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하기 화학식 1의 구조를 갖는 주석 중심 덴드리머 화합물:[화학식 1]상기 식에서, R1은 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 알케닐기 또는 알콕시기; 탄소수 1 내지 20의 아실기; 탄소수 6 내지 30의 아릴기; 및 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클릭기로 이루어진 군으로부터 선택되며,R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소; 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 알케닐기 또는 알콕시기; 탄소수 1 내지 20의 아실기; 탄소수 6 내지 30의 아릴기; 및 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클릭기로 이루어진 군으로부터 선택되고,R2 및 R3 중 어느 하나 이상은 수소이고, R1, R2 및 R3 중 어느 하나 이상은 치환기를 포함하는 치환체 또는 비치환체로서, 상기 치환기는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 알콕시기, 알콕시카르보닐기 또는 디알킬아미노기; 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 디아릴아미노기, 헤테로시클릭기, 아릴옥시기 또는 아릴옥시카르보닐기; 나프틸기; 피리딜기; 탄소수 1 내지 20의 아실기, 아실옥시기 또는 아실아미노기; 시아노기; 카르복실기; 아미노카르보닐기; 카바모일기; 아라닐기; 비닐기; 스타이릴기; 하이드록실기; 아미노기; 니트로기; 할로겐; 탄소수 1 내지 6의 알킬머캅토; 머캅토 및 산소족 원소로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상이다
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제 1 항에 있어서,상기 화학식 1에서, R1은 벤질; 페닐; 바이페닐; 톨릴; 나프틸; 피리딜; 및 비닐로 이루어진 군으로부터 선택되며, R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소; 벤질; 페닐; 바이페닐; 톨릴; 나프틸; 피리딜; 및 비닐로 이루어진 군으로부터 선택되고,R2 및 R3 중 어느 하나 이상은 수소이고,R1, R2 및 R3 중 어느 하나 이상은 치환기를 포함하는 치환체 또는 비치환체로서, 상기 치환기는 머캅토; 탄소수 1 내지 6의 알킬머캅토; 할로겐; 및 산소족원소로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상인 주석 중심 덴드리머 화합물
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제 1 항에 있어서,하기 화학식 2의 구조를 갖는 주석 중심 덴드리머 화합물:[화학식 2]화학식 2에서, R4는 탄소수 1 내지 5의 알킬, 벤질, 페닐, 톨릴, 나프탈렌 및 바이페닐로 이루어진 군으로부터 선택되며,R5는 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬, 벤질, 페닐, 톨릴, 나프탈렌 및 바이페닐로 이루어진 군으로부터 선택되며,R4 및 R5 중 어느 하나 이상은 치환기를 포함하는 치환체 또는 비체환체이고, 상기 치환기는 탄소수 1 내지 5의 알킬 또는 알킬머캅토; 할로겐; 벤질; 페닐; 및 바이페닐로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상이다
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4 |
4
제 3 항에 있어서,상기 화학식 2에서, R4 및 R5는 각각 독립적으로 , , , , 및 로 이루어진 군으로부터 선택되는 주석 중심 덴드리머 화합물
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제 1 항에 있어서,주석 중심 덴드리머 화합물은,테트라키스[4-(1,2-디-p-톨릴비닐)페닐]틴;테트라키스[4-[1-p-톨릴-2-(4-바이페닐)비닐]페닐]틴;테트라키스[4-[1-(4-브로모페닐)-2-(p-톨릴)비닐]페닐]틴;테트라키스[4-[1-(4-브로모페닐)-2-(1-나프틸)비닐]페닐]틴;테트라키스[4-[1-(4-브로모페닐)-2-(4-바이페닐)비닐]페닐]틴;테트라키스[4-[1-(p-메틸머캅토페닐)-2-(p-톨릴)-비닐]페닐]틴;테트라키스[4-[1-(p-메틸머캅토페닐)-2-(1-나프틸)비닐]페닐]틴;테트라키스[4-[1-(p-메틸머캅토페닐)-2-(4-바이페닐)비닐]페닐]틴;테트라키스[4-[2-(2-나프틸)-2-(p-톨릴)비닐]페닐]틴;테트라키스[4-[1-(2-나프틸)-2-(1-나프틸)비닐]페닐]틴;테트라키스[4-[1-(2-나프틸)-2-(4-바이페닐)비닐]페닐]틴;테트라키스[4-[1-(4-바이페닐)-2-(p-톨릴)비닐]페닐]틴;테트라키스[4-[1-(4-바이페닐)-2-(1-나프틸)비닐]페닐]틴; 및테트라키스[4-[1,2-디-(4-바이페닐)비닐]페닐]틴으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상인 주석 중심 덴드리머 화합물
