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폐기물을 가스화 및 용융시켜 1차 합성가스로 변환시키는 가스화기;상기 가스화기에 연결되어 상기 1차 합성가스를 진행시키는 제1 연결통로; 및상기 제1 연결통로에 설치되어, 상기 1차 합성가스에 산소 또는 수증기가 포함된 아크 플라즈마를 작용시켜, 상기 1차 합성가스에 포함된 타르 또는 부산물을 개질 또는 제거하여 2차 합성가스를 발생시키는 아크 플라즈마 반응기를 포함하며,상기 아크 플라즈마 반응기는,상기 제1 연결통로 안으로 산소 또는 수증기가 포함된 아크 플라즈마를 분사하도록 통로를 형성하며 절곡부에 설치되고 전기적으로 접지되며, 일측에서 방전가스를 공급하는 하우징, 및절연재를 개재하여 상기 하우징의 일단 내측에 설치되어 상기 하우징의 내면과 간극을 형성하고 전기적으로 고전압에 연결되어 상기 하우징과의 사이에서 방전을 일으켜 상기 방전가스로 아크 플라즈마를 발생시키는 전극을 포함하고,상기 하우징은,상기 전극의 반대측에서 상기 통로를 단계적으로 좁아지게 형성하며,냉각수를 순환시키는 제1 냉각수 라인에 연결되는 제1 냉각수 챔버를 상기 통로의 좁아진 외측에 구비하고,산소 또는 수증기가 포함된 아크 플라즈마 발생을 위하여 물을 공급하는 물 라인에 연결되고, 상기 아크 플라즈마의 진행 방향을 기준으로, 상기 제1 냉각수 챔버의 전방과 후방에 각각 구비되어, 아크 플라즈마를 향하여 물을 분사하는 제1 물 노즐과 제2 물 노즐을 형성하는 타르 또는 부산물 제거장치
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제1 항에 있어서,상기 제1 연결통로는 고온 단열재로 형성되고 상기 절곡부를 형성하며,상기 아크 플라즈마 반응기는,상기 1차 합성가스의 흐름 방향 또는 흐름의 역방향으로 아크 플라즈마를 분사하도록 상기 절곡부에 설치되는 타르 또는 부산물 제거장치
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제2 항에 있어서,상기 절곡부는 직각으로 형성되고,상기 아크 플라즈마 반응기는 상기 제1 연결통로의 일측을 향하여 아크 플라즈마를 분사하도록 상기 절곡부에 설치되는 타르 또는 부산물 제거장치
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제2 항에 있어서,상기 아크 플라즈마 반응기는,상기 절곡부의 외측에서 상기 제1 연결통로의 일측을 향하여 설치되는 제1 아크 플라즈마 반응기와상기 제1 아크 플라즈마 반응기가 향하는 방향과 교차하는 방향을 향하도록 상기 절곡부의 다른 외측에서 상기 제1 연결통로의 다른 일측을 향하여 설치되는 제2 아크 플라즈마 반응기를 포함하는 타르 또는 부산물 제거장치
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제1 항에 있어서,상기 아크 플라즈마 반응기는,상기 제1 연결통로에 원주 방향을 따라 등간격의 복수로 배치되고, 상기 아크 플라즈마의 분사 방향을 상기 제1 연결통로 내표면의 접선 방향으로 향하게 하는 타르 또는 부산물 제거장치
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제1 항에 있어서,상기 2차 합성가스에 저온 플라즈마를 작용시켜 3차 합성가스를 발생시키도록, 상기 아크 플라즈마 반응기를 경유한 상기 제1 연결통로에 구비되는 저온 플라즈마 반응기를 더 포함하는 타르 또는 부산물 제거장치
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제6 항에 있어서,상기 저온 플라즈마 반응기는,상기 2차 합성가스에 연결되는 슬릿형 분사구를 하나 이상 형성하는 유전체,상기 유전체에 매립되어 각 분사구 양측에 대향 배치되어 전압을 인가하는 제1 전극과 접지되는 제2 전극, 및상기 유전체와 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극을 수용하는 하우징을 포함하는 타르 또는 부산물 제거장치
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제6 항에 있어서,상기 3차 합성가스에 촉매반응을 통해 타르 또는 부산물의 개질 및 제거를 유도하여 4차 합성가스를 발생시키도록 상기 저온 플라즈마 반응기를 경유한 제2 연결통로에 구비되는 촉매를 더 포함하는 타르 또는 부산물 제거장치
