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히터 멤브레인층을 제작하기 위하여 제 1 기판에 멤브레인층을 형성하고, 상기 멤브레인층 상부에 제 1 고반사 필터층을 증착하고, 상기 제 1 고반사 필터층 상부에 히터 전극을 형성하는 제 1 단계;필터 스페이서층을 상기 제 1 고반사 필터층 상에 임프린팅 몰드(Imprinting mold) 공정으로 제작하는 제 2 단계;제 2 기판 상에 제 2 고반사 필터층을 형성하고, 상기 제 2 고반사 필터층 상에 웨이퍼 접합층을 형성하는 제 3 단계;상기 웨이퍼 접합층이 상기 제 1 고반사 필터층 상부에 위치되도록, 상기 제 1 기판 및 상기 제 2 기판을 접합하여 소자 제작을 완료하는 제 4 단계;를 포함하는 파장 가변 필터 제작방법
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청구항 1에 있어서,상기 제 1 기판 또는 상기 제 2 기판은 Si, 유리, Ge 또는 사파이어(Sappire) 재질 중 어느 하나로 형성되는 파장 가변 필터 제작방법
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청구항 1에 있어서,상기 제 2 단계에서 상기 임프린팅 몰드 공정은 UV(Ultraviolet) 임프린팅 몰드 공정 또는 Thermal 임프린팅 몰드 공정인 파장 가변 필터 제작방법
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청구항 1에 있어서,상기 제 2 단계는, 상기 필터 스페이서층으로 사용될 고분자 수지를 도포하는 (a)단계;상기 필터 스페이서층의 형상과 대응되도록 일부가 인입되어 형성되는 임프린팅 몰드를 제작하고, 상기 필터 스페이서층의 형상을 제작하기 위하여 상기 임프린팅 몰드를 정렬 위치하는 (b)단계;상기 임프린팅 몰드를 상기 제 1 기판과 압착하여 상기 필터 스페이서층의 형상을 형성하는 (c)단계;열 또는 UV를 인가하여 상기 고분자 수지를 굳히는 (d)단계;상기 임프린팅 몰드를 제거하여 상기 필터 스페이서층 제작을 완료하는 (e)단계;를 포함하는 파장 가변 필터 제작방법
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청구항 4에 있어서,상기 (a)단계에서 상기 고분자 수지는 투명 고분자 재료 또는 열광학 고분자 재료인 파장 가변 필터 제작방법
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청구항 4에 있어서,상기 (b)단계에서 상기 임프린팅 몰드는 PDMS(Polydimethylsiloxane) 또는 금속재질인 파장 가변 필터 제작방법
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청구항 1에 있어서,상기 제 1 고반사 필터층과 상기 제 2 고반사 필터층은 E-beam 증착 공정으로 형성되는 파장 가변 필터 제작방법
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청구항 1에 있어서,상기 제 3 단계에서 상기 웨이퍼 접합층은 포토리소그래피 공정 또는 임프린팅 몰드 공정으로 형성되는 파장 가변 필터 제작방법
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