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무기배향막 균일 증착 방법 및 이를 이용한 액정표시 장치

  • 기술번호 : KST2014038950
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 무기배향막 증착 방법 및 이를 이용한 액정표시장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 무기배향막 균일 증착방법은 (a) 스테이지의 척의 상부에 기판을 준비하는 단계; (b) 무기배향막 형성 물질인 타겟을 제1 및 제2 스퍼터링 건의 전면에 준비하는 단계; (c) 상기 기판의 표면에 대해 제1 각도로 기울어져 배치되되, 상기 기판으로부터 이격되게 배치된 제1 스퍼터링 건을 이용하여, 기판에 제1 무기배향막을 형성하는 제1 증착 단계; 및 (d) 상기 기판의 표면에 대해 제2 각도로 기울어져 배치되되, 상기 기판으로부터 이격되게 배치된 제2 스퍼터링 건을 이용하여, 기판의 제1 무기배향막 위에 제2 무기배향막을 형성하는 제2 증착 단계;를 포함하고, 상기 제1 및 제2 각도는 상기 척의 중심으로부터 연장된 축에 대해 대칭되도록 설정된다.본 발명에 따른 무기배향막 균일 증착 방법 및 이를 이용한 액정표시장치는 대칭인 두 개의 스퍼터링 건(Sputtering Gun)을 이용하여 단계별로 무기배향막을 증착함으로써, 액정표시장치의 무기배향막을 균일하게 증착할 수 있다.
Int. CL G02F 1/13 (2006.01) G02F 1/1337 (2006.01)
CPC G02F 1/133734(2013.01) G02F 1/133734(2013.01)
출원번호/일자 1020100102554 (2010.10.20)
출원인 재단법인대구경북과학기술원
등록번호/일자 10-1176160-0000 (2012.08.16)
공개번호/일자 10-2012-0041006 (2012.04.30) 문서열기
공고번호/일자 (20120822) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.10.20)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인대구경북과학기술원 대한민국 대구 달성군 현

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 양기정 대한민국 대구광역시 북구
2 이광준 대한민국 대구광역시 수성구
3 류홍근 대한민국 대구광역시 달서구
4 최병대 대한민국 대구광역시 수성구
5 김정호 대한민국 서울특별시 송파구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이지연 대한민국 서울특별시 관악구 남부순환로 ****, ***호 제니스국제특허법률사무소 (봉천동, 청동빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인대구경북과학기술원 대구 달성군 현
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.10.20 수리 (Accepted) 1-1-2010-0678355-98
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.01.13 수리 (Accepted) 4-1-2011-5007932-94
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2011.08.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2011.09.20 수리 (Accepted) 9-1-2011-0077471-99
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.01.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0045980-50
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.02.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0088385-09
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.02.02 수리 (Accepted) 1-1-2012-0088400-07
8 등록결정서
Decision to grant		 2012.05.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0293029-60
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.07.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5164108-16
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.07.31 수리 (Accepted) 4-1-2012-5164104-34
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.11.11 수리 (Accepted) 4-1-2013-5149764-85
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.12.18 수리 (Accepted) 4-1-2018-5260250-39
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.18 수리 (Accepted) 4-1-2020-5134633-04
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
무기배향막을 증착하는 방법에 있어서,(a) 스테이지의 척의 상부에 기판을 준비하는 단계;(b) 무기배향막 형성 물질인 타겟을 제1 및 제2 스퍼터링 건의 전면에 준비하는 단계;(c) 상기 기판의 표면에 대해 제1 각도로 기울어져 배치되되, 상기 기판으로부터 이격되게 배치된 제1 스퍼터링 건을 이용하여, 기판에 제1 무기배향막을 형성하는 제1 증착 단계; 및(d) 상기 기판의 표면에 대해 제2 각도로 기울어져 배치되되, 상기 기판으로부터 이격되게 배치된 제2 스퍼터링 건을 이용하여, 기판의 제1 무기배향막 위에 제2 무기배향막을 형성하는 제2 증착 단계;를 포함하고,상기 제1 및 제2 각도는 상기 척의 중심으로부터 연장된 축에 대해 대칭되도록 설정되는 것을 특징으로 하는 무기배향막 균일 증착 방법
2 2