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제1 항에 있어서,상기 2차 합성가스에 촉매반응을 통해 타르 또는 부산물의 개질 및 제거를 유도하여 3차 합성가스를 발생시키도록 상기 제1 연결통로에 구비되는 촉매를 더 포함하는 타르 또는 부산물 제거장치
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제1 항에 있어서,상기 하우징은,방전가스 공급 라인에 연결되어 상기 방전가스를 공급하는 방전가스 공급구를 구비하고,상기 전극은,상기 방전가스 공급구에 대응하는 부분에서 상기 간극을 크게 형성하고, 상기 아크 플라즈마의 진행 방향으로 가면서, 상기 간극을 점점 작아지게 형성한 후, 다시 점점 커지게 형성하는 타르 또는 부산물 제거장치
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제11 항에 있어서,상기 제1 물 노즐 및 상기 제2 물 노즐은,상기 방전가스 진행 방향에 대하여 예각으로 경사지게 형성되는 타르 또는 부산물 제거장치
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제11 항에 있어서,상기 하우징은,산소 또는 수증기가 포함된 아크 플라즈마 발생을 위하여 물을 공급하는 물 라인에 연결되고, 아크 플라즈마를 향하여 물을 분사하는 하나 또는 복수의 물 노즐을 형성하는 타르 또는 부산물 제거장치
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제1 항에 있어서,상기 전극은,냉각수를 순환시키는 제2 냉각수 라인에 연결되는 제2 냉각수 챔버를 중심에 형성하는 타르 또는 부산물 제거장치
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제16 항에 있어서,상기 제2 냉각수 챔버는, 상기 전극의 중심에 형성되고,상기 제2 냉각수 라인은, 상기 제2 냉각수 챔버의 최원방까지 삽입되어 냉각수를 공급하는 타르 또는 부산물 제거장치
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방전가스를 공급받아 발생되는 산소 또는 수증기가 포함된 아크 플라즈마를 분사하도록 통로를 형성하며, 전기적으로 접지되는 하우징, 및절연재를 개재하여 상기 하우징의 일단 내측에 설치되어 상기 하우징의 내면과 간극을 형성하고 전기적으로 고전압에 연결되어 상기 하우징과의 사이에서 방전을 일으켜 상기 방전가스로 아크 플라즈마를 발생시키는 전극을 포함하며,상기 하우징은,상기 전극의 반대측에서 상기 통로를 내면을 단계적으로 좁아지게 형성하며,냉각수를 순환시키는 제1 냉각수 라인에 연결되는 제1 냉각수 챔버를 상기통로의 좁아진 외측에 구비하고,산소 또는 수증기가 포함된 아크 플라즈마 발생을 위하여 물을 공급하는 물 라인에 연결되고, 상기 아크 플라즈마의 진행 방향을 기준으로, 상기 제1 냉각수 챔버의 전방과 후방에 각각 구비되어, 아크 플라즈마를 향하여 물을 분사하는 제1 물 노즐과 제2 물 노즐을 형성하는아크 플라즈마 반응기
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제22 항에 있어서,상기 하우징은,방전가스 공급 라인에 연결되어 상기 방전가스를 공급하는 방전가스 공급구를 구비하고,상기 전극은,상기 방전가스 공급구에 대응하는 부분에서 상기 간극을 크게 형성하고, 상기 아크 플라즈마의 진행 방향으로 가면서, 상기 간극을 점점 작아지게 형성한 후, 다시 점점 커지게 형성하는 아크 플라즈마 반응기
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제22 항에 있어서,상기 제1 물 노즐 및 상기 제2 물 노즐은,상기 방전가스 진행 방향에 대하여 예각으로 경사지게 형성되는 아크 플라즈마 반응기
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제22 항에 있어서,상기 전극은,냉각수를 순환시키는 제2 냉각수 라인에 연결되는 제2 냉각수 챔버를 중심에 형성하는 아크 플라즈마 반응기
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제27 항에 있어서,상기 제2 냉각수 챔버는, 상기 전극의 중심에 형성되고,상기 제2 냉각수 라인은, 상기 제2 냉각수 챔버의 최원방까지 삽입되어 냉각수를 공급하는 아크 플라즈마 반응기
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