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제1 전극, 발광층을 포함하는 1 층 이상으로 이루어진 유기층 및 제2 전극이 적층된 구조이며, 상기 유기층을 구성하는 하나의 층 이상은 하기 화학식 1로 표시되는 주석 중심 덴드리머 화합물을 포함하는 유기 전계 발광소자: [화학식 1]상기 식에서, R1은 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 알케닐기 또는 알콕시기; 탄소수 1 내지 20의 아실기; 탄소수 6 내지 30의 아릴기; 및 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클릭기로 이루어진 군으로부터 선택되며,R2 및 R3는 각각 독립적으로 수소; 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 알케닐기 또는 알콕시기; 탄소수 1 내지 20의 아실기; 탄소수 6 내지 30의 아릴기; 및 탄소수 3 내지 30의 헤테로시클릭기로 이루어진 군으로부터 선택되고,R2 및 R3 중 어느 하나 이상은 수소이고, R1, R2 및 R3 중 어느 하나 이상은 치환기를 포함하는 치환체 또는 비치환체로서, 상기 치환기는 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 알콕시기, 알콕시카르보닐기 또는 디알킬아미노기; 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 디아릴아미노기, 헤테로시클릭기, 아릴옥시기 또는 아릴옥시카르보닐기; 나프틸기; 피리딜기; 탄소수 1 내지 20의 아실기, 아실옥시기 또는 아실아미노기; 시아노기; 카르복실기; 아미노카르보닐기; 카바모일기; 아라닐기; 비닐기; 스타이릴기; 하이드록실기; 아미노기; 니트로기; 할로겐; 탄소수 1 내지 6의 알킬머캅토; 머캅토 및 산소족 원소로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상이다
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제 6 항에 있어서,발광층은 호스트 및 도펀트 물질을 포함하며, 상기 호스트 물질은 상기 화학식 1로 표시되는 주석 중심 덴드리머 화합물인 유기 전계 발광소자
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제 6 항에 있어서,상기 발광층은 호스트 및 도펀트 물질을 포함하며, 상기 호스트 물질은 상기 화학식 1로 표시되는 주석 중심 덴드리머 화합물이고, 상기 도펀트 물질은 인광성 화합물 또는 형광성 화합물인 유기 전계 발광소자
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제 6 항에 있어서,상기 발광층은 호스트 및 도펀트 물질을 포함하며, 상기 도펀트 물질은 상기 화학식 1로 표시되는 주석 중심 덴드리머 화합물인 유기 전계 발광소자
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10
제 6 항에 있어서,상기 유기층은 정공수송층을 포함하며, 상기 정공수송층은 상기 화학식 1로 표시되는 주석 중심 덴드리머 화합물을 포함하는 유기 전계 발광소자
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제 6 항에 있어서,상기 유기층은 정공저지층을 포함하며, 상기 정공저지층은 상기 화학식 1로 표시되는 주석 중심 덴드리머 화합물을 포함하는 유기 전계 발광소자
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제 6 항에 있어서,상기 유기층은 전자수송층을 포함하며, 상기 전자수송층은 상기 화학식 1로 표시되는 주석 중심 덴드리머 화합물을 포함하는 유기 전계 발광소자
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제 6 항에 있어서,상기 유기 전계 발광소자는 디스플레이 또는 조명용 소자인 유기 전계 발광소자
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