| 요약 |
본 발명은 전자의 면 방출이 가능한 탄도전자 방출소자를 이용한 리소그래피 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 탄도전자 방출소자를 이용한 리소그래피 장치는 내부가 진공상태로 이루어지며, 전자가 투과가 가능하도록 어느 일 면에 투과창이 구비되는 본체와 상기 본체의 내부에 장착되고, 면 영역으로 전자의 방출이 가능하며, 터널링 효과로 방출되는 전자의 직진성이 확보되도록 구성되는 탄도전자 방출소자와 상기 탄도전자 방출소자로부터 전자의 방출을 위해 탄도전자 방출소자에 전위차를 형성시키도록, 직류의 전류를 공급하는 전원, 전원을 개폐시키는 스위치 및 탄도전자 방출소자의 상부전극과 본체를 접지시켜 방출되지 않은 일부 전자가 탄도전자 방출소자와 본체에 충전되는 것을 방지하는 접지부를 포함하는 전원공급부와 상기 탄도전자 방출소자, 상기 투과창 또는 상기 투과창과 전자가 조사되는 레지스트 사이에, 전자가 투과되지 못하는 물질로 이루어지는 박막 또는 박판 형태로 제공되되, 상기 레지스트에 형성시키고자 하는 패턴으로 형성되는 마스크를 포함하여, 상기 탄도전자 방출소자에서 방출되는 전자를 상기 레지스트에 조사시켜 반응을 일으켜 요구되는 패턴이 형성되도록 구성될 수 있다. 상기와 같은 구성에 의해 본 발명은 리소그래피 공정을 위한 전자조사가 대면적으로 이루어질 수 있고, 낮은 전력으로도 전자의 방출이 이루어질 수 있으며, 패터닝을 위한 전자의 이동경로를 보정 또는 패터닝을 위한 스캐닝 과정이 요구되지 않아 장치의 구조를 단순화 할 수 있으며, 리소그래피 공정에 요구되는 시간을 단축시킬 수 있다. 리소그래피, 탄도전자, 반도체, 마스크, 레지스트, 터널링
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