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입사빛의 파장을 가변하여 가변된 파장의 빛을 출력하는 필터부를 형성하는 단계와,상기 입사빛을 상기 필터부에 공급하기 위한 광섬유(30-1)와 상기 필터부로부터 출력되는 출사빛을 출력하는 출사빛 광섬유(30-2)를 고정시킬 수 있는 쐐기형 골(V-groove)부와, 필터부(10)에 열을 가하는 가열부를 상기 필터부의 부착시키기 위한 부착부분을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하고,여기서, 상기 필터부를 형성하는 단계는,공진기를 형성하는 기판부(10-1)와 그 기판부로부터 소정의 층부(10-2, 10-3)가 형성될 실리콘 웨이퍼(1)에 감광막을 도포하는 단계와,상기 감광막이 도포된 실리콘 웨이퍼(1) 위에, 원하는 선폭의 패턴이 형성되도록 임프린팅을 함으로써 패터닝(50)을 수행하는 단계와,상기 패터닝을 수행하는 단계에 의하여 감광막이 제거된 감광막 부분에 식각을 수행하는 단계와,식각 후 남아 있는 감광막을 제거하는 단계와,상기 식각된 부분에 산화막을 성장시키는 단계를 포함하고;상기 감광막을 도포하는 단계는스핀 코팅에 의하여 감광막을 상기 웨이퍼에 도포하는 것을 특징으로 하는 열광학적 현상을 이용한 실리콘 파브리-페로 파장가변 필터의 제조방법
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제2 항에 있어서, 상기 패턴은상기 실리콘 웨이퍼에 형성할 모양의 본이 미리 형성된 스템프를 이용한 임프린트 장비에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 열광학적 현상을 이용한 실리콘 파브리-페로 파장가변 필터의 제조방법
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제2 항에 있어서, 상기 식각단계는상기 실리콘 딥 에처(deep etcher)에 의하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 열광학적 현상을 이용한 실리콘 파브리-페로 파장가변 필터의 제조방법
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제4항에서 있어서, 상기 산화막을 성장시키는 단계는상기 식각된 부분은 산화막으로 채워지고, 상기 층부의 일부분만 산화막이 성장되는 것을 특징으로 하는 열광학적 현상을 이용한 실리콘 파브리-페로 파장가변 필터의 제조방법
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제4 항에 있어서,상기 입사빛 광섬유(30-1)를 통해 입사되는 빛과 상기 필터부의 각도를 조절할 수 있는 액츄에이터를 더 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 열광학적 현상을 이용한 실리콘 파브리-페로 파장가변 필터의 제조방법
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입사빛의 파장을 가변하는 필터부(10)와,상기 필터부(10)의 둘레를 둘러싸여 부착되어 그 필터부(10)에 열을 가하는 가열기(20)와,상기 필터부(10)의 양쪽 면의 중심에 각각 부착된 입사빛 광섬유(30-1)와, 필터부(10)를 거쳐 출사된는 빛을 외부로 출력하는 출사빛 광섬유(30-2)를 포함하는 것을 특징으로 하고;여기서, 상기 필터부(10)는소정의 두께(D)를 가지고 공진기를 형성하는 기판부(10-1)와,기판부(10-1)를 중심으로 그 양쪽으로 소정의 거리만큼 떨어져서 형성된 층부(10-2, 10-3)와,상기 기판부(10-1)와 층부(10-2, 10-3) 사이에 형성된 공간에 채워지는 산화막층(10-4, 10-5)을 포함하고;상기 층부(10-2, 10-3)와 산화막층(10-4, 10-5)은 기판부(10-1)를 중심으로 그 양쪽으로 복수의 층이 형성되는 것을 특징으로 하는 열광학적 현상을 이용한 실리콘 파브리-페로 파장가변 필터
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제8 항에 있어서,상기 입사빛 광섬유(30-1)를 통해 입사되는 빛과 상기 필터부의 각도를 조절할 수 있는 액츄에이터가 더 부착되는 것을 특징으로 하는 열광학적 현상을 이용한 실리콘 파브리-페로 파장가변 필터
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