함하는 발광소자의 제조방법
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기판을 준비하는 단계;상기 기판 상에 마스크용 박막을 형성하는 단계;상기 박막을 식각하여 마스크를 형성하는 단계; 상기 기판을 식각하여 식각골을 형성하는 단계;상기 식각골이 형성된 기판 상에, 상기 식각골을 따라 닷 패턴을 형성하는 단계;상기 기판 상에 박막층을 형성하는 단계; 및상기 식각골로 스며드는 식각액에 의해 상기 박막층에 에어바가 형성되며, 닷 패턴이 제거되어 에어갭과 에어아일랜드가 형성되는 단계를 포함하는 발광소자의 제조방법
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기판을 준비하는 단계;상기 기판 상에 마스크용 박막을 형성하는 단계;상기 마스크용 박막을 식각하여 에어바, 상기 에어바를 따라 형성되며 산란센터가 되는 에어갭, 상기 에어바가 하나 이상 연결되며 식각액 주입구가 되는 에어아일랜드를 만들기 위한 마스크패턴을 형성하는 단계; 상기 기판을 식각하여 상기 마스크패턴 사이로 식각골을 형성하는 단계;상기 마스크패턴을 제거하는 단계;상기 기판 상에 박막층을 형성하는 단계; 및상기 식각골로 스며드는 식각액에 의해 상기 박막층이 식각되어 에어바가 형성되는 단계를 포함하는 발광소자의 제조방법
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제12항에 있어서,상기 닷 패턴의 종류가 두 개 이상인 것을 특징으로 하는 발광소자의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.