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광학적 방법을 이용한 주사탐침 현미경으로서,시료 고정부 하부에 설치되는 자기장 발생기; 및시료 상부에 위치되는 코일이 형성된 캔틸레버 검출기를 포함하고,상기 캔틸레버의 말단부에는 자성물질이 코팅된 탐침이 형성되며,시료의 측정시 되먹임 회로를 사용하여 시료와 상기 캔틸레버 검출기의 탐침간의 거리를 일정하게 유지하면서 캔틸레버 검출기의 움직임에 따라 발생되는 에디 전류에 의한 자기장 변화를 측정하여 시료의 이미지를 고속 스캐닝하는 것을 특징으로 하는 에디 전류 측정법을 이용한 고속 주사탐침 현미경
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청구항 1에 있어서, 상기 주사탐침 현미경이 접촉식 또는 비접촉식 현미경인 것을 특징으로 하는, 에디 전류 측정법을 이용한 고속 주사탐침 현미경
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청구항 1에 있어서,상기 코일이 형성된 캔틸레버 검출기는 절연체의 상면 및 하면에 금속층이 코팅되어 형성되며, 캔틸레버 지지대 및 코일이 형성된 캔틸레버로 구성되는 것을 특징으로 하는, 에디 전류 측정법을 이용한 고속 주사탐침 현미경
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청구항 3에 있어서,상기 금속층은 금, 은, 알루미늄 및 구리로 이루어진 군으로부터 선택된 금속을 절연체 상에 코팅하여 형성되는 것을 특징으로 하는, 에디 전류 측정법을 이용한 고속 주사탐침 현미경
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청구항 3에 있어서,상기 캔틸레버 검출기의 제조시 캔틸레버는 3 내지 5 ㎛ 두께의 절연체 및 상기 절연체의 상면 및 하면에 코팅되는 50 내지 300 nm 두께의 금속층으로 형성되는 것을 특징으로 하는, 에디 전류 측정법을 이용한 고속 주사탐침 현미경
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청구항 3에 있어서,상기 절연체는 실리콘 산화막 계열, 실리콘 질화막 및 도핑되지 않은 실리콘으로 이루어진 군으로부터 선택되는 물질로 형성된 것임을 특징으로 하는, 에디 전류 측정법을 이용한 고속 주사탐침 현미경
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청구항 3에 있어서,상기 캔틸레버는 캔틸레버 상부에 2차원 코일 또는 적층형태의 코일이 형성되어 제조된 것임을 특징으로 하는, 에디 전류 측정법을 이용한 고속 주사탐침 현미경
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청구항 7에 있어서,상기 코일은 금, 은, 알루미늄 및 구리로 이루어진 군으로부터 선택되는 금속을 사용하여 형성된 코일인 것임을 특징으로 하는, 에디 전류 측정법을 이용한 고속 주사탐침 현미경
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청구항 1에 있어서,상기 자성물질이 코발트, 니켈 및 철로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 에디 전류 측정법을 이용한 고속 주사탐침 현미경
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청구항 1에 있어서,상기 자기장 발생기가 영구 자석 또는 전자석인 것을 특징으로 하는, 에디 전류 측정법을 이용한 고속 주사탐침 현미경
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청구항 1에 있어서,상기 자기장 발생기는 캔틸레버의 휨 정도에 따라 각도가 변화되는 것을 특징으로 하는 에디 전류 측정법을 이용한 고속 주사탐침 현미경
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청구항 1에 있어서,상기 고속 주사탐침 현미경을 사용한 시료의 이미지의 고속 스캐닝시 검출 신호의 잡음을 줄일 수 있는 락인 증폭기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 에디 전류 측정법을 이용한 고속 주사탐침 현미경
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청구항 13에 있어서,상기 락인 증폭기가 캔틸레버 검출기와 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는, 에디 전류 측정법을 이용한 고속 주사탐침 현미경
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