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방전가스를 공급하는 가스 공급부;
전압을 공급하는 전원 공급부; 및
상기 전압에 의하여 상기 방전가스로부터 플라즈마를 발생시켜서, 상기 전원 공급부와 별도로 배치되는 피처치체에 상기 플라즈마를 분사하여 처치하는 플라즈마 발생기를 포함하며,
상기 플라즈마 발생기는,
분리된 상판과 하판을 서로 조립하여 형성되는 바디,
상기 바디의 일측에 형성되고 상기 방전가스의 유동경로를 형성하며 상기 플라즈마를 분사하는 분사노즐;
상기 분사노즐의 유동경로 양측에서 서로 대향하여 이격 배치되는 제1 전극과 제2 전극; 및
상기 제1 전극과 상기 제2 전극을 각각 덮어 상기 방전가스로부터 상기 제1 전극과 상기 제2 전극을 격리시키며, 서로의 사이에 간격을 형성하는 제1 유전층과 제2 유전층을 포함하며,
상기 상판은 상기 제1 전극과 상기 제1 유전층을 내장하고,
상기 하판은 상기 제2 전극과 상기 제2 유전층을 내장하며,
상기 상판과 상기 하판을 조립시 설정되는 상기 제1 유전층과 상기 제2 유전층의 상기 간격은
1 내지 999㎛ 이고,
상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은,
상기 제1 유전층 및 상기 제2 유전층 각각의 외표면에
Au, Ag, Cr 또는 Ni로 화학증착, 도금, 및 E빔증착 중 하나에 의한 금속재 박막으로 형성되는
플라즈마를 이용하는 처치장치
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제3 항에 있어서,
상기 제1 전극과 제2 전극은,
상기 유동경로 방향의 길이보다 서로 이격된 간격을 더 짧게 형성하는
플라즈마를 이용하는 처치장치
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제4 항에 있어서,
상기 분사노즐은,
분사구의 형상을 슬릿으로 형성하는
플라즈마를 이용하는 처치장치
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제5 항에 있어서,
상기 분사구는,
상기 분사노즐 폭에 대한 직교 방향으로 이격되는 복수의 층으로 형성되는
플라즈마를 이용하는 처치장치
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제6 항에 있어서,
상기 제1 전극과 상기 제2 전극은,
상기 분사구 각각을 사이에 두고 양쪽에 교호적으로 배치되는
플라즈마를 이용하는 처치장치
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제4 항에 있어서,
상기 분사노즐은,
분사구의 형상을 원형으로 형성하는
플라즈마를 이용하는 처치장치
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제8 항에 있어서,
상기 분사구는,
상기 분사노즐 폭 방향으로 이격되는 복수로 형성되는
플라즈마를 이용하는 처치장치
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제4 항에 있어서,
상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 인가되는 전압은,
1Hz 내지 99kHz의 교류 전원인
플라즈마를 이용한 처치장치
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제4 항에 있어서,
상기 제1 유전층 및 상기 제2 유전층은,
Si, 유리, PDMS 중 하나로 형성되는
플라즈마를 이용하는 처치장치
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제15 항에 있어서,
상기 제1 유전층 및 상기 제2 유전층은,
식각 및 몰드 성형 중 하나로 형성되는
플라즈마를 이용하는 처치장치
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제4 항에 있어서,
상기 피처치체는,
생체 및 비생물체를 포함하는 플라즈마를 이용하는 처치장치
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제3 항에 있어서,
상기 방전가스는,
NO, O2, He 및 N2 중 적어도 하나를 포함하는 플라즈마를 이용하는 처치장치
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