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고분자 조성물을 이용한 전기 열 전도성 박막 후처리 공정에 따른 조성물에 있어서, 기판; 상기 기판 상에 형성된 탄소나노튜브를 포함하는 전도성 박막; 및 상기 전도성 박막 상에 양이온성 고분자전해질(polyelectrolyte) 및 음이온성 고분자전해질의 조합을 가지는 후처리 공정 용액을 이용하여 용액 공정 방법으로 형성한 고분자 박막;을 포함하며,상기 기판에 피라나(Piranha) 용액 처리, 산 처리, 염기 처리, 플라즈마 처리, 상압 플라즈마 처리, 오존 처리, UV 처리, SAM(self assembled monolayer) 처리, 및 고분자 또는 단분자 코팅 방법 중 적어도 하나의 방법을 이용하여 표면 처리를 수행하고,상기 양이온성 고분자전해질은 polyaniline이고, 상기 음이온성 고분자전해질은 polyarmic acid이고, 상기 고분자 박막에 대해, 상기 용액 공정을 수행한 후, 400℃ 이하의 열처리를 수행하거나, 상기 용액 공정 수행 중 또는 용액 공정 수행 후 후처리 공정 조성물의 경화제 또는 촉매 물질을 포함한 화학 물질 처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 고분자 조성물을 이용한 전기 열 전도성 박막 후처리 공정에 따른 조성물
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제1항에 있어서, 상기 고분자 박막은 0
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제1항에 있어서, 상기 후처리 공정 용액에서 상기 양이온성 고분자전해질 및 상기 음이온성 고분자전해질 각각의 무게 농도는 0
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제1항에 있어서, 상기 용액 공정은, 딥(dip) 코팅, 스프레이(spray) 코팅, 스핀(spin) 코팅, 솔루션 캐스팅(solution casting), 도롭핑(dropping), 롤(roll) 코팅, 그라비아 코팅, 바코팅(bar coating) 중 어느 하나의 방법으로 수행하는 것을 특징으로 하는 고분자 조성물을 이용한 전기, 열 전도성 박막 후처리 공정에 따른 조성물
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제1항에 있어서, 상기 용액 공정은, 적어도 1 종류의 양이온성 고분자전해질(polyelectrolyte)을 포함하는 후처리 공정 용액을 이용한 용액 공정과, 적어도 1 종류의 음이온성 고분자전해질을 포함하는 후처리 용액을 이용한 용액 공정을 순서에 무관하게 순차로 각각 수행하는 것을 특징으로 하는 고분자 조성물을 이용하여 형성한 전기, 열 전도성 박막 후처리 공정에 따른 조성물
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제7항에 있어서, 상기 각각 수행하는 용액 공정 후, 물 또는 용매를 이용한 세척을 수행하는 것을 특징으로 하는 고분자 조성물을 이용한 전기, 열 전도성 박막 후처리 공정에 따른 조성물
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제1항에 있어서, 상기 용액 공정은 반복해서 수행하는 것을 특징으로 하는 고분자 조성물을 이용한 전기, 열 전도성 박막 후처리 공정에 따른 조성물
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제 1항에 있어서, 상기 기판은, 유리, 석영(quartz), 글라스 웨이퍼, 실리콘 웨이퍼, 투명 및 불투명 플라스틱 기판, 투명 및 불투명 고분자 필름 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 고분자 조성물을 이용한 전기, 열 전도성 박막 후처리 공정에 따른 조성물
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제 1항에 있어서, 상기 전도성 박막은, 단일벽 탄소나노튜브, 기능화된 단일벽 탄소나노튜브, 이중벽 탄소나노튜브, 기능화된 이중벽 탄소나노튜브, 다중벽 탄소나노튜브, 기능화된 다중벽 탄소나노튜브 중 적어도 하나가 사용되는 것을 특징으로 하는 고분자 조성물을 이용한 전기, 열 전도성 박막 후처리 공정에 따른 조성물
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고분자 조성물을 이용한 전기, 열 전도성 박막 후처리 공정 방법에 있어서, 기판을 준비하는 과정과, 상기 기판 상에 탄소노튜브를 포함하는 전도성 박막을 형성하는 과정과, 상기 전도성 박막 상에 양이온성 고분자전해질(polyelectrolyte) 및 음이온성 고분자전해질의 후처리 공정 용액을 이용하여 용액 공정 방법으로 양이온성 고분자전해질 및 음이온성 고분자전해질의 조합을 가지는 고분자 박막을 형성하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하며,상기 기판을 준비하는 과정은,상기 기판에 피라나(Piranha) 용액 처리, 산 처리, 염기 처리, 플라즈마 처리, 상압 플라즈마처리, 오존 처리, UV 처리, SAM(self assembled monolayer) 처리, 및 고분자 또는 단분자 코팅 방법 중 적어도 하나의 방법을 이용하여 표면 처리를 수행하는 과정을 포함하고,상기 고분자 박막을 형성하는 과정에서,상기 양이온성 고분자전해질은 polyaniline이고, 상기 음이온성 고분자전해질은 polyarmic acid이고, 상기 고분자 박막에 대해, 상기 용액 공정을 수행한 후, 400℃ 이하의 열처리를 수행하거나, 상기 용액 공정 수행 중 또는 용액 공정 수행 후 후처리 공정 조성물의 경화제 또는 촉매 물질을 포함한 화학 물질 처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 고분자 조성물을 이용한 전기 열 전도성 박막 후처리 공정 방법
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제14항에 있어서, 상기 전도성 박막을 형성하는 과정 및 상기 고분자 박막을 형성하는 과정을 반복하여 수행하는 것을 특징으로 하는 고분자 조성물을 이용한 전기 열 전도성 박막 후처리 공정 방법
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