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루프 타입으로서 빔의 이동 경로를 형성하는 광섬유를 구비한 공진기;상기 광섬유의 상기 이동 경로에 장착되는 광 커플러의 일측 포트에 마련되어 상기 광 커플러를 통해 상기 공진기로 빔을 입사하며, 다수의 종모드를 구비한 레이저 다이오드;상기 광섬유의 상기 이동 경로에 장착되며, 상기 광 커플러를 통과한 상기 레이저 다이오드로부터의 빔을 일정한 파장 영역으로 가변함으로써 필터링하는 파장 가변 광 필터;를 포함하는 파장 가변 레이저 시스템
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제1항에 있어서,상기 광섬유의 상기 이동 경로에 장착되어 상기 빔을 증폭하거나 발진하는 광 증폭기;상기 광섬유 의 상기 이동 경로에 장착되어 상기 파장 가변 광 필터를 통과한 상기 빔의 일부를 출력시키는 출력용 광 커플러; 및상기 광섬유의 상기 이동 경로에 장착되어 상기 빔이 단일 방향으로 진행되도록 하는 적어도 하나의 광 아이솔레이터를 더 포함하는 파장 가변 레이저 시스템
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제1항에 있어서,상기 레이저 다이오드는 패브리-페로 레이저 다이오드(Fabry-Perot laser diode)인 파장 가변 레이저 시스템
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제1항에 있어서,상기 레이저 다이오드는 양면이 모두 고반사(high-reflection) 물질로 코팅 처리되거나 양면 중 출력을 위한 일면이 반사방지(anti-reflection) 물질로 코팅 처리되는 파장 가변 레이저 시스템
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제1항에 있어서,상기 파장 가변 광 필터는 광섬유 패브리-페로 타입으로서 내부의 공극 간격을 조절함으로써 파장을 연속적으로 가변하는 파장 가변 레이저 시스템
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제1항에 있어서,상기 광 커플러는 상기 패브리-페로 레이저 다이오드로부터 제공되는 상기 빔의 출력이 순차적으로 진행되는 광 서큘레이터인 파장 가변 레이저 시스템
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제2항에 있어서,상기 광 증폭기는 반도체 광 증폭기(SOA), 희토류계 원소가 함유된 광섬유 증폭 및 라만(Raman) 증폭기 중 어느 하나인 파장 가변 레이저 시스템
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제2항에 있어서,상기 광 증폭기의 이득 대역은 상기 레이저 다이오드의 파장 대역에 실질적으로 대응하는 파장 가변 레이저 시스템
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제2항에 있어서,상기 광 커플러 및 상기 광 아이솔레이터는 상기 레이저 다이오드의 파장 대역에 실질적으로 대응하는 파장 가변 레이저 시스템
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제2항에 있어서,상기 출력용 광 커플러는 미리 설정된 비율로 상기 빔의 일부를 출력시키며, 입력 포트 대 출력 포트가 1 대 2(1:2) 또는 2 대 2(2:2)로 마련되는 파장 가변 레이저 시스템
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제1항에 있어서,상기 광섬유의 상기 이동 경로에 장착되어 상기 파장 가변 광 필터에서 상기 빔의 파장 가변을 고속으로 발생시키는 광섬유 지연기를 더 포함하는 파장 가변 레이저 시스템
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제11항에 있어서,상기 광섬유 지연기는, 상기 공진기로 마련되는 일반 광섬유와, 상기 공진기의 분산을 조정하는 분산 광섬유를 구비하는 파장 가변 레이저 시스템
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제11항에 있어서,상기 광섬유 지연기는 상기 공진기의 순회 시간이 상기 파장 가변 광 필터의 가변 주기의 배수가 되도록 마련되는 가변 레이저 시스템
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광섬유;상기 광섬유의 일단에 장착되며, 광원으로서 다수의 종모드를 발생시키는 패브리-페로 레이저 다이오드(Fabry-Perot laser diode); 및 상기 광섬유에 장착되며, 상기 패브리-페로 레이저 다이오드로부터 상기 광섬유를 거쳐 유입된 상기 빔을 일정한 파장 영역으로 가변함으로써 파장 가변 광 필터;를 포함하며,상기 패브리-페로 레이저 다이오드에서 발진되어 출력되는 다수의 종모드와 상기 파장 가변 광 필터의 윈도우가 매칭되어 하나의 종모드가 출력되는 파장 가변 레이저 시스템
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제14항에 있어서,상기 파장 가변 광 필터는 압전 물질을 구비하며,상기 압전 물질에 인가되는 전압을 변화시켜 상기 파장 가변 광 필터에 구비되는 공극 간격을 변화시키면서, 간섭으로 선택된 상기 파장 가변 광 필터의 일정한 선폭을 가진 윈도우가 파장 영역에서 이동하며 필터링을 실행하는 파장 가변 레이저 시스템
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