제 1항에 있어서, 제1 증착 단계 및 제2 증착 단계는상기 기판으로부터 일정거리로 이격되게 배치되는 두께 센서를 이용하여 기판 위에 형성된 제1 및 제2 무기배향막의 증착 두께를 감지하고, 기판의 전체 표면의 각 지점에 형성된 제1 및 제2 무기배향막의 두께의 합이 균일하도록 제1 및 제2 스퍼터링 건의 구동을 제어하여 제1 및 제2 무기배향막의 두께를 조절하는 것을 특징으로 하는 무기배향막 균일 증착 방법
3 3
제 1항에 있어서, 상기 스테이지는높낮이를 조절하여 상기 제1 및 제2 스퍼터링 건과 기판 사이의 이격 거리를 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는 무기배향막 균일 증착방법
4 4
무기배향막을 증착하는 방법에 있어서,(a) 스테이지의 척의 상부에 기판을 준비하는 단계;(b) 무기배향막 형성 물질인 타겟을 스퍼터링 건의 전면에 준비하는 단계;(c) 상기 기판의 표면에 대해 사전에 설정된 각도로 기울어져 배치되되, 상기 기판으로부터 이격되게 배치된 스퍼터링 건을 이용하여 기판에 제1 무기배향막을 형성하는 제1 증착 단계;(d) 스테이지의 중심을 축으로하여 상기 기판이 안착된 스테이지를 수평하게 180도 회전시키는 단계; 및(e) 상기 스퍼터링 건을 이용하여 기판의 제1 무기배향막 위에 제2 무기배향막을 형성하는 제2 증착 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 무기배향막 균일 증착 방법
5 5
제 4항에 있어서, 제1 증착 단계 및 제2 증착 단계는상기 기판으로부터 일정거리로 이격되게 배치되는 두께 센서를 이용하여 기판 위에 형성된 제1 및 제2 무기배향막의 증착 두께를 감지하고, 기판의 전체 표면의 각 지점에 형성된 제1 및 제2 무기배향막의 두께의 합이 균일하도록 스퍼터링 건의 구동을 제어하여 제1 및 제2 무기배향막의 두께를 조절하는 것을 특징으로 하는 무기배향막 균일 증착 방법
6 6
제 4항에 있어서, 상기 스테이지는높낮이를 조절하여 상기 스퍼터링 건과 기판 사이의 이격 거리를 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는 무기배향막 균일 증착 방법
7 7
스테이지의 장축을 따라 일방향으로 이동하는 기판의 표면에 무기배향막을 증착하는 방법에 있어서,(a) 스테이지의 척의 상부에 기판을 준비하는 단계;(b) 무기배항막 형성 물질인 타겟을 제1 및 제2 스퍼터링 건의 전면에 준비하는 단계;(c) 상기 스테이지의 척의 장축에 대해 제1 각도로 기울어져 배치되되, 상기 스테이지의 제1 측면에 배치된 제1 스퍼터링 건을 이용하여, 상기 스테이지의 장축을 따라 일방향으로 이동하는 기판에 제1 무기배향막을 형성하는 제1 증착단계; 및(d) 상기 스테이지의 척의 장축에 대해 제2 각도로 기울어져 배치되되, 상기 스테이지의 제1 측면과 마주보는 제2 측면에 배치된 제2 스퍼터링 건을 이용하여, 상기 스테이지의 장축을 따라 일방향으로 이동하는 기판의 제1 무기배향막 위에 제2 무기배향막을 형성하는 제2 증착단계;를 포함하고,상기 제1 및 제2 각도는 같고, 상기 제1 스퍼터링 건과 제2 스퍼터링 건은 사전에 설정된 간격만큼 이격되게 배치된 것을 특징으로 하는 무기배향막 균일 증착 방법
8 8
제 7항에 있어서, 제1 증착 단계 및 제2 증착 단계는상기 기판으로부터 일정거리로 이격되게 배치되는 두께 센서를 이용하여 기판 위에 형성된 무기배향막의 증착 두께를 감지하고, 기판의 전체 표면의 각 지점에 형성된 제1 및 제2 무기배향막의 두께의 합이 균일하도록 스퍼터링 건의 구동을 제어하여 무기배향막의 두께를 조절하는 것을 특징으로 하는 무기배향막 균일 증착 방법
9 9
제 1항, 제 4항 및 제 7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 타겟은SiO, SiO2 및 VxOy 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 무기배향막 균일 증착 방법
10 10
컬러 필터(Color Filter) 기판;TFT(Thin-Film Transistor) 기판;상기 컬러필터 기판 및 TFT 기판 각각의 표면 중 패턴이 구비된 표면의 전면에 형성되며, 제1 무기배향막 및 상기 제1 무기배향막 위에 형성되는 제2 무기배향막으로 구성되는 배향막; 및상기 컬러필터 기판과 TFT 기판 사이에 개재된 액정층;을 포함하며,상기 제1 무기배향막은 일방향을 따라 점점 얇아지는 두께 프로파일로 형성되고, 상기 제2 무기배향막은 상기 일방향을 따라 점점 두꺼워지는 두께 프로파일로 형성되어, 상기 배향막은 전체적으로 균일한 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 액정표시장치
11 11
제 10항에 있어서, 상기 제1 무기배향막은 상기 기판의 표면에 대해 제1 각도로 기울어져 배치되되, 상기 기판으로부터 이격되게 배치된 제1 스퍼터링 건을 이용하여 형성되고,상기 제2 무기배향막은 상기 기판의 표면에 대해 제2 각도로 기울어져 배치되되, 상기 기판으로부터 이격되게 배치된 제2 스퍼터링 건을 이용하여 상기 제1 무기배향막 위에 형성되며,상기 제1 및 제2 각도는 상기 기판의 중심으로부터 연장된 축에 대해 대칭되도록 설정함으로써, 상기 배향막이 균일한 두께 특성을 나타내도록 하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치
12 12
제 10항에 있어서, 상기 제1 무기배향막은 상기 기판의 표면에 대해 사전에 설정된 각도로 기울어져 배치되되, 상기 기판으로부터 이격되게 배치된 스퍼터링 건을 이용하여 형성되고,상기 제2 무기배향막은 스테이지의 중심을 축으로 하여 상기 기판이 안착된 스테이지를 수평하게 180도 회전시킨 다음, 상기 스퍼터링 건을 이용하여 제1 무기배향막 위에 형성됨으로써, 상기 배향막이 균일한 두께 특성을 나타내는 것을 특징으로 하는 액정표시장치
13 13
제 10항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 TFT 기판은유리(Glass)를 베이스 기판으로 하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치
14 14
제 10항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 TFT 기판은실리콘(silicon)을 베이스 기판으로 하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치
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1 지식경제부 광주과학기술원 정보통신 산업 원천 기술 개발 사업 (IT 원천 기술 개발 사업) 실감 휴대단말용 프로젝션 입출력 광플랫폼 개발